JP5053204B2 - 半導体集積回路装置、半導体集積回路装置を用いた光走査装置及び戻り光識別方法並びに光走査装置を用いた画像形成装置 - Google Patents

半導体集積回路装置、半導体集積回路装置を用いた光走査装置及び戻り光識別方法並びに光走査装置を用いた画像形成装置 Download PDF

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Description

本発明は、光源から出射される出射光量を目標値になるように制御する半導体集積回路装置、半導体集積回路装置を用いて光源から出射される出射光を偏向面で反射し偏向走査する光走査装置、及び、光走査装置における戻り光識別方法、並びに、光走査装置を用いて感光体に電子潜像を形成して画像を形成する複写機やプリンタを含む画像形成装置に関する。
従来より、光走査装置を構成するレーザダイオードから出射するレーザ光を感光体上に照射することによって静電潜像を形成する画像形成装置において、レーザダイオードを発光させる電流値を決定するための初期化動作が行われている。この初期化動作は、例えば、レーザダイオードに流す電流値(レーザダイオードの発光光量)を段階的に増加させていき、その際の光量をレーザユニット内部に設けられたフォトディテクタで検出し、フォトディテクタの検出値が所定値になったときの電流値をレーザダイオードを発光させる電流値に決定する動作である。
以下、図面を参照しながらより詳しく説明する。図1は、一般的なレーザダイオードの駆動電流と光量との関係を例示する図である。図1において、横軸はレーザダイオードの駆動電流を、縦軸はレーザダイオードから出射されるレーザ光の光量を示している。図1に示すように、レーザダイオード(以下、LDとする)は駆動電流がある閾値を超えると発光を始める。このときの駆動電流を閾値電流Ithと呼ぶ。駆動電流が閾値電流Ithを超えると発光領域に入り、発光領域においては発光電流Iηと光量は比例の関係になる。図1において、IthNは常温における閾値電流を、IηNは光量Lのときの常温における発光電流を、IopNは光量Lのときの常温における駆動電流を、IthHは高温における閾値電流を、IηHは光量Lのときの高温における発光電流を、IopHは光量Lのときの高温における駆動電流を示している。
図1に示すように、温度に対して閾値電流Ith及び微分効率η(図1の発光領域における直線の傾き)は変化し、温度が高いと微分効率ηは低下する傾向がある。このため一定の光量Lを保持するための駆動電流Iopは温度により変化し(IopN<IopHとなる)、LDを用いたアプリケーションでは必要な光量Lに対する駆動電流Iopを補正することが必要となる。光量Lが一定になるように駆動電流Iopを自動的に補正(制御)する回路を、APC回路(Auto Power Control回路)という。APC回路を構成する回路ブロックの全部又は一部は、半導体集積回路装置として実現されている。
図2は従来の画像形成装置に搭載されるAPC回路の概略の回路構成を例示する図である。図2を参照するに、APC回路200は、電流生成部202と、I/V変換部203と、比較部204と、電流制御部205とを有する。201は、APC回路200に接続されるレーザユニットである。レーザユニット201は、レーザダイオード201a(以下、LD201aとする)とフォトディテクタ201b(以下、PD201bとする)から構成されている。
図2において、電流生成部202より駆動電流Iopをレーザユニット201を構成するLD201aに流すと、発光領域ではLD201aは駆動電流Iopに比例した光量でレーザ光を出射する。レーザ光は、照射対象物に向かって出射されるとともに、レーザユニット201を構成するPD201bの方向にも出射される。PD201bは、出射された光量に比例するモニタ電流Imを発生する。モニタ電流Imは、I/V変換部203によりモニタ電圧Vmに変換される。モニタ電圧VmはLD201aの出射するレーザ光の光量を示している。
比較部204は、基準電圧(基準光量)Vrefとモニタ電圧Vmとを比較し比較結果を電流制御部205に出力する。電流制御部205は、比較部204の出力する比較結果に基づいて電流生成部202の電流を制御する。このようにして、LD201aの出射するレーザ光の光量は、基準電圧(基準光量)Vrefに対応する所望の値に保たれる。
前述の初期化動作は、LD201aを発光させるときに、始めに駆動電流Iopを閾値電流Ith以下に設定しておき、その後駆動電流Iopを段階的に増加させていき、その際の光量をPD201bで検出し、PD201bの検出値が所定値になったときの電流値をLD201aを発光させる電流値に決定する動作である。ここで決定された電流値は、所定の時間維持され、所定の時間が経過すると再度同様な方法で電流値が決定される。
従って、初期化動作は大変重要であり、適正に実行する必要がある。初期化動作を適正に実行するためには、モニタ電流Imを正確に検出する必要がある。PD201bにおいて、本来検出されるべきでない光が検出されると、LD201aの出射するレーザ光の光量は過大になったり、過小になったりし、所望の値に保たれない。このような場合、LD201aは所望の値と異なる値で所定の時間発光し続けることになるため、アプリケーションで正確な光書き込みが行えなくなったり、最悪の場合、駆動電流Iopが許容値を超えるとLD201aが破壊したりする可能性もある(例えば、特許文献1〜8参照)。
特開2001−264011号公報 特開2003−092453号公報 特開2007−200513号公報 特開平05−191603号公報 特開平05−243652号公報 特開平11−298075号公報 特開平11−273120号公報 特開昭63−124971号公報
ところで、APC回路200を搭載する画像形成装置において、LD201aから出射されたレーザ光は、回転するポリゴンミラーにより反射され、複数のレンズや反射ミラー等を経て感光体に照射される。ここで、ポリゴンミラーとは、周囲に一連の平面反射面を備えた回転部材である。
この場合、レーザ光が正反射(入射角90度)の光学条件でポリゴンミラーに反射されると、反射光は直接レーザユニット201内部に戻り、PD201bで検出されることになる。この現象は、戻り光と呼ばれている。戻り光は、ポリゴンミラーによる走査一周期毎に不連続的に発生するが、戻り光が発生するタイミングが前述の初期化動作のタイミングと一致すると、戻り光がPD201bで検出され、モニタ電流Imを正確に検出できなくなるため、LD201aの出射するレーザ光の光量は適切な値に決定されない。このように、従来の画像形成装置に用いられる光走査装置の初期化動作において、戻り光に起因してレーザダイオードを点灯させる電流値が適切な値に決定されないという問題があった。
なお、近年、画像形成装置の高速化により正反射条件になる走査一周期の時間が著しく短くなっており、戻り光が発生するタイミングと初期化動作のタイミングとが一致しないように制御することは困難である。
本発明は、上記に鑑みてなされたもので、初期化動作において、戻り光の有無にかかわらず、レーザダイオードを点灯させる電流値を適切な値に決定できる半導体集積回路装置、半導体集積回路装置を用いた光走査装置、及び、光走査装置における戻り光識別方法、並びに、光走査装置を用いた画像形成装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、第1の発明は、光量検出手段に入射される入射光量に基づいて、光源から出射される出射光量を目標値になるように制御する半導体集積回路装置であって、前記目標値に対応する基準電圧を生成する基準電圧生成手段と、前記入射光量に対応する電圧と前記基準電圧とを比較する比較手段と、前記比較手段の比較結果に基づいて、前記光源に供給する駆動電流を制御する駆動電流制御手段と、を備え、前記駆動電流制御手段は、前記入射光量が、不連続的に発生する戻り光の光量を含んでいるか否かを識別する戻り光識別手段を有することを特徴とする。
