JP5053204B2 - 半導体集積回路装置、半導体集積回路装置を用いた光走査装置及び戻り光識別方法並びに光走査装置を用いた画像形成装置 - Google Patents
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Description
図3は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置の要部を例示する構成図である。図3を参照するに、光走査装置10は、レーザユニット20と、書き込みユニット30とを有する。40は光走査装置10からレーザ光を照射する感光体である。
第1の実施の形態の図9及び図10の説明の中で、判定期間長、判定間隔、及び判定回数について説明したが、これらは戻り光特性(戻り光の発生する周期等)に応じて自由に設定できることが好ましい。判定期間長、判定間隔、及び判定回数を戻り光の特性に応じて適切な値に設定することにより、様々な戻り光に対応することができる。
本発明の第3の実施の形態に係る光走査装置は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10を構成するオン電流制御部25がオン電流制御部65に置換された点を除いて、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10と同様に構成されるため、オン電流制御部65以外の部分の説明は省略する。
本発明の第4の実施の形態に係る光走査装置は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10を構成するオン電流制御部25がオン電流制御部75に置換された点を除いて、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10と同様に構成されるため、オン電流制御部75以外の部分の説明は省略する。
本発明の第5の実施の形態に係る光走査装置は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10を構成するオン電流制御部25がオン電流制御部85に置換された点を除いて、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10と同様に構成されるため、オン電流制御部85以外の部分の説明は省略する。
図15は、本発明の第6の実施の形態に係る画像形成装置の概略構成を例示する断面図である。図15を参照するに、画像形成装置100は、本発明の第1の実施の形態に係る光走査装置10を用いて感光体に電子潜像を形成して画像を形成する画像形成装置である。画像形成装置100において、画像が形成されるべき用紙は、本体トレイ101あるいは手差しトレイ102にセットされ、本体トレイ101あるいは手差しトレイ102から給紙ローラ103にて用紙の搬送が開始される。給紙ローラ103による用紙の搬送に先立って、像担持体である感光体40が回転し、感光体40の表面は、クリーニングブレード105によってクリーニングされ、次に、帯電ローラ106で一様に帯電される。
20 レーザユニット
20a レーザダーオード(LD)
20b フォトディテクタ(PD)
20c APC回路
20d コリメータレンズ
20e アパーチャ
20f 半導体集積回路部
21 バイアス電流生成部
22 I/V変換部
23 比較部
24 バイアス電流制御部
25,55,65,75,85 オン電流制御部
25a,55a APCCP判定部
25b,55b,65b,85b カウンタ制御部
25c カウンタ部
26 D/A変換部
30 書き込みユニット
30a シリンドリカルレンズ
30b ポリゴンミラー
30c fθレンズ
31b 偏向面
40 感光体
41,42 スペーサ
43 ネジ
65d,75d オーバーフロー監視部
100 画像形成装置
101 本体トレイ
102 手差しトレイ
103 給紙ローラ
105 クリーニングブレード
106 帯電ローラ
108 現像ローラ
109 転写ローラ
110 トナー濃度センサ
111 定着ユニット
112 排紙ローラ
Claims (16)
- 光量検出手段に入射される入射光量に基づいて、光源から出射される出射光量を目標値になるように制御する半導体集積回路装置であって、
前記入射光量に対応する電圧と前記目標値に対応する基準電圧とを比較する比較手段と、
前記比較手段の比較結果に基づいて、前記光源に供給する駆動電流を制御する駆動電流制御手段と、を備え、
