JP5008876B2 - 触媒の製造方法 - Google Patents
触媒の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5008876B2 JP5008876B2 JP2006043637A JP2006043637A JP5008876B2 JP 5008876 B2 JP5008876 B2 JP 5008876B2 JP 2006043637 A JP2006043637 A JP 2006043637A JP 2006043637 A JP2006043637 A JP 2006043637A JP 5008876 B2 JP5008876 B2 JP 5008876B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- product
- catalyst
- fine particles
- mass
- aqueous slurry
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 272
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 36
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 218
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 213
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 185
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 116
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 85
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 76
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 67
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 67
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 67
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 57
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 52
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 49
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 40
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 claims description 40
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 35
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 34
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 32
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 28
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 26
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 26
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 22
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 22
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 16
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 14
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 9
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 claims description 9
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 370
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 67
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 36
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 29
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N iron(3+);trinitrate Chemical compound [Fe+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 12
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- -1 organic acid salts Chemical class 0.000 description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trinitrate Chemical compound [Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 8
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 8
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UQPIHEAYJUTWPA-UHFFFAOYSA-N [Ni].[Fe].[Bi].[Mo] Chemical compound [Ni].[Fe].[Bi].[Mo] UQPIHEAYJUTWPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 5
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTDQFVRSJWCWNK-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Bi].[Mo] Chemical compound [Fe].[Bi].[Mo] DTDQFVRSJWCWNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 4
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 3
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 3
- PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N chromium trinitrate Chemical compound [Cr+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 description 3
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 2
- 229910000619 316 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 2
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 2
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTHYXYOJKHGZJT-UHFFFAOYSA-N rubidium nitrate Inorganic materials [Rb+].[O-][N+]([O-])=O RTHYXYOJKHGZJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 2
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- KHAUBYTYGDOYRU-IRXASZMISA-N trospectomycin Chemical compound CN[C@H]([C@H]1O2)[C@@H](O)[C@@H](NC)[C@H](O)[C@H]1O[C@H]1[C@]2(O)C(=O)C[C@@H](CCCC)O1 KHAUBYTYGDOYRU-IRXASZMISA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical group [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Chemical group 0.000 description 2
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical group [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical group [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- QYIGOGBGVKONDY-UHFFFAOYSA-N 1-(2-bromo-5-chlorophenyl)-3-methylpyrazole Chemical compound N1=C(C)C=CN1C1=CC(Cl)=CC=C1Br QYIGOGBGVKONDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N Cyanamide Chemical compound NC#N XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710156645 Peptide deformylase 2 Proteins 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001621 bismuth Chemical class 0.000 description 1
- 229940036348 bismuth carbonate Drugs 0.000 description 1
- 150000001622 bismuth compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000380 bismuth sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(III) oxide Inorganic materials O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- GMZOPRQQINFLPQ-UHFFFAOYSA-H dibismuth;tricarbonate Chemical compound [Bi+3].[Bi+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O GMZOPRQQINFLPQ-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- BEQZMQXCOWIHRY-UHFFFAOYSA-H dibismuth;trisulfate Chemical compound [Bi+3].[Bi+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O BEQZMQXCOWIHRY-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000004231 fluid catalytic cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000014413 iron hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N iron(2+);dinitrate Chemical compound [Fe+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L iron(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Fe+2] NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);dinitrate Chemical compound [Mn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ni+2] BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/002—Mixed oxides other than spinels, e.g. perovskite
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/76—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/84—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/85—Chromium, molybdenum or tungsten
- B01J23/88—Molybdenum
- B01J23/887—Molybdenum containing in addition other metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/8876—Arsenic, antimony or bismuth
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/76—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/84—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/85—Chromium, molybdenum or tungsten
- B01J23/88—Molybdenum
- B01J23/887—Molybdenum containing in addition other metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/8878—Chromium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/76—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/84—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/889—Manganese, technetium or rhenium
- B01J23/8898—Manganese, technetium or rhenium containing also molybdenum
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/40—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by dimensions, e.g. grain size
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/50—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their shape or configuration
- B01J35/51—Spheres
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/0009—Use of binding agents; Moulding; Pressing; Powdering; Granulating; Addition of materials ameliorating the mechanical properties of the product catalyst
- B01J37/0027—Powdering
- B01J37/0036—Grinding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/0009—Use of binding agents; Moulding; Pressing; Powdering; Granulating; Addition of materials ameliorating the mechanical properties of the product catalyst
- B01J37/0027—Powdering
- B01J37/0045—Drying a slurry, e.g. spray drying
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/009—Preparation by separation, e.g. by filtration, decantation, screening
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/24—Preparation of carboxylic acid nitriles by ammoxidation of hydrocarbons or substituted hydrocarbons
- C07C253/26—Preparation of carboxylic acid nitriles by ammoxidation of hydrocarbons or substituted hydrocarbons containing carbon-to-carbon multiple bonds, e.g. unsaturated aldehydes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2523/00—Constitutive chemical elements of heterogeneous catalysts
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
粒径分布が適切に調整された触媒を、経済的に製造する方法が、特許文献6〜9に開示されている。しかし、これらの方法を適用しても、製造の際の作業性に問題があったり、触媒の活性および物性に悪影響があったりし、満足な結果が得られていない。
例えば、噴霧乾燥前の水性スラリーに、噴霧乾燥で得られた乾燥物の粉砕品を添加する方法(特許文献9)では、アクリロニトリル選択率および触媒の強度が低下することが示唆される。噴霧乾燥前の水性スラリーに、二次焼成で得られた触媒の粉砕品を添加する方法(特許文献6、7)では、粉砕品を増量するにつれて触媒の強度が低下する。また、特許文献7に記載の方法では、作業性の問題もある。
また、使用済みの触媒を水とともに粉砕して水性スラリーとし、触媒を再生する方法が、特許文献10に開示されている。しかし、再生された触媒の強度は不充分である。
このような状況から、アクリロニトリルの選択率および収率が高く、触媒の強度が高く、かつ適切な粒径分布を有するモリブデン−ビスマス−鉄含有金属酸化物触媒を、経済的に製造する方法が求められている。
(a−1)モリブデン、ビスマス、鉄およびシリカを含む一次焼成品の微粒子であり、
(a−2)モリブデンの原子比を10としたときのビスマス、鉄およびケイ素の原子比が、水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であり、
(a−3)粒径10μm以下の微粒子を全微粒子(100質量%)中80〜100質量%含む。
また、前記一次焼成工程で得られた一次焼成品から、粒径が10μm以下の一次焼成品および/または粒径が200μm以上の一次焼成品を取り出すことが好ましい。
(b−1)モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを含む二次焼成品を粉砕した微粒子であり、
(b−2)モリブデンの原子比を10としたときのビスマス、ニッケル、鉄およびケイ素の原子比が、水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であり、
(b−3)粒径5μm以下の微粒子を全微粒子(100質量%)中80〜100質量%含み、
(c−1)粉砕試験前の二次焼成品の二価金属モリブデイト結晶相における、α型およびβ型に由来するX線回折ピーク強度の比(X1=α型/β型)と、粉砕試験後の粉砕品の二価金属モリブデイト結晶相における、α型およびβ型に由来するX線回折ピーク強度の比(X2=α型/β型)との差(X2−X1)が、0.4〜10である二次焼成品を粉砕した微粒子である。
また、前記二次焼成工程で得られた二次焼成品から、粒径が10μm以下の二次焼成品および/または粒径が200μm以上の二次焼成品を取り出すことが好ましい。
(a’−1)モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを含む一次焼成品の微粒子であり、
(a’−2)モリブデンの原子比を10としたときのビスマス、ニッケル、鉄およびケイ素の原子比が、水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であり、
(a’−3)粒径10μm以下の微粒子を全微粒子(100質量%)中80〜100質量%含む。