第2の発明は、光源と、入射される光の光量を検出する光量検出手段と、本発明に係る半導体集積回路装置と、前記光源から出射される出射光を偏向面で反射し偏向走査する偏向手段と、を備えた光走査装置である。
第3の発明は、本発明に係る光走査装置を有し、前記半導体集積回路装置により所定の光量に制御された前記出射光を前記偏向手段により偏向走査して、感光体に電子潜像を形成して画像を形成することを特徴とする画像形成装置である。
第4の発明は、光源と、入射される光の光量を検出する光量検出手段と、前記光量検出手段の検出結果に基づいて前記光源から出射される出射光の光量を制御する光量制御手段と、前記出射光を偏向面で反射し偏向走査する偏向手段と、を備えた光走査装置における戻り光識別方法であって、前記光源から所定の光量の出射光を出射する第1ステップと、前記光量検出手段で検出された前記光量が所定の基準値を超えているか否かを判定する第2ステップと、前記光源から前記所定の光量の前記出射光が出射されている状態で所定の期間待機する第3ステップと、前記光量検出手段で検出された前記光量が所定の基準値を超えているか否かを判定する第4ステップと、前記第2ステップにおいて前記光量が前記所定の基準値を超えており、前記第4ステップにおいて前記光量が前記所定の基準値を超えていない場合に、戻り光が発生したことを識別し、前記第2ステップ及び前記第4ステップにおいて前記光量が前記所定の基準値を超えている場合に、戻り光が発生していないことを識別する第5ステップと、を有することを特徴とする。
本発明によれば、初期化動作において、戻り光の有無にかかわらず、レーザダイオードを点灯させる電流値を適切な値に決定できる半導体集積回路装置、半導体集積回路装置を用いた光走査装置、及び、光走査装置における戻り光識別方法、並びに、光走査装置を用いた画像形成装置を提供することができる。
以下、図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態の説明を行う。
〈第1の実施の形態〉
図3は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置の要部を例示する構成図である。図3を参照するに、光走査装置10は、レーザユニット20と、書き込みユニット30とを有する。40は光走査装置10からレーザ光を照射する感光体である。
レーザユニット20は、レーザダーオード20a(以下、LD20aとする)と、フォトディテクタ20b(以下、PD20bとする)と、APC回路20cと、コリメータレンズ20dと、アパーチャ20eとを有する。書き込みユニット30は、シリンドリカルレンズ30aと、ポリゴンミラー30bと、fθレンズ30cとを有する。
レーザユニット20において、LD20aはレーザ光を出射する光源としての機能を有する。PD20bは、LD20aから出射されたレーザ光の一部を受光しモニタ電流Imを流す光量検出手段としての機能を有する。APC回路20cは、モニタ電流Imを電圧に変換したモニタ電圧Vmと所定の基準電圧(基準光量)Vrefとを比較し、LD20aに流す駆動電流Iopを制御して、LD20aから出射されたレーザ光の光量を所望の値に保つ光量制御手段としての機能を有する。コリメータレンズ20dは、発散光であるレーザ光を平行光にする機能を有する。アパーチャ20eは、レーザ光のスポット径を調節する機能を有する。
書き込みユニット30において、シリンドリカルレンズ30aは、副走査倍率の設定及び副走査ビームスポット径の設定を行う機能を有する。ポリゴンミラー30bは、周囲に一連の偏向面(平面反射面)31bを備えた所定の速度で回転する回転部材であり、レーザ光を偏光走査する偏向手段としての機能を有する。fθレンズ30cは、fθ特性の補正を行う機能を有する。
図3において、レーザユニット20を構成するLD20aはAPC回路20cにより制御されてレーザ光を出射し、LD20aからコリメータレンズ20d側に出射されたレーザ光はコリメータレンズ20dとアパーチャ20eを通って書き込みユニット30に入射する。書き込みユニット30に入射したレーザ光は、シリンドリカルレンズ30aを通ってポリゴンミラー30bに到達する。
一方、レーザ光は、LD20aからコリメータレンズ20dの反対側にも出射され、PD20bに受光される。PD20bに受光されたレーザ光はモニタ電流Imに変換される。APC回路20cは、モニタ電流Imに基づいて、LD20aから出射されたレーザ光の光量が所望の値に保たれるように制御する。
ポリゴンミラー30bの偏光面31bで偏光走査されたレーザ光は、fθレンズ30cを通って、感光体40に到達する。感光体40に到達したレーザ光は光強度に応じて感光体40に電子潜像を形成することにより画像を形成する。
なお、レーザユニット20は、長さの異なる2つのスペーサ41及び42を介して、それぞれネジ43で書き込みユニット30に固定されている。
図4は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置を構成するレーザユニットのLD、PD及びAPC回路部分を例示する回路図である。図4を参照するに、APC回路20cは、半導体集積回路部20fとI/V変換部22とを有する。半導体集積回路部20fは、図示しないトランジスタ、抵抗、コンデンサ、ダイオード等の素子を基板上に形成し、所定の機能を持たせた電子回路(IC)である。
I/V変換部22は、例えばアナログの可変抵抗であり、半導体集積回路部20fの外部に配置され、自由に設定することができる。ただし、I/V変換部22として、例えばディジタルの可変抵抗(ディジタルポテンショメータ等)を用い、半導体集積回路部20fに内蔵しても構わない。
半導体集積回路部20fは、バイアス電流生成部21と、比較部23と、バイアス電流制御部24と、オン電流制御部25と、D/A変換部26とを有する。バイアス電流生成部21の出力及びD/A変換部26の出力同士は接続されており、そこに更にLD20aのアノードが接続されている。I/V変換部22の一端は電源VDDに接続され、他端は比較部23のプラス端子及びPD20bのカソードに接続されている。LD20aのカソード及びPD20bのアノードは、基準電位GNDに接続されている。
比較部23のマイナス端子には、基準電圧Vrefが接続されている。基準電圧Vrefは、LD20aが出射する光量の目標値に対応する電圧である。比較部23の出力は、バイアス電流制御部24の一端及びオン電流制御部25の一端に接続されている。バイアス電流制御部24の他端はバイアス電流生成部21に接続されている。オン電流制御部25の他端はD/A変換部26の一端と接続されている。オン電流制御部25には所定の周波数の基準クロックCLKが供給されている。
図4において、バイアス電流生成部21により生成されたバイアス電流Ibi及びD/A変換部26により生成されたオン電流Ionは合成されて駆動電流Iopとなり、LD20aに流れる。LD20aは駆動電流Iopに比例した光量でレーザ光を出射する。レーザ光は、照射対象物に向かって出射されるとともに、PD20bの方向にも出射される。PD20bは、出射された光量に比例するモニタ電流Imを発生する。モニタ電流Imは、I/V変換部22によりモニタ電圧Vmに変換される。モニタ電圧VmはLD20aの出射するレーザ光の光量を示している。
比較部23は、基準電圧(基準光量)Vrefとモニタ電圧Vmとを比較する比較手段であり、比較結果をバイアス電流制御部24及びオン電流制御部25に出力する。比較部23の出力を出力APCCPと呼ぶことにする。オン電流制御部25は、比較部23の比較結果に基づいて、LD20aに供給する駆動電流を制御する駆動電流制御手段であり、比較部23の出力APCCPに基づいてD/A変換部26の電流を制御する。D/A変換部26はオン電流制御部25の制御に従いDACコード値を設定し、設定したDACコード値に相当するアナログのオン電流Ionを生成する。
バイアス電流生成部21の生成したバイアス電流IbiとD/A変換部26の生成したオン電流Ionとは加算され、駆動電流IopとなりLD20aに流れる。LD20aに駆動電流Iopが流れると、LD20aは基準電圧(基準光量)Vrefに対応する所望の値の光量のレーザ光を出射する。このようにして、LD20aの出射するレーザ光の光量は、基準電圧(基準光量)Vrefに対応する所望の値に保たれる。
図5は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置を構成するAPC回路で設定されるバイアス電流とオン電流との関係を例示する図である。図4に示すAPC回路20cは、図5に示すように、駆動電流Iopをバイアス電流Ibiとオン電流Ionの合成で生成する回路である。なお、駆動電流Iopは、おのおのの役割を持つ何種類かの電流の合成であってもよい。
図5に示すバイアス電流Ibiは閾値を超えない値で設定する電流である。オン電流Ionはバイアス電流Ibiに加算して基準電圧Vrefに見合う光量を得る電流である。APC回路20cの初期化動作の際には、オン電流Ionを増していくことで光量を上げていき、モニタ電圧Vmと基準電圧Vrefとを比較することで、基準光量を得るための電流値を知ることができる。
オン電流Ionを増していく手段は様々考えられるが、図4ではD/A変換部26がDACコード値をカウントUPすることによりオン電流Ionを増していく。オン電流Ionを増していくと、それに対応してモニタ電圧Vm(モニタ電流ImをI/V変換部22で電圧に変換したもの)が増加し、比較部23においてモニタ電圧Vm≧基準電圧Vrefとなると比較部23の出力APCCPがHになり、所望の光量に達したことを知ることができる。
図6は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置を構成するオン電流制御部の概略の構成を例示する図である。図6を参照するに、オン電流制御部25は、APCCP判定部25aと、カウンタ制御部25bと、カウンタ部25cとを有する。APCCP判定部25aと、カウンタ制御部25bと、カウンタ部25cとは直列に接続されており、所定の周波数の基準クロックCLKに基づいて動作する。
APCCP判定部25aは、出力APCCPがHになったことを判定する機能を有する。すなわち、APCCP判定部25aは、光量検出手段としての機能を有するPD20bで検出された光量が所定の基準値である基準電圧Vrefを超えているか否かを判定する判定手段としての機能を有する。カウンタ制御部25bは、カウンタ部25cのカウントやホールド、クリア等の制御をする機能を有する。カウンタ部25cは、カウンタ制御部25bにより設定されたカウンタ値をDACコード値に変換する機能を有する。
図7は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置を構成するAPC回路の動作波形を例示する図である。図7に示すように、APC回路20cの初期化動作の際には、カウンタ部25cはカウンタ制御部25bの指令によりDACコード値をカウントアップさせ、D/A変換後の駆動電流Iopを上げていく。
LD20aの出射するレーザ光の光量が所望の値に達すると比較部23の出力APCCPがHとなり、APCCP判定部25aは出力APCCPがHであると判定し、判定結果をカウンタ制御部25bに出力する。カウンタ制御部25bは、APCCP判定部25aの判定結果に基づいて、カウント値をホールドする。このときのカウント値が所望の光量を得るためのDACコード値となり、カウンタ部25cはこのDACコード値を継続的に出力する。
図7の場合は、モニタ電圧Vm≧基準電圧VrefとなったときのDACコード値が「a+5」であるから、所望の光量を得るための駆動電流Iopを決めるDACコード値は「a+5」となる(ただし、aは任意の自然数)。以上は、初期化動作中に戻り光がない場合の説明をしたが、前述のように、戻り光が発生するタイミングが初期化動作のタイミングと一致すると、戻り光がPD20bで検出され、モニタ電流Imを正確に検出できなくなるため、LD20aの出射するレーザ光の光量は適切な値に決定されない。
図8は、戻り光がある場合のAPC回路の動作波形を例示する図である。ただし、本発明に係る戻り光識別手段が機能していない場合の波形である。図8に示すように、戻り光がある場合、PD20bでは本来検出されるLD20aの出射するレーザ光に戻り光が重畳されるため、LD20aの出射するレーザ光の光量は適切な値に決定されない。
図8を参照しながらより詳しく説明する。APC回路20cの初期化動作の際には、カウンタ部25cはカウンタ制御部25bの指令よりカウンタ部25cをカウントアップさせ、D/A変換後の駆動電流Iopを上げていく。カウントアップの最中に戻り光が発生すると、PD20bでは本来検出されるLD20aの出射するレーザ光に戻り光が重畳されるため、モニタ電圧Vmは図8のA部に示すように本来よりも大きな値になる。
このとき、モニタ電圧Vm≧基準電圧Vrefとなると、比較回路23の比較条件を満たしてしまうため、このときのDACコード値「a」が所望の光量を得るための駆動電流Iopを決めるDACコード値となる。図7に示すように、本来のDACコード値は「a+5」であるから、本来よりも低いDACコード値「a」に決定されたことになる。
すなわち、決定された駆動電流Iop2は、本来の駆動電流Iopに対してΔIop=Iop−Iop2だけ不足しており、LD20aは所望の光量よりも少ないで光量で発光してしまう。なお、図8のA部に示す戻り光の波形は矩形であるが、実際にはその形状は一定ではなく、戻り光の時間やピークの形状は様々である。
図9は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置を構成するAPC回路の初期化動作を示すフローチャートの例である。図10は、図9のフローチャートに従って初期化動作を行ったときのAPC回路の波形を例示する図である。図9及び図10を参照しながら、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置を構成するAPC回路の初期化動作について説明する。
始めにステップ100において、カウンタ部25cはカウンタ制御部25bの指令によりカウンタ部25cのDACコード値をカウントアップさせ、D/A変換後の駆動電流Iopを上げていく(S100)。例えば、図10におけるDACコード値=00〜a−1の部分が如くである。
次いでステップ110において、APCCP判定部25aは出力APCCPがX回連続してHであるか否かを判定し、判定結果をカウンタ制御部25bに出力する(S110)。X回連続してHであると判定した場合には、ステップ120に移行し、X回連続してHでないと判定した場合には、ステップ100に戻り前述の処理を繰り返す。
なお、出力APCCPがX回連続してHであるか否かを判定している期間を判定期間といい、その長さを判定期間長という。判定期間長は基準クロックCLKのX回分の期間にX回のサンプリングを持つことを意味する。全てのサンプリング時にHが検出されれば判定結果は「Yes」、1回でもLであれば判定結果は「No」である。出力APCCPにチャタリングがあるような場合には、Xの値を大きめに設定することが好ましい。
