JP5052821B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5052821B2 JP5052821B2 JP2006152309A JP2006152309A JP5052821B2 JP 5052821 B2 JP5052821 B2 JP 5052821B2 JP 2006152309 A JP2006152309 A JP 2006152309A JP 2006152309 A JP2006152309 A JP 2006152309A JP 5052821 B2 JP5052821 B2 JP 5052821B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- exposed
- wafer
- mask
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
11・・・水晶ウエハ(被露光体)
12・・・マスク固定ステージ
13・・・水晶ウエハ(被露光体)固定ステージ
14・・・照明手段
15,21・・・支持アーム部
16・・・回動手段
17・・・マスク
18,22・・・基部
Claims (1)
- ステージ上に載置固定された、表面にマスクが配置された被露光体に向けて、照明手段から出射した光を、該マスクを介して該被露光体表面のレジストに照射露光させる構成の露光装置において、
少なくとも、
該被露光体を載置固定する被露光体固定ステージと、
該被露光体が載置固定された該被露光体固定ステージの周囲を、先端部に該被露光体固定ステージに固定された該被露光体に向かって光を照射する2個一対の照明手段を設けた支持アーム部を所定の角度ごとに回動させる回動手段とを具備し、
露光作業中は被露光体及び被露光体固定ステージは動かさずに、前記回動手段により該支持アーム部及び該照明手段のみを該被露光体固定ステージの周囲を回動させつつ、該照明手段よりの光により該被露光体固定ステージ上の該被露光体を露光させるように構成されていることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006152309A JP5052821B2 (ja) | 2006-05-31 | 2006-05-31 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006152309A JP5052821B2 (ja) | 2006-05-31 | 2006-05-31 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007322701A JP2007322701A (ja) | 2007-12-13 |
JP5052821B2 true JP5052821B2 (ja) | 2012-10-17 |
Family
ID=38855570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006152309A Expired - Fee Related JP5052821B2 (ja) | 2006-05-31 | 2006-05-31 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5052821B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5378426B2 (ja) * | 2011-01-25 | 2013-12-25 | 株式会社日立製作所 | エレベーター装置及びロープ検査装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05173335A (ja) * | 1991-12-25 | 1993-07-13 | Hitachi Cable Ltd | フォトレジスト等の露光方法 |
JPH05188599A (ja) * | 1992-01-17 | 1993-07-30 | Hitachi Cable Ltd | 立体露光法 |
JPH09319068A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-12-12 | Hitachi Cable Ltd | フォトマスク及びこれを用いた立体回路成形体の製造方法 |
JP3334569B2 (ja) * | 1996-09-27 | 2002-10-15 | ウシオ電機株式会社 | 照射角度を変えられるプロキシミティ露光装置 |
JP3786313B2 (ja) * | 1997-05-08 | 2006-06-14 | 九州日立マクセル株式会社 | メタルマスクの製造方法 |
JP3540174B2 (ja) * | 1998-10-12 | 2004-07-07 | ウシオ電機株式会社 | 斜めから光を照射するプロキシミティ露光方法 |
JP2002008522A (ja) * | 2000-06-16 | 2002-01-11 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | 電子放出素子の製造方法及び装置、電子放出素子形成用原版の製造方法及び装置、電子放出素子形成用原版、並びに、フィールドエミッションディスプレイ |
JP4791630B2 (ja) * | 2000-12-21 | 2011-10-12 | ウシオライティング株式会社 | 露光装置 |
JP4335781B2 (ja) * | 2004-07-16 | 2009-09-30 | シャープ株式会社 | 露光装置および露光方法 |
JP4758200B2 (ja) * | 2005-10-28 | 2011-08-24 | 京セラキンセキ株式会社 | 露光装置、及び露光方法 |
JP2010014811A (ja) * | 2008-07-01 | 2010-01-21 | Sony Corp | 露光方法および露光装置 |
-
2006
- 2006-05-31 JP JP2006152309A patent/JP5052821B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007322701A (ja) | 2007-12-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7239376B2 (en) | Method and apparatus for correcting gravitational sag in photomasks used in the production of electronic devices | |
KR101539153B1 (ko) | 노광 방법 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 | |
JP3356047B2 (ja) | ウエハ周辺露光装置 | |
TWI604278B (zh) | 曝光裝置和製造設備的方法 | |
US9013695B2 (en) | Projection aligner | |
CN101286012A (zh) | 投影曝光装置 | |
TW200809419A (en) | Alignment device and exposure apparatus | |
TWI550685B (zh) | 曝光設備及裝置製造方法 | |
US20050250292A1 (en) | Methods for forming backside alignment markers useable in semiconductor lithography | |
JP5052821B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2019521396A (ja) | 照明源としてのマイクロledアレイ | |
JP4758200B2 (ja) | 露光装置、及び露光方法 | |
US7136146B2 (en) | Exposure device and exposure method | |
KR102611765B1 (ko) | 오버레이 에러 감소를 위한 시스템 및 방법 | |
JP4799324B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JPH10135106A (ja) | 周辺露光装置 | |
TWI770570B (zh) | 描繪方法及描繪裝置 | |
JP5403297B2 (ja) | パターンジェネレータ、パターン形成装置及び露光装置 | |
JP2011164295A (ja) | 光学装置、光学素子交換装置、及び露光装置 | |
JP3219925B2 (ja) | 周辺露光装置及び周辺露光方法 | |
TWI696885B (zh) | 光罩處理方法及微影裝置 | |
JP2005032886A (ja) | マスクフレーム、露光方法及び露光装置 | |
JPH1116819A (ja) | 露光方法および基板ホルダ | |
US20040257680A1 (en) | Optical element holding system in projection optical system | |
JP6543061B2 (ja) | 基板矯正治具を用いる露光装置、及び基板矯正治具 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090522 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110602 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110808 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120110 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120703 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120725 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5052821 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150803 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |