JP5017821B2 - シンチレータ用単結晶及びその製造方法 - Google Patents
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Lu1−yMeyA1−xCexSiO5−z□z (8)
[式(8)中、Aは、LuとGd、Sc、Y、La、Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybからなるグループから選択された少なくとも1つの元素であり、Meは、H、Li、Be、B、C、N、Na、Mg、Al、P、S、Cl、K、Ca、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、As、Se、Rb、Sr、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Cs、Ba、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、Tl、Pb、Bi、U、Thからなるグループから選択された少なくとも1つの元素である。]で表されるものが記載されている。特許文献6において、Luに置換するMeとしてHからThまでの50以上の元素が記載されているが、これらはシンチレーション素子の切削及び製造中の結晶のクラッキングを防止する効果、並びに導波路素子内で導波路特性を作り出すために効果があると記載されている。また、これらの中でも、酸化度+4、+5、+6(例えば、Zr、Sn、Hf、As、V、Nb、Sb、Ta、Mo、W、Th)を有するイオンが原試薬内に存在すると、あるいは、その必要な量をシンチレーション材料に追加すると、結晶のクラック防止に有効である他に、酸素副格子内の空格子点の形成を妨げる旨も記載されている。
Y2−(x+y)LnxCeySiO5 (1)
[式(1)中、Lnは希土類元素に属する元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を示し、xは0以上2以下の数値を示し、yは0超0.2以下の数値を示す。]、下記一般式(2);
Gd2−(z+w)LnzCewSiO5 (2)
[式(2)中、Lnは希土類元素に属する元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を示し、zは0超2以下の数値を示し、wは0超0.2以下の数値を示す。]、又は下記一般式(4);
Gd2−(r+s)LurCesSiO5 (4)
[式(4)中、rは0超2以下の数値を示し、sは0超0.2以下の数値を示す。]で表されるセリウム付活珪酸塩化合物の単結晶、特にLnとしてイオン半径がTbよりも小さいDy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Y及びScからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を用いた単結晶(後述する一般式(3)で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物の単結晶)の場合、酸素の少ない中性若しくは還元雰囲気又は真空中で単結晶を育成又は冷却したり、又は単結晶の育成後に酸素の少ない中性若しくは還元雰囲気又は真空中、高温で単結晶の加熱を行ったりすると、蛍光出力のバックグランドが上昇し、蛍光出力の低下や蛍光特性のばらつきが大きくなることが判明した。
Y2−(x+y)LuxCeySiO5 (1)
ここで、式(1)中、xは0超2未満の数値を示し、yは0超0.2以下の数値を示し、2−(x+y)>0を満たす。
M+xO2 → MO2x (9)
[式(9)中、Mは元素、xは係数を示す。]
で表される酸化反応におけるΔGの数値がマイナス側に大きい程、その条件下で酸化物として存在しやすいものと考えられる。上述の計算ソフトによる計算の結果、温度2000℃、1気圧の窒素雰囲気中で酸素分圧が1×10−14気圧付近以下まで酸化物として存在する1種以上の元素が、本発明において好適に用いられる元素として挙げられる。
500≦Ta<(Tm−550) (5)
[式(5)中、Tm(単位:℃)は単結晶の融点を示す。]
で表される条件を満足する加熱温度Ta(単位:℃)で単結晶を更に加熱してもよい。
800≦Tb<(Tm−550) (6)
[式(6)中、Tm(単位:℃)は単結晶の融点を示す。]
で表される条件を満足する加熱温度Tb(単位:℃)で加熱し、更にその後に雰囲気を上述の酸素を含む雰囲気に置換して、その雰囲気中、300℃〜1500℃の加熱温度で単結晶を加熱してもよい。
800≦T3<(Tm3−550) (7)
[式(7)中、Tm3(単位:℃)は単結晶の融点を示す。]
で表される条件を満足する温度T3(単位:℃)で加熱してもよい。この加熱処理を施すことにより、結晶中の酸素欠損の増加を抑制すると同時に、Ce4+をCe3+により効率的に変化させることができる。
単結晶は公知のチョクラルスキー法に基づいて作製した。まず、直径50mm、高さ50mm、厚み2mmのIr製るつぼの中に、Gd2−(r+s)LurCesSiO5(r=1.8、s=0.003)単結晶の原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)を所定の量論組成になるように混合したもの500g、並びに酸化マグネシウム(MgO、純度99.99質量%)0.01774g(Mgとして0.0035質量%に相当)を準備して投入した。次に、高周波誘導加熱炉で融点(約2050℃)まで加熱し融解して溶融液を得た。なお、融点は電子式光高温計(チノー製、パイロスタMODEL UR−U、商品名)により測定した。
酸化マグネシウム(MgO、純度99.99質量%)0.01774gを炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)0.0441g(Caとして0.0088質量%に相当)に代えた以外は参考例1と同様にした。