次いでステップ120において、カウンタ制御部25bは、カウンタ部25cにDACコード値をホールドすることを指令する。カウンタ部25cは、カウンタ制御部25bの指令によりカウンタ部25cのDACコード値をホールドする。又、カウンタ制御部25bは、APCCP判定部25aから入力される判定結果をマスクする(S120)。ステップ120の終了後、所定の期間待機する。次いでステップ130において、APCCP判定部25aは出力APCCPがX回連続してHであるか否かを判定し、判定結果をカウンタ制御部25bに出力する(S130)。X回連続してHであると判定した場合には、ステップ140に移行する。
なお、ステップ110において出力APCCPがHであるか否かの判定を開始してから、ステップ130において出力APCCPがHであるか否かの判定を開始するまでの間隔を判定間隔という。判定間隔は基準クロックCLKのY回分に設定する。前述のように、戻り光はポリゴンミラーによる走査一周期毎に不連続的に発生するので、判定間隔は、ポリゴンミラーによる走査一周期(戻り光の発生する周期)よりも十分に短くなるように設定しておくことが好ましい。一例を挙げれば、例えば基準クロックCLKが1〜3MHz程度(0.3〜1μS程度)の場合に、Yを10〜20回程度に設定すると、判定間隔は3〜20μS程度となる。
次いでステップ140において、カウンタ制御部25bは、カウンタ部25cにDACコード値を確定することを指令する。カウンタ部25cは、カウンタ制御部25bの指令によりカウンタ部25cのDACコード値を確定する。又、カウンタ制御部25bは、APCCP判定部25aから入力される判定結果をマスクする(S140)。ステップ130においてX回連続してHでないと判定した場合には、ステップ150に移行する。ステップ150において、カウンタ制御部25bは、APCCP判定部25aから入力される判定結果をマスクする(S150)。その後ステップ100に戻り前述の処理を繰り返す。
図9に示すフローチャートにおいて、ステップ110(S110)〜ステップ130(S130)は戻り光検出シーケンスである。戻り光検出シーケンスは基準サイクルであり、基準サイクルは戻り光が検出されなくなるまで繰り返し実行される。ステップ110が「Yes」でステップ130が「No」である場合は、戻り光が検出された場合である。例えば図10のA部(DACコード値「a」)のように戻り光に起因して比較部23の出力APCCPがHになった場合には、ステップ110の判定は「Yes」となる。しかし、所定の期間(例えば図6に示す基準クロックCLKのY回分)経過後のステップ130では、戻り光がないため出力APCCPがHにならず、判定は「No」となる。
一方、例えば図10のDACコード値a+5の部分のように、戻り光に起因せずに比較部23の出力APCCPがHになった場合には、ステップ110の判定は「Yes」となる。所定の期間(例えば図6に示す基準クロックCLKのY回分)経過後のステップ130でも、モニタ電圧Vmはステップ110のときと同一の値であるため、出力APCCPはHのままであり、判定は「Yes」となる。
このように、ステップ110及び所定期間経過後のステップ130の判定結果がともに「Yes」であれば、戻り光に起因せずに比較部23の出力APCCPがHになったと判断できる。すなわち、本来の駆動電流Iopに対応するDACコード値が正しく設定される。
なお、光学系システムの異常等により戻り光が収束しない場合、戻り光検出シーケンスで戻り光ありの判定が連続して終わらない(ステップ110及び所定期間経過後のステップ130の判定結果がともに「Yes」にならない)ことが考えられる。このような場合を想定し、予め戻り光検出シーケンスの繰り返し回数のリミット値(上限値)を設定しておき、リミット値を超えたら戻り光検出シーケンスを停止しエラー信号を出すような構成にしておくことが好ましい。
図9に示すフローチャートでは、ステップ100からステップ150の処理を所定の時間間隔で繰り返し実行するため、図10のA部のように、戻り光が検出されても、その後戻り光のないない状態で比較部23の出力APCCPがHになったことを検出できる。図9に示すフローチャートでは出力APCCPがHか否かの判定をステップ100及びステップ130の2回行っているが、判定回数をZ回(Zは3以上の自然数)とするフローチャートにしても構わない。その場合はZ回の判定結果が全て「Yes」であれば、戻り光に起因せずに、比較部23の出力APCCPがHになったと判断できる。
以上のように、オン電流制御部25は、図5に示すオン電流Ionを制御する機能を有するとともに、初期化動作における戻り光識別手段としての機能を有する。又、APCCP判定部25aと、カウンタ制御部25bと、カウンタ部25cとは、本発明における戻り光識別手段の代表的な一例を構成している。
本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置によれば、光走査装置を構成する半導体集積回路部の戻り光識別手段が、比較部の出力がHであるか否かを判定し、所定の期間経過後に再び比較部の出力がHであるか否かを判定する。又、所定の期間を戻り光の発生する周期よりも十分に短く設定する。そして、判定の結果に基づいて戻り光の有無を識別し、戻り光が無いことを識別した場合のみにレーザダイオードを点灯させる電流値を決定する。これにより、APC回路の初期化動作において、戻り光の有無にかかわらず、レーザダイオードを点灯させる電流値を適切な値に決定することができる。
〈第2の実施の形態〉
第1の実施の形態の図9及び図10の説明の中で、判定期間長、判定間隔、及び判定回数について説明したが、これらは戻り光特性(戻り光の発生する周期等)に応じて自由に設定できることが好ましい。判定期間長、判定間隔、及び判定回数を戻り光の特性に応じて適切な値に設定することにより、様々な戻り光に対応することができる。
前述のように、判定期間長は基準クロックCLKのX回分の期間にX回のサンプリングを持つことを意味する。全てのサンプリング時にHが検出されれば判定結果は「Yes」、1回でもLであれば判定結果は「No」である。出力APCCPにチャタリングがあるような場合には、Xの値を大きめに設定することが好ましい。判定間隔は基準クロックCLKのY回分で設定し、戻り光の発生する周期が長い場合には、Yの値を大きめに設定することができる。判定回数は出力APCCPの検出を何回実行するかの回数であり、Z回と設定すれば出力APCCPの検出をZ回行い、Z回の判定結果が全て「Yes」であれば、戻り光に起因せずに、比較部23の出力APCCPがHになったと判断する。
本発明の第2の実施の形態に係る光走査装置は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10を構成するオン電流制御部25がオン電流制御部55に置換された点を除いて、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10と同様に構成されるため、オン電流制御部55以外の部分の説明は省略する。
図11は、本発明の第2の実施の形態に係る光走査装置を構成するオン電流制御部の概略の構成を例示する図である。同図中、図6と同一構成部分には同一符号を付し、その説明は省略する場合がある。図11を参照するに、オン電流制御部55は、APCCP判定部55aと、カウンタ制御部55bと、カウンタ部25cとを有する。APCCP判定部55aと、カウンタ制御部55bと、カウンタ部25cとは直列に接続されており、所定の周波数の基準クロックCLKに基づいて動作する。
APCCP判定部55aは、出力APCCPがHになったことを判定する機能を有する。すなわち、APCCP判定部55aは、光量検出手段としての機能を有するPD20bで検出された光量が所定の基準値である基準電圧Vrefを超えているか否かを判定する判定手段としての機能を有する。
