JP5009778B2 - チルトステージ - Google Patents
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図1〜図4に示すように、チルトステージ1は、半導体ウェハ等の対象物(図示せず)を載置するための載置面2aを有するチルトテーブル2と、チルトテーブル2を滑動可能に支持する支持テーブル3とを有する。このチルトステージ1は、チルトテーブル2を第1及び第2のリニアアクチュエータ(第1及び第2のアクチュエータ)4,6で移動させ、支持テーブル3を第3のリニアアクチュエータ(第3のアクチュエータ)7で移動させることによって、載置面2aの傾斜角度調整及び回動角度調整が行われる。なお、図1に示すように、X及びYは水平面上で互いに90度をなし、鉛直方向をZ方向と定め、以下必要な場合にX、Y、Zを用いる。
図5〜図8に示すように、チルトステージ31は、半導体ウェハ等の対象物(図示せず)を載置するための載置面32aを有するチルトテーブル32と、チルトテーブル32を滑動可能に支持する支持テーブル33と、支持テーブル33を鉛直方向に移動させるエアシリンダ61とを有する。このチルトステージ31は、チルトテーブル32を第1及び第2のリニアアクチュエータ(第1及び第2のアクチュエータ)34,36で移動させ、支持テーブル33を第3のリニアアクチュエータ(第3のアクチュエータ)37で移動させることによって、載置面32aの傾斜角度調整及び回動角度調整が行われる。また、エアシリンダ(移動機構)61によって、高さ位置の調整も行われる。なお、図5に示すように、X及びYは水平面上で互いに90度をなし、鉛直方向をZ方向と定め、以下必要な場合にX、Y、Zを用いる。
Claims (9)
- 載置された対象物の傾斜角度調整を行うチルトステージにおいて、
前記対象物を載置する載置面を上面側に有し、球面状の滑動面を下面側に有するチルトテーブルと、
前記滑動面を支持する球面状の支持面を有する支持テーブルと、
一端が前記チルトテーブルに固定される第1の作動片と、
一端が前記チルトテーブルに固定されると共に、鉛直方向に延在する前記滑動面の中心軸線周りに、前記第1の作動片に対して0°及び180°を除く角度をなす位置に配置される第2の作動片と、
前記第1及び第2の作動片をそれぞれ鉛直方向に移動させる第1及び第2のアクチュエータと、
前記支持テーブルを前記中心軸線周りに回転可能に支持するベースプレートと、
前記支持テーブルを前記中心軸線周りに回転させる第3のアクチュエータと、を備え、
前記第1及び第2のアクチュエータは、前記支持テーブルに設けられ、
前記第3のアクチュエータは、前記ベースプレートに設けられていることを特徴とするチルトステージ。 - 前記第2の作動片は、前記中心軸線周りに、前記第1の作動片に対して直角をなす位置に配置されることを特徴とする請求項1記載のチルトステージ。
- 前記中心軸線周りに回転可能に支持されている前記支持テーブルに一端が固定された第3の作動片を更に備え、
前記第3のアクチュエータは、前記第3の作動片を水平方向に移動させることを特徴とする請求項1又は2記載のチルトステージ。 - 前記第1〜第3のアクチュエータは、気体の供給及び排出によって駆動するベローズであることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載のチルトステージ。
- 前記チルトテーブルと前記支持テーブルとは、鉛直方向に弾性を有する回転規制用板バネによって連結されていることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載のチルトステージ。
- 前記ベースプレートに設けられ、前記支持テーブルを鉛直方向に移動させる移動機構を更に備えることを特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載のチルトステージ。
- 前記移動機構は、エアシリンダであることを特徴とする請求項6記載のチルトステージ。
- 前記ベースプレートに設けられ、前記支持テーブルを鉛直方向に移動させる移動機構を更に備え、
前記第3のアクチュエータは、前記第3の作動片を水平方向に挟み込む一対のベローズアクチュエータを含むことを特徴とする請求項3記載のチルトステージ。 - 前記チルトテーブルは、前記チルトテーブルと前記支持テーブルとの間に空気圧源から圧縮空気が供給されることにより、非接触状態で前記支持テーブルに支持されることを特徴とする請求項1〜8の何れか一項に記載のチルトステージ。
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