Gd2−(r+s)LurCesSiO5(r=1.8、s=0.003)をY2−(x+y)LuxCeySiO5(x=1.8、y=0.003)に代え、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)を酸化イットリウム(Y2O3、純度99.99質量%)に代えた以外は実施例1と同様にした。
酸化マグネシウム(MgO、純度99.99質量%)0.01774gを酸化マグネシウム(MgO、純度99.99質量%)0.00443g(Mgとして0.00089質量%に相当)に代えた以外は参考例1と同様にした。
得られた単結晶インゴットから4mm×6mm×20mmの矩形の結晶サンプルを複数切り出すところまで、参考例1と同様にした。得られた結晶サンプルから任意に2個の結晶サンプルを抜き出し、白金板の上に載置して電気炉に投入した。次に、大気雰囲気中、約4時間かけて電気炉内を昇温し1200℃で12時間保持した後、約10時間かけて室温まで冷却した。続いてケミカルエッチング以降は参考例1と同様にした。
酸化マグネシウム(MgO、純度99.99質量%)0.01774gを酸化マグネシウム(MgO、純度99.99質量%)0.03549g(Mgとして0.0071質量%に相当)に代えた以外は参考例1と同様にした。
結晶を育成する際の育成炉内に、流量4L/minのN2ガスに加えて、流量10mL/minのO2ガスを流した以外は参考例2と同様にした。
炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)0.0441gを炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)0.0881g(Caとして0.0176質量%に相当)に代えた以外は参考例7と同様にした。
Gd2−(r+s)LurCesSiO5(r=1.8、s=0.003)をGd2−(r+s)LurCesSiO5(r=0.4、s=0.02)に代え、高周波誘導加熱炉での加熱温度を約2050℃からGd2−(r+s)LurCesSiO5(r=0.4、s=0.02)の融点(約1980℃)に代えた以外は参考例2と同様にした。
結晶を育成する際の育成炉内に、流量4L/minのN2ガスに加えて、流量10mL/minのO2ガスを流した以外は参考例9と同様にした。
酸化マグネシウムを用いない以外は参考例1と同様にした。
酸化マグネシウム(MgO、純度99.99質量%)0.01774gを酸化マグネシウム(MgO、純度99.99質量%)0.00018g(Mgとして0.000035質量%に相当)に代えた以外は参考例1と同様にした。
酸化マグネシウム(MgO、純度99.99質量%)0.01774gを炭酸ストロンチウム(SrCO3、純度99.99質量%)0.6507g(Srとして0.130質量%に相当)に代えた以外は単結晶の冷却まで参考例1と同様にした。得られた単結晶は、コーン部と直胴部との間の部分(肩部)が一部多結晶化しており、割れが多数発生したため、矩形サンプルの切り出しはできなかった。
酸化マグネシウム(MgO、純度99.99質量%)0.01774gを酸化タンタル(Ta2O5、純度99.99質量%)0.2431g(Taとして0.0486質量%に相当)に代えた以外は参考例1と同様にした。
炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)0.0441gを酸化タングステン(WO3、純度99.99質量%)0.2195g(Wとして0.0439質量%に相当)に代えた以外は参考例7と同様にした。
結晶を育成する際の育成炉内に、流量4L/minのN2ガスに加えて、流量10mL/minのO2ガスを流した以外は比較例1と同様にした。
炭酸カルシウムを用いない以外は参考例9と同様にした。
Claims (2)
- 下記一般式(1)で表されるセリウム付活珪酸塩化合物の単結晶であって、
Ca及びMgからなる群より選ばれる1種以上の元素を前記単結晶の全質量に対して0.00005〜0.1質量%含有するシンチレータ用単結晶(ただし、Lu(2−s)Y(s−t−u)CeuCatSiO5で表され、tが0.001〜0.05であり、uが0.0001〜0.1であり、sは(u+t)〜1の範囲である結晶を除く。)。
Y2−(x+y)LuxCeySiO5 (1)
[式(1)中、xは0超2未満の数値を示し、yは0超0.2以下の数値を示し、2−(x+y)>0を満たす。] - 請求項1に記載のシンチレータ用単結晶の製造方法であって、Ca及びMgからなる群より選ばれる1種以上の元素が構成元素として含まれる原料を準備する工程を有する、シンチレータ用単結晶の製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2783941C1 (ru) * | 2022-01-18 | 2022-11-22 | Акционерное общество "Науки и инновации" | Способ получения сцинтилляционного кристалла и изделий из него |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2874021B1 (fr) | 2004-08-09 | 2006-09-29 | Saint Gobain Cristaux Detecteu | Materiau scintillateur dense et rapide a faible luminescence retardee |
JP4760236B2 (ja) * | 2005-05-27 | 2011-08-31 | 日立化成工業株式会社 | 単結晶の熱処理方法 |
JP5017821B2 (ja) * | 2005-06-10 | 2012-09-05 | 日立化成工業株式会社 | シンチレータ用単結晶及びその製造方法 |
WO2008096889A1 (ja) | 2007-02-07 | 2008-08-14 | National Institute For Materials Science | ヨウ化物系単結晶体、その製造方法、およびヨウ化物系単結晶体からなるシンチレータ |
US20100092769A1 (en) * | 2007-03-23 | 2010-04-15 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Scintillator panel and method for manufacturing the same |
JP5521273B2 (ja) * | 2007-06-01 | 2014-06-11 | 日立化成株式会社 | シンチレータ用単結晶、シンチレータ用単結晶を製造するための熱処理方法、及びシンチレータ用単結晶の製造方法 |
US8999281B2 (en) | 2007-06-01 | 2015-04-07 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Scintillator single crystal, heat treatment method for production of scintillator single crystal, and method for production of scintillator single crystal |
US8257612B2 (en) | 2007-07-05 | 2012-09-04 | Cabot Corporation | Compositions having multiple responses to excitation radiation and methods for making same |
US8617422B2 (en) * | 2008-09-26 | 2013-12-31 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Use of codoping to modify the scintillation properties of inorganic scintillators doped with trivalent activators |
JP2015038219A (ja) * | 2009-06-29 | 2015-02-26 | 日立化成株式会社 | シンチレータ用単結晶、シンチレータ用単結晶を製造するための熱処理方法、及びシンチレータ用単結晶の製造方法 |
JP2011026547A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-02-10 | Hitachi Chem Co Ltd | シンチレータ用単結晶、シンチレータ用単結晶を製造するための熱処理方法、及びシンチレータ用単結晶の製造方法 |
TWI400470B (zh) * | 2009-10-30 | 2013-07-01 | Iner Aec Executive Yuan | 決定晶體穿透效應與偵檢效率以及偵檢效率校正之方法 |
JP5944903B2 (ja) | 2010-09-14 | 2016-07-05 | アブデルムーナイム・ファウジ・ゼルーク | 相互作用深さシンチレーション検出器 |
TWI486254B (zh) * | 2010-09-20 | 2015-06-01 | Nitto Denko Corp | 發光陶瓷層板及其製造方法 |
US9175420B2 (en) | 2010-09-30 | 2015-11-03 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Suppression of crystal growth instabilities during production of rare-earth oxyorthosilicate crystals |
FR2967420B1 (fr) * | 2010-11-16 | 2014-01-17 | Saint Gobain Cristaux Et Detecteurs | Materiau scintillateur a faible luminescence retardee |
WO2012066425A2 (en) | 2010-11-16 | 2012-05-24 | Saint-Gobain Cristaux Et Detecteurs | Scintillation compound including a rare earth element and a process of forming the same |
US10774440B2 (en) * | 2010-11-24 | 2020-09-15 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Crystal growth atmosphere for oxyorthosilicate materials production |
US20120126171A1 (en) | 2010-11-24 | 2012-05-24 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Crystal Growth Atmosphere For Oxyorthosilicate Materials Production |
US8062419B1 (en) | 2010-12-14 | 2011-11-22 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Rare-earth oxyorthosilicate scintillator crystals and method of making rare-earth oxyorthosilicate scintillator crystals |