APCCP判定部55aは、図示しないホストコンピュータと通信可能に構成されており、ホストコンピュータから判定期間長を決めるパラメータであるXを設定することができる。ホストコンピュータからパラメータXが設定されると、APCCP判定部55aは出力APCCPがHになったことを判定する際に、基準クロックCLKのX回分の期間にX回のサンプリングを実行する。
カウンタ制御部55bは、カウンタ部25cのカウントやホールド、クリア等の制御をする機能を有する。カウンタ制御部55bは、図示しないホストコンピュータと通信可能に構成されており、ホストコンピュータから判定間隔を決めるパラメータであるY及び判定回数Zを設定することができる。ホストコンピュータからパラメータY及び判定回数Zが設定されると、カウンタ制御部55bは設定された判定間隔で、APCCP判定部25aから入力される判定結果を認識する。判定結果の認識はZ回実行される。又、カウンタ制御部55bは、何らかのエラーが生じた場合には、エラー信号をホストコンピュータに対して送信することができる。
オン電流制御部55は、図5に示すオン電流Ionを制御する機能を有するとともに、初期化動作における戻り光識別手段としての機能を有する。又、APCCP判定部55aと、カウンタ制御部55bと、カウンタ部25cとは、本発明における戻り光識別手段の代表的な一例を構成している。
本発明の第2の実施の形態に係る光走査装置を構成するAPC回路の初期化動作は、図9に例示したフローチャートに従って実行されるが、ホストコンピュータから判定期間長、判定間隔、及び判定回数が設定されており、それらの設定に従って動作する点が本発明の第1の実施の形態に係る初期化動作と異なる。
本発明の第2の実施の形態に係る光走査装置によれば、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置と同様の効果を奏する。又、本発明の第2の実施の形態に係る光走査装置によれば、光走査装置を構成する半導体集積回路部の戻り光識別手段に対して判定期間長、判定間隔、及び判定回数をホストコンピュータから任意に設定できるようにし、戻り光識別手段からホストコンピュータに対してエラー信号を送信できるようにする。これにより、例えば同一の戻り光識別手段を異なる戻り光特性を有する画像形成装置等に搭載するような場合にも、判定期間長、判定間隔、及び判定回数を戻り光特性に応じた最適な値に設定することができる。
〈第3の実施の形態〉
本発明の第3の実施の形態に係る光走査装置は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10を構成するオン電流制御部25がオン電流制御部65に置換された点を除いて、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10と同様に構成されるため、オン電流制御部65以外の部分の説明は省略する。
図12は、本発明の第3の実施の形態に係る光走査装置を構成するオン電流制御部の概略の構成を例示する図である。同図中、図6と同一構成部分には同一符号を付し、その説明は省略する場合がある。図12を参照するに、オン電流制御部65は、図6に示すオン電流制御部25のカウンタ制御部25bがカウンタ制御部65bに置換された点、オーバーフロー監視部65dが新たに追加された点を除いて、図6に示すオン電流制御部25と同様に構成されている。以下、図6と異なる部分についてのみ説明する。
図12を参照するに、オーバーフロー監視部65dは、カウンタ部25cからDACコード値が入力可能に構成されている。又、オーバーフロー監視部65dには予めDACコードのリミット値が設定されており、カウンタ部25cから入力されたDACコード値が予め設定されたDACコードのリミット値を超えると、カウンタ制御部65bにストップ信号を出力可能に構成されている。
カウンタ制御部65bは、カウンタ部25cのカウントやホールド、クリア等の制御をする機能を有する。又、カウンタ制御部65bは、オーバーフロー監視部65dからストップ信号が入力されると、カウントアップ動作等を中止しDACコード値をクリアする機能を有する。これによりAPC回路の初期化動作は停止する。このように、オーバーフロー監視部65dは、光源であるLD20aから出射されるレーザ光の光量が所定の上限値(DACコードのリミット値)を超えないこと監視する監視手段としての機能を有する。
オン電流制御部65は、図5に示すオン電流Ionを制御する機能を有するとともに、初期化動作における戻り光識別手段としての機能を有する。又、APCCP判定部25aと、カウンタ制御部65bと、カウンタ部25cと、オーバーフロー監視部65dとは、本発明における戻り光識別手段の代表的な一例を構成している。
本発明の第3の実施の形態に係る光走査装置を構成するAPC回路の初期化動作は、図9に例示したフローチャートに従って実行されるが、予めDACコードのリミット値が設定されており、設定されたDACコードのリミット値を超えると初期化動作が停止される点が本発明の第1の実施の形態に係る初期化動作と異なる。
例えば、図9に示すフローチャートのステップ100において、カウンタ部25cはカウンタ制御部65bの指令によりカウンタ部25cのDACコード値をカウントアップさせ、D/A変換後の駆動電流Iopを上げていく。このときPD20bや比較部23が正常に動作しない等の要因により、LD20aの出射する光量が上がっても比較部23の出力APCCPがHにならないと、LD20aの出射する光量が上がり続け、最悪の場合にはLD20aが破壊する。
オーバーフロー監視部65dには予めDACコードのリミット値が設定されており、カウンタ部25cから入力されるDACコード値が予め設定したDACコードのリミット値を超えたか否かを検知する。そして、DACコードのリミット値を超えたことを検知した場合に、オーバーフロー監視部65dからカウンタ制御部65bにストップ信号を出力して初期化動作を停止することにより、LD20aが破壊することを防止できる。
本発明の第3の実施の形態に係る光走査装置によれば、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置と同様の効果を奏する。又、本発明の第3の実施の形態に係る光走査装置によれば、光走査装置を構成する半導体集積回路部の戻り光識別手段として機能するオン電流制御部にオーバーフロー監視部を設け、オーバーフロー監視部に対してDACコードのリミット値を予め設定しておく。そして、カウンタ部からオーバーフロー監視部に入力されるDACコード値が予め設定したDACコードのリミット値を超えた場合にAPC回路の初期化動作を停止することにより、レーザダイオードが破壊することを防止できる。
〈第4の実施の形態〉
本発明の第4の実施の形態に係る光走査装置は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10を構成するオン電流制御部25がオン電流制御部75に置換された点を除いて、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10と同様に構成されるため、オン電流制御部75以外の部分の説明は省略する。
図13は、本発明の第4の実施の形態に係る光走査装置を構成するオン電流制御部の概略の構成を例示する図である。同図中、図12と同一構成部分には同一符号を付し、その説明は省略する場合がある。図13を参照するに、オン電流制御部75は、図12に示すオン電流制御部65のオーバーフロー監視部65dがオーバーフロー監視部75dに置換された点を除いて、図12に示すオン電流制御部65と同様に構成されている。以下、図12と異なる部分についてのみ説明する。