前記駆動電流制御手段は、前記入射光量が、不連続的に発生する戻り光の光量を含んでいるか否かを識別する戻り光識別手段を有することを特徴とする半導体集積回路装置。 - 前記戻り光識別手段は、前記入射光量に対応する電圧が前記基準電圧を超えているか否かを判定する判定手段を有し、
前記判定手段は、所定の判定間隔で実行される複数回の判定を基準サイクルとして前記基準サイクルを繰り返し実行し、
前記戻り光識別手段は、前記所定の判定間隔で実行される複数回の判定の結果が全て一致するか否かに基づいて、前記入射光量が、前記戻り光の光量を含んでいるか否かを識別することを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路装置。 - 前記判定間隔は、前記戻り光が発生する周期よりも短く設定されていることを特徴とする請求項2記載の半導体集積回路装置。
- 前記判定手段の行う1回の判定は、所定の判定期間に前記入射光量に対応する電圧と前記基準電圧とを複数回比較し、複数回の全てにおいて前記入射光量に対応する電圧が前記基準電圧を超えているか否かに基づいて行われることを特徴とする請求項2又は3記載の半導体集積回路装置。
- 前記判定期間は、前記戻り光が発生する期間よりも短く設定されていることを特徴とする請求項4記載の半導体集積回路装置。
- 前記戻り光識別手段は、前記判定手段の判定回数、前記判定間隔、及び前記判定期間のうちの少なくとも1つが、前記半導体集積回路装置の外部から任意に設定可能に構成されていることを特徴とする請求項2乃至5の何れか一項記載の半導体集積回路装置。
- 前記基準サイクルを繰り返す回数には、所定の上限値が設定されていることを特徴とする請求項2乃至6の何れか一項記載の半導体集積回路装置。
- 前記戻り光識別手段は、前記上限値が前記半導体集積回路装置の外部から任意に設定可能に構成されていることを特徴とする請求項7記載の半導体集積回路装置。
- 前記戻り光識別手段は、前記光源から出射される前記出射光量が所定の上限値を超えないこと監視する監視手段を有することを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項記載の半導体集積回路装置。
- 前記戻り光識別手段は、前記上限値が前記半導体集積回路装置の外部から任意に設定可能に構成されていることを特徴とする請求項9記載の半導体集積回路装置。
- 光源と、入射される光の光量を検出する光量検出手段と、請求項1乃至10の何れか一項記載の半導体集積回路装置と、前記光源から出射される出射光を偏向面で反射し偏向走査する偏向手段と、を備えた光走査装置。
- 前記戻り光は、前記出射光が、前記偏向手段の前記偏向面により反射され、前記光量検出手段に入射される光であることを特徴とする請求項11記載の光走査装置。
- 請求項11又は12記載の光走査装置を有し、前記半導体集積回路装置により所定の光量に制御された前記出射光を前記偏向手段により偏向走査して、感光体に電子潜像を形成して画像を形成することを特徴とする画像形成装置。
- 光源と、入射される光の光量を検出する光量検出手段と、前記光量検出手段の検出結果に基づいて前記光源から出射される出射光の光量を制御する光量制御手段と、前記出射光を偏向面で反射し偏向走査する偏向手段と、を備えた光走査装置における戻り光識別方法であって、
前記光源から所定の光量の出射光を出射する第1ステップと、
前記光量検出手段で検出された前記光量が所定の基準値を超えているか否かを判定する第2ステップと、
前記光源から前記所定の光量の前記出射光が出射されている状態で所定の期間待機する第3ステップと、
前記光量検出手段で検出された前記光量が所定の基準値を超えているか否かを判定する第4ステップと、
前記第2ステップにおいて前記光量が前記所定の基準値を超えており、前記第4ステップにおいて前記光量が前記所定の基準値を超えていない場合に、戻り光が発生したことを識別し、前記第2ステップ及び前記第4ステップにおいて前記光量が前記所定の基準値を超えている場合に、戻り光が発生していないことを識別する第5ステップと、を有することを特徴とする戻り光識別方法。 - 前記第2ステップから前記第5ステップまでを基準サイクルとし、前記基準サイクルを所定の回数繰り返し実行することを特徴とする請求項14記載の戻り光識別方法。
- 前記第4ステップと前記第5ステップとの間に、更に、前記光源から前記所定の光量の前記出射光が出射されている状態で所定の期間待機するステップ及び前記光量検出手段で検出された前記光量が所定の基準値を超えているか否かを判定するステップを所定の回数繰り返し実行することを特徴とする請求項14又は15記載の戻り光識別方法。
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