JP5835724B2 - ジビニルエーテルホモポリマー、その製造方法およびその用途 - Google Patents
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- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 title claims description 50
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 49
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 title claims description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 40
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 17
- HIYIGPVBMDKPCR-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(ethenoxymethyl)cyclohexane Chemical group C=COCC1(COC=C)CCCCC1 HIYIGPVBMDKPCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 12
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 9
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 9
- JQEHKJKTNVNCKQ-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(ethenoxymethyl)cyclohexene Chemical group C=COCC1(COC=C)CCC=CC1 JQEHKJKTNVNCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000976 ink Substances 0.000 claims description 7
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 claims description 5
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 16
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 206010040880 Skin irritation Diseases 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 4
- 230000036556 skin irritation Effects 0.000 description 4
- 231100000475 skin irritation Toxicity 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- UPILKTWUJZEWAG-UHFFFAOYSA-N 4-(ethenoxymethyl)cyclohexene Chemical compound C=COCC1CCC=CC1 UPILKTWUJZEWAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- BIUZXWXXSCLGNK-UHFFFAOYSA-N ethenoxymethylcyclohexane Chemical compound C=COCC1CCCCC1 BIUZXWXXSCLGNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
重合開始剤およびルイス酸は、HCl/ZnCl2を用いた。シュレンク管に4,4−ビス[(エテニロキシ)メチル]シクロヘキセン溶液4.0mL、0.18%HCl溶液0.5mL、ZnCl2溶液0.5mLをこの順に注射器で注入し重合を開始した。塩化メチレン中,−30℃、モノマー濃度0.15mol/L、HCl濃度5.0mmol/L、ZnCl2濃度2.0mmol/Lで行った。重合は、25分で重合率98%に達し、重合系にアンモニア水を少量加えたメタノールを加えて停止した。
モノマーを1,1−ビス[(エテニロキシ)メチル]シクロヘキサンに変えた以外は、実施例1と同様の条件で、重合を行った。反応開始から20分で重合率100%に達した。実施例1と同様な後処理をしたポリマーの数平均分子量:Mnは3800で、分子量分布:Mw/Mnは1.65であった。ガラス転移温度Tgは、104℃であった。また、熱分解温度Tdは326℃であった。
実施例1の溶媒を塩化メチレンからトルエンに変え、さらに、モノマーとして1官能体である4−[(エテニロキシ)メチル]シクロヘキセンを用いた以外は、実施例1と同様の条件で重合を行った。反応開始から100分で重合率94%に達した。実施例1と同様な後処理をしたポリマーの数平均分子量:Mnは5720で、分子量分布:Mw/Mnは1.39であった。ガラス転移温度Tgは,21℃であった。また、熱分解温度Tdは298℃であった。
実施例2の溶媒を塩化メチレンからトルエンに変え、さらに、モノマーとして1官能体である[(エテニロキシ)メチル]シクロヘキサンを用いた以外は、実施例2と同様の条件で重合を行った。反応開始から120分で重合率93%に達した。実施例1と同様な後処理をしたポリマーの数平均分子量:Mnは5860で、分子量分布:Mw/Mnは1.18であった。ガラス転移温度Tgは、1℃であった。また、熱分解温度Tdは311℃であった。
Claims (8)
- 前記ジビニルエーテルホモポリマーが4,4−ビス[(エテニロキシ)メチル]シクロヘキセンホモポリマーである請求項1に記載のジビニルエーテルホモポリマー。
- 前記ジビニルエーテルホモポリマーが1,1−ビス[(エテニロキシ)メチル]シクロヘキサンホモポリマーである請求項1に記載のジビニルエーテルホモポリマー。
- 分子量分布(重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn)が1〜5の請求項1〜3のいずれか1項に記載のジビニルエーテルホモポリマー。
- ジビニルエーテルモノマーをルイス酸の存在下に重合することを特徴とする請求項1に記載のジビニルエーテルホモポリマーの製造方法。
- 前記重合がリビング重合である請求項5に記載のジビニルエーテルホモポリマーの製造方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のジビニルエーテルホモポリマーを用いたインク用原料。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のジビニルエーテルホモポリマーを用いた電子材料用原料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011102232A JP5835724B2 (ja) | 2011-04-28 | 2011-04-28 | ジビニルエーテルホモポリマー、その製造方法およびその用途 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011102232A JP5835724B2 (ja) | 2011-04-28 | 2011-04-28 | ジビニルエーテルホモポリマー、その製造方法およびその用途 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012233068A JP2012233068A (ja) | 2012-11-29 |
JP5835724B2 true JP5835724B2 (ja) | 2015-12-24 |
Family
ID=47433717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011102232A Active JP5835724B2 (ja) | 2011-04-28 | 2011-04-28 | ジビニルエーテルホモポリマー、その製造方法およびその用途 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5835724B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5835723B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2015-12-24 | 国立大学法人福井大学 | ジビニルエーテルホモポリマー、その製造方法およびその用途 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4600614B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2010-12-15 | 昭和電工株式会社 | 新規な不飽和エーテル化合物及び該化合物の製造方法 |
SE0201623D0 (sv) * | 2002-05-30 | 2002-05-30 | Amersham Biosciences Ab | Macroporous cross-linked polymer particles |
JP5077888B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2012-11-21 | 日本カーバイド工業株式会社 | ジビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途 |
JP5726178B2 (ja) * | 2010-04-28 | 2015-05-27 | 日本カーバイド工業株式会社 | 1,1−ビス[(エテニロキシ)メチル]シクロヘキサン及びその製造方法 |
EP2703379B1 (en) * | 2011-04-28 | 2016-11-30 | Nippon Carbide Industries Co., Inc. | 4,4-bis[(ethenyloxy)methyl]cyclohexene and method for producing same |
JP5835723B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2015-12-24 | 国立大学法人福井大学 | ジビニルエーテルホモポリマー、その製造方法およびその用途 |
-
2011
- 2011-04-28 JP JP2011102232A patent/JP5835724B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012233068A (ja) | 2012-11-29 |
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