図13を参照するに、オーバーフロー監視部75dは、カウンタ部25cからDACコード値が入力可能に構成されている。又、オーバーフロー監視部75dは、図示しないホストコンピュータと通信可能に構成されており、ホストコンピュータからDACコードのリミット値を設定することができる。オーバーフロー監視部75dは、カウンタ部25cから入力されたDACコード値がホストコンピュータから設定されたDACコードのリミット値を超えると、カウンタ制御部65bにストップ信号を出力可能に構成されている。又、オーバーフロー監視部75dは、何らかのエラーが生じた場合には、エラー信号をホストコンピュータに対して送信することができる。
カウンタ制御部65bは、オーバーフロー監視部75dからストップ信号が入力されると、カウントアップ動作等を中止しDACコード値をクリアする機能を有する。これによりAPC回路の初期化動作は停止する。このように、オーバーフロー監視部75dは、光源であるLD20aから出射されるレーザ光の光量が所定の上限値(DACコードのリミット値)を超えないこと監視する監視手段としての機能を有する。
オン電流制御部75は、図5に示すオン電流Ionを制御する機能を有するとともに、初期化動作における戻り光識別手段としての機能を有する。又、APCCP判定部25aと、カウンタ制御部65bと、カウンタ部25cと、オーバーフロー監視部75dとは、本発明における戻り光識別手段の代表的な一例を構成している。
本発明の第4の実施の形態に係る光走査装置を構成するAPC回路の初期化動作は、図9に例示したフローチャートに従って実行されるが、ホストコンピュータからDACコードのリミット値が設定されており、設定されたDACコードのリミット値を超えると初期化動作が停止される点が本発明の第1の実施の形態に係る初期化動作と異なる。
本発明の第4の実施の形態に係る光走査装置によれば、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置及び本発明の第3の実施の形態に係る光走査装置と同様の効果を奏する。又、本発明の第4の実施の形態に係る光走査装置によれば、光走査装置を構成する半導体集積回路部の戻り光識別手段として機能するオン電流制御部にオーバーフロー監視部を設ける。そして、オーバーフロー監視部に対してDACコードのリミット値をホストコンピュータから任意に設定できるようにし、戻り光識別手段を構成するオーバーフロー監視部からホストコンピュータに対してエラー信号を送信できるようにする。これにより、例えば同一の戻り光識別手段を異なる戻り光特性を有する画像形成装置等に搭載するような場合にも、DACコードのリミット値を使用環境等に応じた最適な値に設定することができる。
〈第5の実施の形態〉
本発明の第5の実施の形態に係る光走査装置は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10を構成するオン電流制御部25がオン電流制御部85に置換された点を除いて、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10と同様に構成されるため、オン電流制御部85以外の部分の説明は省略する。
図14は、本発明の第5の実施の形態に係る光走査装置を構成するオン電流制御部の概略の構成を例示する図である。同図中、図6と同一構成部分には同一符号を付し、その説明は省略する場合がある。図14を参照するに、オン電流制御部85は、図6に示すオン電流制御部25のカウンタ制御部25bがカウンタ制御部85bに置換された点を除いて、図6に示すオン電流制御部25と同様に構成されている。以下、図6と異なる部分についてのみ説明する。
カウンタ制御部85bは、カウンタ部25cのカウントやホールド、クリア等の制御をする機能を有する。カウンタ制御部85bは、図示しないホストコンピュータと通信可能に構成されており、ホストコンピュータから戻り光検出シーケンスの繰り返し回数のリミット値を設定することができる。又、カウンタ制御部85bは、何らかのエラーが生じた場合には、エラー信号をホストコンピュータに対して送信することができる。カウンタ制御部85bは、初期化動作中に戻り光検出シーケンスの繰り返し回数が、戻り光検出シーケンスの繰り返し回数のリミット値を超えたら戻り光検出シーケンスを停止し、ホストコンピュータに対してエラー信号を送信する。
オン電流制御部85は、図5に示すオン電流Ionを制御する機能を有するとともに、初期化動作における戻り光識別手段としての機能を有する。又、APCCP判定部25aと、カウンタ制御部85bと、カウンタ部25cとは、本発明における戻り光識別手段の代表的な一例を構成している。
本発明の第5の実施の形態に係る光走査装置を構成するAPC回路の初期化動作は、図9に例示したフローチャートに従って実行されるが、ホストコンピュータから戻り光検出シーケンスの繰り返し回数のリミット値が設定されており、設定された戻り光検出シーケンスの繰り返し回数のリミット値を超えると戻り光検出シーケンスが停止される点が本発明の第1の実施の形態に係る初期化動作と異なる。
本発明の第5の実施の形態に係る光走査装置によれば、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置と同様の効果を奏する。又、本発明の第5の実施の形態に係る光走査装置によれば、光走査装置を構成する半導体集積回路部の戻り光識別手段に対して戻り光検出シーケンスの繰り返し回数のリミット値をホストコンピュータから任意に設定できるようにし、又、戻り光識別手段からホストコンピュータに対してエラー信号を送信できるようにする。これにより、例えば同一の戻り光識別手段を異なる戻り光特性を有する画像形成装置等に搭載するような場合にも、戻り光検出シーケンスの繰り返し回数のリミット値を使用環境等に応じた最適な値に設定することができる。
〈第6の実施の形態〉
図15は、本発明の第6の実施の形態に係る画像形成装置の概略構成を例示する断面図である。図15を参照するに、画像形成装置100は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10を用いて感光体に電子潜像を形成して画像を形成する画像形成装置である。画像形成装置100において、画像が形成されるべき用紙は、本体トレイ101あるいは手差しトレイ102にセットされ、本体トレイ101あるいは手差しトレイ102から給紙ローラ103にて用紙の搬送が開始される。給紙ローラ103による用紙の搬送に先立って、像担持体である感光体40が回転し、感光体40の表面は、クリーニングブレード105によってクリーニングされ、次に、帯電ローラ106で一様に帯電される。
本発明に係る光走査装置10から、画像信号に従って変調されたレーザ光が露光され、現像ローラ108で現像されてトナーが付着し、これとタイミングを取って給紙ローラ103から用紙の給紙がなされる。給紙ローラ103から給紙された用紙は、感光体40と転写ローラ109とに挟まれて搬送され、これと同時に、用紙にはトナー像が転写される。
転写されずに残った感光体40上のトナーは、再び、クリーニングブレード105で掻き落とされる。クリーニングブレード105の手前には、トナー濃度センサ110が設けられており、トナー濃度センサ110によって感光体40上に形成されたトナー像の濃度を測定することができる。また、トナー像が載った用紙は搬送経路にしたがって、定着ユニット111に搬送され、定着ユニット111においてトナー像は用紙上に定着される。印刷された用紙は、最後に排紙ローラ112を通って、記録面を下にしてページ順に排出される。なお、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10に代えて、本発明の第2〜第5の実施の形態に係る光走査装置を用いても構わない。