WO2013058065A1 (ja) | 2011-10-18 | 2013-04-25 | 株式会社村田製作所 | 発光素子、その製造方法、及び発光デバイス |
EP2782976B1 (en) * | 2011-11-24 | 2019-11-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics Inc. | Luminescent material and a process of forming the same |
US20140061537A1 (en) * | 2012-04-13 | 2014-03-06 | Zecotek Imaging Systems Singapore Pte Ltd | Multi-doped lutetium based oxyorthosilicate scintillators having improved photonic properties |
JP2013253867A (ja) * | 2012-06-07 | 2013-12-19 | Furukawa Co Ltd | 放射線検出器、食品用放射線検出器、放射線検出器の製造方法、及び、放射線検出方法 |
US9328288B2 (en) | 2013-11-15 | 2016-05-03 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Rare-earth oxyorthosilicates with improved growth stability and scintillation characteristics |
JP6188024B2 (ja) * | 2014-05-01 | 2017-08-30 | 国立大学法人東北大学 | 発光体及び放射線検出器 |
WO2016135040A1 (en) | 2015-02-26 | 2016-09-01 | Saint-Gobain Cristaux & Détecteurs | Scintillation crystal including a co-doped rare earth silicate, a radiation detection apparatus including the scintillation crystal, and a process of forming the same |
CZ2015711A3 (cs) * | 2015-10-09 | 2016-10-19 | Crytur Spol S R O | Způsob zkrácení scintilační odezvy zářivých center scintilátoru a materiál scintilátoru se zkrácenou scintilační odezvou |
US11827826B2 (en) * | 2019-08-21 | 2023-11-28 | Meishan Boya Advanced Materials Co., Ltd. | Methods and devices for growing scintillation crystals |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2372439A1 (fr) * | 1976-11-26 | 1978-06-23 | Radiologie Cie Gle | Detecteur de rayons x a scintillateur, et appareil de radiologie comportant de tels detecteurs |
US4234792A (en) * | 1977-09-29 | 1980-11-18 | Raytheon Company | Scintillator crystal radiation detector |
US4883956A (en) * | 1985-12-23 | 1989-11-28 | Schlumberger Technology Corporation | Methods and apparatus for gamma-ray spectroscopy and like measurements |
JPH0535889Y2 (ja) | 1987-06-26 | 1993-09-10 | ||
GB2215449B (en) * | 1988-03-09 | 1991-07-10 | Yazaki Corp | Headlight moving apparatus for automotive vehicle |
US5025151A (en) * | 1988-10-06 | 1991-06-18 | Schlumberger Technology Corporation | Lutetium orthosilicate single crystal scintillator detector |
US4958080A (en) | 1988-10-06 | 1990-09-18 | Schlumberger Technology Corporation | Lutetium orthosilicate single crystal scintillator detector |
JPH0778215B2 (ja) * | 1990-04-20 | 1995-08-23 | 日立化成工業株式会社 | 単結晶シンチレータ及びそれを用いた地下層探査装置 |
US5264154A (en) * | 1990-04-20 | 1993-11-23 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Single crystal scintillator |
JP2701577B2 (ja) | 1991-04-23 | 1998-01-21 | 日立化成工業株式会社 | 単結晶の熱処理法 |