本発明においては、乾燥物を300〜500℃で予備焼成することを「一次焼成」とし、該一次焼成で得られたものを「一次焼成品」とする。また、一次焼成以降に実施する510〜800℃の最終段階の焼成を「二次焼成」とし、該二次焼成で得られたものを「二次焼成品」とする。
また、「二次焼成品」は完成触媒のことであり、好ましくは新品触媒であるが、反応使用した後の使用済み触媒でもよい。本発明ではこれらを原料として使用することがあるため、混乱を避けるために一括して「二次焼成品」とする。
本発明の第1の実施形態は、モリブデン、ビスマス、鉄およびシリカを含む水性スラリーを調製する調製工程と、水性スラリーに後述の微粒子(a)を含有させる微粒子添加工程と、微粒子(a)を含む水性スラリーを乾燥して乾燥物を得る乾燥工程と、乾燥物を焼成して一次焼成品を得る一次焼成工程と、一次焼成品をさらに焼成して触媒を得る二次焼成工程と、必要に応じて前記一次焼成工程で得られた一次焼成品の一部を取り出し、これを粉砕する粉砕工程とを有する触媒の製造方法である。
水性スラリーは、触媒を構成する各元素の原料を混合することによって調製される。
各元素の原料としては、酸化物、または強熱することにより酸化物になり得る塩化物、硫酸塩、硝酸塩、アンモニウム塩、炭酸塩、水酸化物、有機酸塩、酸素酸、酸素酸塩、ヘテロポリ酸、ヘテロポリ酸塩、これらの混合物が挙げられる。
シリカ成分の原料としては、市販のシリカゾルが挙げられる。
これら原料の混合比は、最終的に得られる触媒中の各元素の組成比に応じて適宜調整すればよい。
調製工程の途中でpHの調整、加熱処理等を行ってもよい。また、溶液状態の各元素の原料は、あらかじめ複数の元素の原料を溶解したものであってもよく、pHの調整、加熱処理等を行ったものであってもよい。
微粒子(a)は、下記要件(a−1)〜(a−3)を満足するものである。
(a−1)モリブデン、ビスマス、鉄およびシリカを含む一次焼成品の微粒子であり、
(a−2)モリブデンの原子比を10としたときのビスマス、鉄およびケイ素の原子比が、水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であり、
(a−3)粒径10μm以下の微粒子を全微粒子(100質量%)中80〜100質量%含む。
微粒子(a)は、モリブデン、ビスマス、鉄、およびシリカを必須成分として含む一次焼成品の微粒子である。下記式(1)で表される組成のものが好適である。
Moa Bib Fec Qd Re Xf Yg Oh (SiO2)i ・・・(1)
微粒子(a)としては、後述の一次焼成工程で得られる一次焼成品を分級して取り出されたもの;後述の一次焼成工程で得られる一次焼成品を後述の粉砕工程で粉砕したもの;別バッチで得られた一次焼成品を分級して取り出されたもの;別バッチで得られた一次焼成品を粉砕したもの等が挙げられる。
よって、別バッチで得られた一次焼成品を微粒子(a)として用いた場合、微粒子(a)を構成する各元素の原子比と、水性スラリー中の各元素の原子比とは一致するとは限らない。したがって、目的の性能を有する触媒を得るためには、微粒子(a)におけるモリブデンの原子比を10としたときのビスマス、鉄およびケイ素の原子比が、微粒子(a)を添加する前の水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内である必要があり、±20%以内であることが好ましい。また、モリブデン、ビスマス、鉄およびケイ素以外の他の元素についても、微粒子(a)におけるモリブデンの原子比を10としたときの各元素の原子比が、微粒子(a)を添加する前の水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であることが好ましく、±20%以内であることがより好ましい。
微粒子(a)の各元素の原子比は、弗酸を用いて溶解してICP分析法により各元素濃度を求めることにより決定される。一次焼成品の履歴が比較的単純な場合は、履歴を元に算出することで代用してもよい。
微粒子(a)は、粒径10μm以下の微粒子を、全微粒子100質量%中、80〜100質量%含むものであり、95〜100質量%含むものが好ましい。また、微粒子(a)は、粒径5μm以下の微粒子を、全微粒子100質量%中、80〜100質量%含むものがより好ましく、95〜100質量%含むものが特に好ましい。粒径の下限は特に限定されない。粒径が10μmを超える粒子が水性スラリーに多く混入すると、最終的に得られる触媒の形状が悪化する。ここで「粒径」は、平均粒径ではなく、各々の微粒子の粒径を意味する。
微粒子(a)を水性スラリーに添加する際の添加手段、温度、圧力、雰囲気等の条件は、適宜設定すればよい。
微粒子(a)を含む水性スラリーは、通常、噴霧乾燥によって乾燥され、実質的に球状の乾燥物が得られる。
噴霧乾燥機としては、加圧ノズル式、二流体ノズル式、回転円盤式等の噴霧乾燥機が用いられる。
噴霧乾燥温度が極度に高い場合、触媒の形状が悪くなるので注意を要する。例えば、噴霧乾燥機へ導入される空気等の乾燥用ガスの温度は、100〜500℃が好ましく、150〜350℃がより好ましい。
噴霧乾燥の際の圧力および雰囲気は、適宜設定すればよい。
球状の乾燥物は、一次焼成されて一次焼成品となる。
一次焼成の温度は、300〜500℃であり、350〜450℃が好ましい。一次焼成の時間は、0.5〜10時間が好ましい。なお、一次焼成の温度は触媒を活性化させるためには低すぎるため、一次焼成品をそのまま触媒として用いるのは不適当である。
一次焼成の際のガス雰囲気は、酸素を含んだ酸化性ガス雰囲気であり、一部の工程で窒素等の不活性ガス雰囲気を使用してもよい。一次焼成の際のガス雰囲気としては、簡便であることから、空気が好ましい。
一次焼成に用いる炉としては、箱型炉、トンネル炉、回転炉、流動炉等が挙げられる。
乾燥物は吸湿して粒子同士の融着を起こしやすいのに対して、一次焼成品は融着を起こさないため長期保管が容易である。
一次焼成品は、さらに焼成されて二次焼成品、すなわち触媒となる。
二次焼成の温度は、510〜800℃であり、520〜700℃が好ましい。二次焼成の時間は、1〜15時間が好ましい。
二次焼成の際のガス雰囲気は、酸素を含んだ酸化性ガス雰囲気であってもよく、窒素等の不活性ガス雰囲気であってもよい。二次焼成の際のガス雰囲気としては、簡便であることから、空気が好ましい。
二次焼成に用いる炉としては、箱型炉、トンネル炉、回転炉、流動炉等が挙げられる。
二次焼成品も長期保管が容易である。
本発明の触媒の製造方法においては、必要に応じて一次焼成品の一部を取り出してもよい。
一次焼成品を取り出す場合、触媒に適さない微粒子および/または粗大粒子があれば、それらを優先して取り出すことが好ましい。触媒に適さない微粒子および/または粗大粒子の粒径は、流動層反応装置の種類、反応条件、触媒の粒子密度によって適宜決定すればよい。
微粒子および/または粗大粒子を取り出した後の一次焼成品においては、触媒に適さない粒径範囲のものが5質量%以下であることが好ましく、2質量%以下であることがより好ましい。
補給用触媒の製造を目的とする場合、極微粒子および粗大粒子の両方を含まず、かつ比較的小粒径側で狭い粒径分布を有する触媒が望まれるため、一次焼成品の取り出しは重要である。微粒子の含有量が少なくなれば、反応時の触媒ロスが少なくなり、触媒原単位が向上する。結果、廃触媒の発生量も激減し、操業上好ましい。また、反応中に微粒子の一部が飛散し、粒径分布が大きい方へ偏って、触媒の流動化状態が悪化し、触媒の性能が低下した場合には、所望の粒径範囲の補給触媒を反応系内に補給することにより、流動化状態の改善、触媒の性能の改善を果たすことができる。
必要に応じて、取り出した一次焼成品を粉砕して粒径が10μm以下の粉砕品を得てもよい。
一次焼成品の粉砕には、コロイドミル、ボールミル、振動ミル等の公知の粉砕機が用いられる。粉砕の際の粉砕手段、温度、圧力、雰囲気等の条件は、適宜設定すればよい。
粉砕方法としては、乾式粉砕または湿式粉砕が挙げられ、湿式粉砕が特に好ましい。湿式粉砕の際、一次焼成品に水を混合してもよく、また、溶液状態の各元素の原料または水性スラリーを混合してもよい。一次焼成品は、上述の粒径調整における分級等の操作に対して充分な強度を有するが、粉砕は比較的容易であり、湿式粉砕によれば短時間で大部分の粒子を所定の粒径以下にまで粉砕することができる。
湿式粉砕の際、または粉砕品を水性スラリーに含ませた際、粉砕品から触媒成分が一部溶出する。その溶出成分が、触媒性能の向上に貢献しているものと考えられる。
また、乾式粉砕にて得られた粉砕品の保存可能期間は、未粉砕の一次焼成品に準ずる。一方、湿式粉砕にて得られた粉砕品の保存可能期間は、1ヶ月程度であり、2週間以内に用いることが好ましい。
二次焼成工程で得られる触媒は、モリブデン、ビスマス、鉄、およびシリカを必須成分として含むものである。触媒としては、アクリロニトリル収率の観点から、上記式(1)で表される組成のものが好適である。
触媒を流動層反応装置に充填し、この反応装置へ原料のプロピレン、酸素、およびアンモニア等を供給することによってアンモ酸化反応が実施され、アクリロニトリルを得ることができる。酸素源としては、経済上の理由から空気が好んで用いられ、空気を適当に酸素で富化してもよい。また、必要に応じて不活性ガス(例えば、窒素、水蒸気)、メタノール等を供給してもよい。
また、一次焼成工程で得られた一次焼成品から、粒径が10μm以下のものおよび/または粒径が200μm以上のものを取り出せば、流動層反応において良好な流動化状態に保持できる適切な粒径分布を有する触媒を得ることができ、結果、アクリロニトリルの選択率および収率がさらに高くなる。また、微粒子の含有量が少なくなれば、反応時の触媒ロスが少なく触媒原単位が向上する。それに応じて廃触媒の発生量も激減し、反応操業上好ましい。
また、取り出した一次焼成品を必要に応じて粉砕して、該粉砕品を微粒子(a)として前記水性スラリーに含有させるようにすれば、一次焼成された微粒子および/または粗大粒子を無駄にすることなく再使用でき、触媒の歩留まりが向上し、経済的である。
本発明の第2の実施形態は、モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを含む水性スラリーを調製する調製工程と、水性スラリーに後述の微粒子(b)を含有させる微粒子添加工程と、微粒子(b)を含む水性スラリーを乾燥して乾燥物を得る乾燥工程と、乾燥物を焼成して一次焼成品を得る一次焼成工程と、一次焼成品をさらに焼成して触媒を得る二次焼成工程と、必要に応じて前記二次焼成工程で得られた二次焼成品の一部を取り出し、これを粉砕する粉砕工程とを有する触媒の製造方法である。
水性スラリーは、触媒を構成する各元素の原料を混合することによって調製される。
各元素の原料としては、酸化物、または強熱することにより酸化物になり得る塩化物、硫酸塩、硝酸塩、アンモニウム塩、炭酸塩、水酸化物、有機酸塩、酸素酸、酸素酸塩、ヘテロポリ酸、ヘテロポリ酸塩、これらの混合物が挙げられる。
ニッケル成分原料としては、水酸化ニッケル、酸化ニッケル、硝酸ニッケル等が挙げられる。
これら原料の混合比は、最終的に得られる触媒中の各元素の組成比に応じて適宜調整すればよい。
水性スラリーの調製法としては、第1の実施形態と同様の方法が適用できる。
微粒子(b)は、下記要件(b−1)〜(b−3)を満足するものである。
(b−1)モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを含む二次焼成品を粉砕した微粒子であり、
(b−2)モリブデンの原子比を10としたときのビスマス、ニッケル、鉄およびケイ素の原子比が、水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であり、
(b−3)粒径5μm以下の微粒子を全微粒子(100質量%)中80〜100質量%含む。
微粒子(b)は、モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを必須成分として含む二次焼成品を粉砕した微粒子である。下記式(2)で表される組成のものが好適である。
Moa Bib Fec Nid Ee Ff Gg Hh Oi・(SiO2)j ・・・(2)
微粒子(b)としては、後述の二次焼成工程で得られる二次焼成品を後述の粉砕工程で粉砕したもの;別バッチで得られた二次焼成品を粉砕したもの等が挙げられる。
よって、別バッチで得られた二次焼成品の粉砕品を微粒子(b)として用いた場合、微粒子(b)を構成する各元素の原子比と、水性スラリー中の各元素の原子比とは一致するとは限らない。したがって、目的の性能を有する触媒を得るためには、微粒子(b)におけるモリブデンの原子比を10としたときのビスマス、ニッケル、鉄およびケイ素の原子比が、微粒子(b)を添加する前の水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内である必要があり、±20%以内であることが好ましい。また、モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびケイ素以外の他の元素についても、微粒子(b)におけるモリブデンの原子比を10としたときの各元素の原子比が、微粒子(b)を添加する前の水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であることが好ましく、±20%以内であることがより好ましい。
微粒子(b)の各元素の原子比は、弗酸を用いて溶解してICP分析法により各元素濃度を求めることにより決定される。二次焼成品の履歴が比較的単純な場合は、履歴を元に算出することで代用してもよい。
微粒子(b)は、粒径5μm以下の微粒子を、全微粒子100質量%中、80〜100質量%含むものであり、95〜100質量%含むものが好ましい。粒径の下限は特に限定されない。粒径が5μmを超える粒子が水性スラリーに多く混入すると、粉砕程度が低過ぎるためか本発明の効果が低くなる。また粒径が10μmを超える粒子が水性スラリーに多く混入すると、最終的に得られる触媒の形状が悪化する。ここで「粒径」は、平均粒径ではなく、各々の微粒子の粒径を意味する。
条件(c−1):
二次焼成品(c)は、粉砕試験前の二次焼成品の二価金属モリブデイト結晶相における、α型およびβ型に由来するX線回折ピーク強度の比(X1=α型/β型)と、粉砕試験後の粉砕品の二価金属モリブデイト結晶相における、α型およびβ型に由来するX線回折ピーク強度の比(X2=α型/β型)との差(X2−X1)が、0.4〜10である。
二価金属モリブデイト結晶相のα型、β型に由来するX線回折ピークは、各々d値が6.3A付近、6.8A付近に現れる。ピーク強度は、各々の回折線ピークの積分強度である。各々のピーク強度から、α型、β型に由来するX線回折ピーク強度の比(α型/β型)を求め、これを粉砕試験前(X1)と後(X2)について各々求めることで、その差(X2−X1)が算出される。
なお、粉末X線回折法のPDF−2データベースによると、β型の二価金属モリブデイト結晶相にはd値6.3A付近にも微少の回折ピークが現れるとされているが、本発明者らは、β型のみが存在する場合、当該回折ピークが現れないことを確認している。
例えば、触媒組成としては、上記式(2)で示される組成であることが好ましい。
シリカ成分の原料としてはコロイダルシリカを用いることが好ましい。用いるコロイダルシリカのコロイド粒子の大きさ(平均粒径)は、好ましくは2〜50nm、より好ましくは3〜30nm、さらに好ましくは5〜15nmである。
また、大きなコロイド粒子と小さなコロイド粒子を混合して使うことも有効である。大きなコロイド粒子の平均粒径は好ましくは40〜100nm、さらに好ましくは50〜80nmである。小さなコロイド粒子の平均粒径は好ましくは3〜30nm、さらに好ましくは5〜15nmである。大きなコロイド粒子の含有量は、乾燥品換算で全シリカ中5〜50%であることが好ましい。
製造条件では、スラリー調合に際してスラリー中の沈殿の種類と量を制御する必要があり、そのためには調合完了時のスラリーのpHを、好ましくは0〜5、さらに好ましくは0.5〜2.5の範囲に調整する。
また、スラリー調合についで実施する噴霧乾燥に際し、噴霧乾燥機の乾燥室内に流通させる熱風の温度を制御することも有効である。噴霧乾燥機の乾燥室内に流通させる熱風の、乾燥室内への導入口付近における温度は130〜350℃、さらに好ましくは140〜300℃である。乾燥室出口付近における温度は好ましくは100〜200℃、さらに好ましくは110〜180℃である。さらには、導入口付近における温度と、乾燥室出口付近における温度との差は20〜60℃、さらに好ましくは25〜45℃の範囲に保たれていることが好ましい。
さらに、焼成に際しては300〜500℃で一次焼成し、次いで510〜800℃で二次焼成することも有効である。
これらの方法を単独で、あるいは適宜組み合わせて用いることでα型の二価金属モリブデイト結晶相の生成し易さを制御しやすくなり、上記条件(c−1)を満足する二次焼成品(c)を得ることができる。
微粒子(b)を水性スラリーに添加する際の添加手段、温度、圧力、雰囲気等の条件は、適宜設定すればよい。
微粒子(b)を含む水性スラリーは、通常、噴霧乾燥によって乾燥され、実質的に球状の乾燥物が得られる。
乾燥工程は、第1の実施形態と同様に行えばよい。
球状の乾燥物は、一次焼成されて一次焼成品となる。
一次焼成工程は、第1の実施形態と同様に行えばよい。
一次焼成品は、さらに焼成されて二次焼成品、すなわち触媒となる。
二次焼成工程は、第1の実施形態と同様に行えばよい。
この時、二次焼成は一次焼成とはっきりと分離して実施してもよいし、一次焼成に連続して実施してもよい。例えばロータリーキルン等を用いて入口から出口に向かって温度が高くなるように設定し、最終的に510〜800℃で焼成してもよい。同様に、箱型炉等を用いて徐々に昇温しながら最終的に510〜800℃で焼成してもよい。なお、一次焼成と二次焼成を連続して実施する場合には、焼成終了時に得られたものを「二次焼成品」と見なす。
本発明の触媒の製造方法においては、必要に応じて二次焼成品の一部を取り出してもよい。
二次焼成品を取り出す場合、触媒に適さない微粒子および/または粗大粒子があれば、それらを優先して取り出すことが好ましい。触媒に適さない微粒子および/または粗大粒子の粒径は、流動層反応装置の種類、反応条件、触媒の粒子密度によって適宜決定すればよい。
微粒子および/または粗大粒子を取り出した後の二次焼成品においては、触媒に適さない粒径範囲のものが5質量%以下でありことが好ましく、2質量%以下であることがより好ましい。
補給用触媒の製造を目的とする場合、極微粒子および粗大粒子の両方を含まず、かつ比較的小粒径側で狭い粒径分布を有する触媒が望まれるため、二次焼成品の取り出しは重要である。微粒子の含有量が少なくなれば、反応時の触媒ロスが少なくなり、触媒原単位が向上する。結果、廃触媒の発生量も激減し、操業上好ましい。また、反応中に微粒子の一部が飛散し、粒径分布が大きい方へ偏って、触媒の流動化状態が悪化し、触媒の性能が低下した場合には、所望の粒径範囲の補給触媒を反応系内に補給することにより、流動化状態の改善、触媒の性能の改善を果たすことができる。
必要に応じて、取り出した二次焼成品を粉砕して粒径が5μm以下の粉砕品を得てもよい。
粉砕工程は、第1の実施形態における一次焼成品の粉砕工程と同様に行えばよい。
湿式粉砕の際、または粉砕品を水性スラリーに含ませた際、粉砕品から触媒成分が一部溶出する。その溶出成分が、触媒性能の向上に貢献しているものと考えられる。
また、乾式粉砕にて得られた粉砕品の保存可能期間は、未粉砕の二次焼成品に準ずる。一方、湿式粉砕にて得られた粉砕品の保存可能期間は、1ヶ月程度であり、2週間以内に用いることが好ましい。
二次焼成工程で得られる触媒は、モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄、およびシリカを必須成分として含むものである。触媒としては、アクリロニトリル収率の観点から、上記式(2)で表される組成のものが好適である。
触媒を流動層反応装置に充填し、この反応装置へ原料のプロピレン、酸素、およびアンモニア等を供給することによってアンモ酸化反応が実施され、アクリロニトリルを得ることができる。酸素源としては、経済上の理由から空気が好んで用いられ、空気を適当に酸素で富化してもよい。また、必要に応じて不活性ガス(例えば、窒素、水蒸気)、メタノール等を供給してもよい。
すなわち、従来のモリブデン−ビスマス−ニッケル−鉄含有金属酸化物触媒の二次焼成品を粉砕すると、極めて低アクリロニトリル収率のものに劣化してしまう現象について検討した結果、特開2005−59528号公報に記載されているように、触媒粒子を粉砕するときの衝撃でβ型の二価金属モリブデイト結晶相が減少しα型の二価金属モリブデイト結晶相が生成すること、およびα型の二価金属モリブデイト結晶相の生成がアクリロニトリル収率の低下を招いていることがわかった。そのため、この二次焼成品粉砕物を使用して特許文献6、7、10の方法にしたがって触媒を製造しても、低性能な触媒しか得られない。
つまり、ニッケルを含む従来の二次焼成品は粉砕すると低アクリロニトリル収率のものに劣化してしまうが、(X2−X1)が0.4〜10のものを水性スラリーに含ませると、最終的に得られる触媒はアクリロニトリル選択率および収率と、強度が向上する。詳しい理由はよくわからないが、二価金属モリブデイト結晶相の変化しやすさが適度であることは、スラリーに混合された粉砕劣化物が触媒製造工程で再び賦活される際に、周囲のスラリー成分と相互作用してなんらかの好ましい影響を与えあうことに有用なのではないかと考えている。一方、β型の二価金属モリブデイト結晶相が粉砕に対して不安定過ぎる(X2−X1)>10では、上記相互作用する能力が過剰でありバランスを崩すために、完成触媒の強度は向上するもののアクリロニトリル選択率および収率が低下するのではないかと考えている。また、β型の二価金属モリブデイト結晶相が非常に安定している(X2−X1)<0.4では上記相互作用する能力が劣るために、完成触媒のアクリロニトリル選択率および収率の増減少なく、強度も若干低下するのではないかと考えている。
また、取り出した二次焼成品を粉砕して、該粉砕品を微粒子(b)として前記水性スラリーに含有させるようにすれば、二次焼成された微粒子および/または粗大粒子を無駄にすることなく再使用でき、触媒の歩留まりが向上し、経済的である。
本発明の第3の実施形態は、第2の実施形態における微粒子添加工程にて、水性スラリーに上述の微粒子(b)とともに、後述の微粒子(a’)含有させる触媒の製造方法である。
(a’−1)モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを含む一次焼成品の微粒子であり、
(a’−2)モリブデンの原子比を10としたときのビスマス、ニッケル、鉄およびケイ素の原子比が、水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であり、
(a’−3)粒径10μm以下の微粒子を全微粒子(100質量%)中80〜100質量%含む。
微粒子(a’)は、モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを必須成分として含む一次焼成品の微粒子である。上記式(2)で表される組成のものが好適である。
微粒子(a’)としては、第2の実施形態の一次焼成工程で得られる一次焼成品を分級して取り出されたもの;第2の実施形態の一次焼成工程で得られる一次焼成品を後述の粉砕工程で粉砕したもの;別バッチで得られた一次焼成品を分級して取り出されたもの;別バッチで得られた一次焼成品を粉砕したもの等が挙げられる。
よって、別バッチで得られた一次焼成品を微粒子(a’)として用いた場合、微粒子(a’)を構成する各元素の原子比と、水性スラリー中の各元素の原子比とは一致するとは限らない。したがって、目的の性能を有する触媒を得るためには、微粒子(a’)におけるモリブデンの原子比を10としたときのビスマス、ニッケル、鉄およびケイ素の原子比が、微粒子(a’)を添加する前の水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内である必要があり、±20%以内であることが好ましい。また、モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびケイ素以外の他の元素についても、微粒子(a’)におけるモリブデンの原子比を10としたときの各元素の原子比が、微粒子(a’)を添加する前の水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であることが好ましく、±20%以内であることがより好ましい。
微粒子(a’)の各元素の原子比は、弗酸を用いて溶解してICP分析法により各元素濃度を求めることにより決定される。一次焼成品の履歴が比較的単純な場合は、履歴を元に算出することで代用してもよい。
微粒子(a’)は、粒径10μm以下の微粒子を、全微粒子100質量%中、80〜100質量%含むものであり、95〜100質量%含むものが好ましい。また、微粒子(a’)は、粒径5μm以下の微粒子を、全微粒子100質量%中、80〜100質量%含むものがより好ましく、95〜100質量%含むものが特に好ましい。粒径の下限は特に限定されない。粒径が10μmを超える粒子が水性スラリーに多く混入すると、最終的に得られる触媒の形状が悪化する。ここで「粒径」は、平均粒径ではなく、各々の微粒子の粒径を意味する。
微粒子(a’)および微粒子(b)の水性スラリーへの添加のタイミングは、第1および第2の実施形態と同様である。
微粒子(a’)および微粒子(b)を水性スラリーに添加する際の添加手段、温度、圧力、雰囲気等の条件は、適宜設定すればよい。
[比較例1]
実験式がMo10Bi0.35Fe1.7Ni5Mg1.7Ce0.5K0.04Rb0.04OX(SiO2)35で表される触媒を以下のように調製した。(xは各元素の原子価を満足するのに必要な酸素原子数である。)
(スラリー(A)の調製)
15質量%硝酸水溶液411質量部に、硝酸ニッケル339質量部、硝酸マグネシウム102質量部、硝酸セリウム50.6質量部、硝酸第二鉄160質量部、硝酸カリウム0.9質量部、硝酸ルビジウム1.4質量部、および硝酸ビスマス39.5質量部を順に攪拌しながら加えてスラリー(A)を得た。
(スラリー(B)の調製)
20質量%コロイダルシリカ2450質量部を40℃にて攪拌しながら、そこにパラモリブデン酸アンモニウム411質量部を純水822質量部に溶解したものを加えてスラリー(B)を得た。
(触媒の調製)
そして、スラリー(B)にスラリー(A)を攪拌しながら加えて、ホモジナイザー処理を施して、水性スラリーを完成させた。水性スラリーのpHは1.0(40℃)であった。その後、水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得た。一次焼成品をさらに600℃で3時間二次焼成して二次焼成品(触媒)を得た。
この二次焼成品の二価金属モリブデイト結晶相について、α型とβ型に各々由来するX線回折ピーク強度の比(α型/β型)の粉砕試験前(X1)と粉砕試験後(X2)との差(X2−X1)は2であった。
比較例1における一次焼成品について、サイクロンを用いて粒径調整し、粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離した。20〜100μmに整粒された一次焼成品を、600℃で3時間二次焼成して二次焼成品(触媒)を得た。
この二次焼成品の二価金属モリブデイト結晶相について、α型とβ型に各々由来するX線回折ピーク強度の比(α型/β型)の粉砕試験前(X1)と粉砕試験後(X2)との差(X2−X1)は2であった。
比較例2で得られた粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、全ての粒子を粒径10μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例1と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が10質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得た。サイクロンを用いて粒径調整し、粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離した。20〜100μmに整粒された一次焼成品を、610℃で3時間二次焼成して二次焼成品(触媒)を得た。
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が30質量%となるように加えた以外は、実施例1と同様にして触媒を得た。
[比較例3]
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が1質量%となるように加えた以外は、実施例1と同様にして触媒を得た。
[比較例4]
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が60質量%となるように加えた以外は、実施例1と同様にして触媒を得た。
実験式がMo10Bi0.5Fe1.3Ni5Mg1Cr0.4Ce0.6K0.05Rb0.05OX(SiO2)35で表される触媒を以下のように調製した。(xは各元素の原子価を満足するのに必要な酸素原子数である。)
(スラリー(C)の調製)
15質量%硝酸水溶液409質量部に、硝酸ニッケル337質量部、硝酸マグネシウム59.4質量部、40質量%硝酸第二クロム水溶液92.7質量部、硝酸セリウム60.4質量部、硝酸第二鉄122質量部、硝酸カリウム1.2質量部、硝酸ルビジウム1.7質量部、および硝酸ビスマス56.1質量部を順に攪拌しながら加えてスラリー(C)を得た。
(スラリー(D)の調製)
20質量%コロイダルシリカ2440質量部を40℃にて攪拌しながら、そこにパラモリブデン酸アンモニウム409質量部を純水818質量部に溶解したものを加えてスラリー(D)を得た。
(触媒の調製)