このように、本発明の第1〜第5の実施の形態に係る光走査装置を用いて感光体に電子潜像を形成して画像を形成する複写機やプリンタを含む画像形成装置を構成すると好適である。
本発明の第6の実施の形態に係る画像形成装置によれば、本発明の第1〜第5の実施の形態に係る光走査装置を用いて構成されているため、APC回路の初期化動作において、戻り光の有無にかかわらず、レーザダイオードを点灯させる電流値は適切な値に決定される。その結果、レーザダイオードから出射されるレーザ光の光量が本来の値より低下することがないため、画像形成装置において、画像ムラなどの異常画像の発生を防止することができる。
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳説したが、本発明は、上述した実施の形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
例えば、図4に示すように、レーザユニット20においてLD20aのカソードとPD20bのアノードとが接続されているが、LDのアノードとPDのカソードとが接続されているタイプのレーザユニットを使用しても構わない。
又、本発明は、ポリゴンミラーに起因して生じる戻り光には限られず、定常的に発生するものでなく不連続的に発生する戻り光であれば、何れに起因して生じる戻り光に対しても効果を奏する。
又、第1〜第5の実施の形態は適宜組み合わせることができる。例えば、図11に示すカウンタ制御部55bに、図14に示すホストコンピュータから戻り光検出シーケンスの繰り返し回数のリミット値を設定することができるようにするが如くである。
一般的なレーザダイオードの駆動電流と光量との関係を例示する図である。 従来の画像形成装置に搭載されるAPC回路の概略の回路構成を例示する図である。 本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置の要部を例示する構成図である。 本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置を構成するレーザユニットのLD、PD及びAPC回路部分を例示する回路図である。 本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置を構成するAPC回路で設定されるバイアス電流とオン電流との関係を例示する図である。 本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置を構成するオン電流制御部の概略の構成を例示する図である。 本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置を構成するAPC回路の動作波形を例示する図である。 戻り光がある場合のAPC回路の動作波形を例示する図である。 本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置を構成するAPC回路の初期化動作を示すフローチャートの例である。 図9のフローチャートに従って初期化動作を行ったときのAPC回路の波形を例示する図である。 本発明の第2の実施の形態に係る光走査装置を構成するオン電流制御部の概略の構成を例示する図である。 本発明の第3の実施の形態に係る光走査装置を構成するオン電流制御部の概略の構成を例示する図である。 本発明の第4の実施の形態に係る光走査装置を構成するオン電流制御部の概略の構成を例示する図である。 本発明の第5の実施の形態に係る光走査装置を構成するオン電流制御部の概略の構成を例示する図である。 本発明の第6の実施の形態に係る画像形成装置の概略構成を例示する断面図である。
符号の説明
10 光走査装置
20 レーザユニット
20a レーザダーオード(LD)
20b フォトディテクタ(PD)
20c APC回路
20d コリメータレンズ
20e アパーチャ
20f 半導体集積回路部
21 バイアス電流生成部
22 I/V変換部
23 比較部
24 バイアス電流制御部
25,55,65,75,85 オン電流制御部
25a,55a APCCP判定部
25b,55b,65b,85b カウンタ制御部
25c カウンタ部
26 D/A変換部
30 書き込みユニット
30a シリンドリカルレンズ
30b ポリゴンミラー
30c fθレンズ
31b 偏向面
40 感光体
41,42 スペーサ
43 ネジ
65d,75d オーバーフロー監視部
100 画像形成装置
101 本体トレイ
102 手差しトレイ
103 給紙ローラ
105 クリーニングブレード
106 帯電ローラ
108 現像ローラ
109 転写ローラ
110 トナー濃度センサ
111 定着ユニット
112 排紙ローラ

Claims (16)

  1. 光量検出手段に入射される入射光量に基づいて、光源から出射される出射光量を目標値になるように制御する半導体集積回路装置であって、
    前記入射光量に対応する電圧と前記目標値に対応する基準電圧とを比較する比較手段と、
    前記比較手段の比較結果に基づいて、前記光源に供給する駆動電流を制御する駆動電流制御手段と、を備え、
    前記駆動電流制御手段は、前記入射光量が、不連続的に発生する戻り光の光量を含んでいるか否かを識別する戻り光識別手段を有することを特徴とする半導体集積回路装置。
  2. 前記戻り光識別手段は、前記入射光量に対応する電圧が前記基準電圧を超えているか否かを判定する判定手段を有し、
    前記判定手段は、所定の判定間隔で実行される複数回の判定を基準サイクルとして前記基準サイクルを繰り返し実行し、
    前記戻り光識別手段は、前記所定の判定間隔で実行される複数回の判定の結果が全て一致するか否かに基づいて、前記入射光量が、前記戻り光の光量を含んでいるか否かを識別することを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路装置。
  3. 前記判定間隔は、前記戻り光が発生する周期よりも短く設定されていることを特徴とする請求項2記載の半導体集積回路装置。
  4. 前記判定手段の行う1回の判定は、所定の判定期間に前記入射光量に対応する電圧と前記基準電圧とを複数回比較し、複数回の全てにおいて前記入射光量に対応する電圧が前記基準電圧を超えているか否かに基づいて行われることを特徴とする請求項2又は3記載の半導体集積回路装置。
  5. 前記判定期間は、前記戻り光が発生する期間よりも短く設定されていることを特徴とする請求項4記載の半導体集積回路装置。
  6. 前記戻り光識別手段は、前記判定手段の判定回数、前記判定間隔、及び前記判定期間のうちの少なくとも1つが、前記半導体集積回路装置の外部から任意に設定可能に構成されていることを特徴とする請求項2乃至5の何れか一項記載の半導体集積回路装置。
  7. 前記基準サイクルを繰り返す回数には、所定の上限値が設定されていることを特徴とする請求項2乃至6の何れか一項記載の半導体集積回路装置。
  8. 前記戻り光識別手段は、前記上限値が前記半導体集積回路装置の外部から任意に設定可能に構成されていることを特徴とする請求項7記載の半導体集積回路装置。
  9. 前記戻り光識別手段は、前記光源から出射される前記出射光量が所定の上限値を超えないこと監視する監視手段を有することを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項記載の半導体集積回路装置。
  10. 前記戻り光識別手段は、前記上限値が前記半導体集積回路装置の外部から任意に設定可能に構成されていることを特徴とする請求項9記載の半導体集積回路装置。