US5660627A (en) * | 1994-10-27 | 1997-08-26 | Schlumberger Technology Corporation | Method of growing lutetium oxyorthosilicate crystals |
US6278832B1 (en) | 1998-01-12 | 2001-08-21 | Tasr Limited | Scintillating substance and scintillating wave-guide element |
US6624420B1 (en) * | 1999-02-18 | 2003-09-23 | University Of Central Florida | Lutetium yttrium orthosilicate single crystal scintillator detector |
US6323489B1 (en) * | 1999-06-04 | 2001-11-27 | Regents Of The University Of California | Single crystal scinitillator |
US6210605B1 (en) * | 1999-07-26 | 2001-04-03 | General Electric Company | Mn2+ activated green emitting SrAL12O19 luminiscent material |
JP3877162B2 (ja) * | 2002-02-05 | 2007-02-07 | 日立化成工業株式会社 | Gso単結晶及びpet用シンチレータ |
JP2003277191A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Japan Science & Technology Corp | Yb混晶酸化物単結晶からなるシンチレータ用発光材料 |
EP1592987A2 (en) * | 2003-02-10 | 2005-11-09 | Digirad Corporation | Scintillator assembly with pre-formed reflector |
US7151261B2 (en) * | 2004-01-09 | 2006-12-19 | Crystal Photonics, Incorporated | Method of enhancing performance of cerium doped lutetium orthosilicate crystals and crystals produced thereby |
US7166845B1 (en) * | 2004-01-09 | 2007-01-23 | Crystal Photonics, Incorporated | Method of enhancing performance of cerium doped lutetium yttrium orthosilicate crystals and crystals produced thereby |
US7141794B2 (en) * | 2004-06-28 | 2006-11-28 | General Electric Company | Scintillator compositions, related processes, and articles of manufacture |
FR2874021B1 (fr) * | 2004-08-09 | 2006-09-29 | Saint Gobain Cristaux Detecteu | Materiau scintillateur dense et rapide a faible luminescence retardee |
WO2006054532A1 (ja) * | 2004-11-22 | 2006-05-26 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 希土類賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物輝尽性蛍光体の製造方法 |
JP4760236B2 (ja) * | 2005-05-27 | 2011-08-31 | 日立化成工業株式会社 | 単結晶の熱処理方法 |
JP4770337B2 (ja) * | 2005-05-27 | 2011-09-14 | 日立化成工業株式会社 | 単結晶の熱処理方法 |
JP5017821B2 (ja) * | 2005-06-10 | 2012-09-05 | 日立化成工業株式会社 | シンチレータ用単結晶及びその製造方法 |
US20070246663A1 (en) * | 2006-04-20 | 2007-10-25 | Jean-Pierre Tahon | Radiation image phosphor or scintillator panel |
US20070246660A1 (en) * | 2006-04-20 | 2007-10-25 | Jean-Pierre Tahon | Radiation image phosphor or scintillator panel |
US20070246662A1 (en) * | 2006-04-20 | 2007-10-25 | Jean-Pierre Tahon | Radiation image phosphor or scintillator panel |
EP1860463A1 (en) * | 2006-05-23 | 2007-11-28 | Agfa HealthCare NV | Radiation image phosphor or scintillator panel |
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Cited By (1)
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