  11. 光源と、入射される光の光量を検出する光量検出手段と、請求項1乃至10の何れか一項記載の半導体集積回路装置と、前記光源から出射される出射光を偏向面で反射し偏向走査する偏向手段と、を備えた光走査装置。
  12. 前記戻り光は、前記出射光が、前記偏向手段の前記偏向面により反射され、前記光量検出手段に入射される光であることを特徴とする請求項11記載の光走査装置。
  13. 請求項11又は12記載の光走査装置を有し、前記半導体集積回路装置により所定の光量に制御された前記出射光を前記偏向手段により偏向走査して、感光体に電子潜像を形成して画像を形成することを特徴とする画像形成装置。
  14. 光源と、入射される光の光量を検出する光量検出手段と、前記光量検出手段の検出結果に基づいて前記光源から出射される出射光の光量を制御する光量制御手段と、前記出射光を偏向面で反射し偏向走査する偏向手段と、を備えた光走査装置における戻り光識別方法であって、
    前記光源から所定の光量の出射光を出射する第1ステップと、
    前記光量検出手段で検出された前記光量が所定の基準値を超えているか否かを判定する第2ステップと、
    前記光源から前記所定の光量の前記出射光が出射されている状態で所定の期間待機する第3ステップと、
    前記光量検出手段で検出された前記光量が所定の基準値を超えているか否かを判定する第4ステップと、
    前記第2ステップにおいて前記光量が前記所定の基準値を超えており、前記第4ステップにおいて前記光量が前記所定の基準値を超えていない場合に、戻り光が発生したことを識別し、前記第2ステップ及び前記第4ステップにおいて前記光量が前記所定の基準値を超えている場合に、戻り光が発生していないことを識別する第5ステップと、を有することを特徴とする戻り光識別方法。
  15. 前記第2ステップから前記第5ステップまでを基準サイクルとし、前記基準サイクルを所定の回数繰り返し実行することを特徴とする請求項14記載の戻り光識別方法。
  16. 前記第4ステップと前記第5ステップとの間に、更に、前記光源から前記所定の光量の前記出射光が出射されている状態で所定の期間待機するステップ及び前記光量検出手段で検出された前記光量が所定の基準値を超えているか否かを判定するステップを所定の回数繰り返し実行することを特徴とする請求項14又は15記載の戻り光識別方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011035190A (ja) 2009-08-03 2011-02-17 Ricoh Co Ltd マルチビームレーザ光量制御回路および該マルチビームレーザ光量制御回路を具備する光走査装置
JP2012061757A (ja) * 2010-09-16 2012-03-29 Ricoh Co Ltd 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置
JP6191276B2 (ja) * 2013-06-25 2017-09-06 株式会社リコー 書込駆動制御装置、書込駆動制御方法、光書込装置、及び画像形成装置
JP7050024B2 (ja) * 2019-03-25 2022-04-07 京セラSoc株式会社 レーザ装置

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63124971A (ja) 1986-11-14 1988-05-28 Nec Corp レ−ザ−ダイオ−ド駆動制御装置
JPH05191603A (ja) 1991-03-05 1993-07-30 Ricoh Co Ltd Ldドライブ回路
JPH05243652A (ja) 1992-02-28 1993-09-21 Kyocera Corp レーザーダイオードの発光制御装置
JP3231436B2 (ja) * 1992-11-16 2001-11-19 旭光学工業株式会社 レーザ発光装置の光出力切替装置
US5986687A (en) * 1996-11-11 1999-11-16 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Laser scan based recording apparatus
US6151056A (en) * 1996-11-11 2000-11-21 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Laser scan based recording apparatus
JP4026918B2 (ja) * 1998-03-02 2007-12-26 キヤノン株式会社 レーザ駆動装置およびその制御方法
JP3864547B2 (ja) 1998-03-20 2007-01-10 松下電器産業株式会社 レーザー駆動装置
JP3651252B2 (ja) 1998-04-13 2005-05-25 松下電器産業株式会社 レーザーダイオード駆動回路
JP2000258716A (ja) 1999-03-11 2000-09-22 Fuji Xerox Co Ltd 光走査装置
JP2001264011A (ja) 2000-03-17 2001-09-26 Fujitsu General Ltd 光学式タッチパネル装置
JP2003092453A (ja) 2001-09-18 2003-03-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd レーザー駆動回路
JP4267848B2 (ja) 2001-09-25 2009-05-27 株式会社リコー 画像符号化装置、画像復号装置、画像符号化方法、及び、画像復号方法
JP2003344798A (ja) * 2002-05-27 2003-12-03 Pentax Corp レーザ走査装置
US20040247185A1 (en) 2002-06-27 2004-12-09 Yutaka Sato Image processing apparatus and image processing method
JP4570862B2 (ja) * 2003-10-27 2010-10-27 株式会社リコー 半導体レーザ駆動回路
EP1605680A3 (en) * 2004-06-09 2007-12-26 Seiko Epson Corporation Apparatus for and method of forming image using oscillation mirror
JP4799011B2 (ja) * 2005-02-22 2011-10-19 キヤノン株式会社 レーザダイオード駆動回路
JP4906081B2 (ja) 2005-10-27 2012-03-28 株式会社リコー 光ビーム走査装置
JP2007200513A (ja) 2006-01-30 2007-08-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光ディスク装置のレーザー保護方法
JP5147331B2 (ja) * 2006-08-23 2013-02-20 キヤノン株式会社 レーザ光制御装置及び画像形成装置
JP4344391B2 (ja) 2007-04-02 2009-10-14 株式会社リコー 画像処理装置
JP2011035190A (ja) * 2009-08-03 2011-02-17 Ricoh Co Ltd マルチビームレーザ光量制御回路および該マルチビームレーザ光量制御回路を具備する光走査装置

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