そして、スラリー(D)にスラリー(C)を攪拌しながら加えて、ホモジナイザー処理を施して、水性スラリーを完成させた。水性スラリーのpHは0.8(40℃)であった。その後、水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用い噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得た。一次焼成品について、サイクロンを用いて粒径調整し、粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離した。20〜100μm以上に整粒された一次焼成品を、570℃で3時間焼成して二次焼成品(触媒)を得た。
この二次焼成品の二価金属モリブデイト結晶相について、α型とβ型に各々由来するX線回折ピーク強度の比(α型/β型)の粉砕試験前(X1)と粉砕試験後(X2)との差(X2−X1)は4であった。
比較例5で得られた粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、全ての粒子を粒径10μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例5と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が10質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得た。サイクロンを用いて粒径調整し、粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離した。20〜100μmに整粒された一次焼成品を、580℃3時間二次焼成して触媒を得た。
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が20質量%となるように加えた以外は、実施例3と同様にして触媒を得た。
[実施例5]
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が45質量%となるように加えた以外は、実施例3と同様にして触媒を得た。
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が70質量%となるように加え、実施例3と同様にして触媒を得た。
[比較例7]
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が90質量%となるように加え、二次焼成を590℃で3時間行った以外は、実施例3と同様にして触媒を得た。
比較例5で得られた粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、粒径10μm以上の粒子が酸化物換算で30質量%残り、他が粒径10μm以下の粒子である粉砕品とした。この粉砕品を、比較例5と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が20質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得た。サイクロンを用いて粒径調整し、粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離した。20〜100μmに整粒された一次焼成品を、580℃3時間二次焼成して触媒を得た。
比較例2で得られた粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、全ての粒子を粒径10μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例5と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が10質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得た。サイクロンを用いて粒径調整し、粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離した。20〜100μmに整粒された一次焼成品を、580℃3時間二次焼成して触媒を得た。
モリブデンの原子比を10としたとき、比較例2の粉砕品中のビスマス、鉄およびケイ素の原子比は、比較例5の水性スラリー中の原子比に対して−30%(ビスマス)、+31%(鉄)、±0%(ケイ素)であった。
比較例5における乾燥物を取得し、これをボールミルで湿式粉砕し、全ての粒子を粒径10μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例5と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が20質量%となるように加えた。乾燥物の粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得た。サイクロンを用いて粒径調整し、粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離した。20〜100μmに整粒された一次焼成品を、570℃3時間二次焼成して触媒を得た。
比較例2で得られた二次焼成品を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、全ての粒子を粒径5μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例1と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が10質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し、さらに610℃で3時間二次焼成した。二次焼成品をサイクロンを用いて粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離して、20〜100μmに整粒された二次焼成品(触媒)を得た。
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が30質量%となるように加えた以外は、実施例7と同様にして触媒を得た。
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が1質量%となるように加え、二次焼成を600℃で3時間行った以外は、実施例7と同様にして触媒を得た。
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が60質量%となるように加えた以外は、実施例7と同様にして触媒を得た。
比較例5で得られた二次焼成品を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、全ての粒子を粒径5μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例5と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が20質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し、さらに580℃で3時間二次焼成した。二次焼成品をサイクロンを用いて粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離して、20〜100μmに整粒された二次焼成品(触媒)を得た。
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が45質量%となるように加えた以外は、実施例9と同様にして触媒を得た。
粉砕品を水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が60質量%となるように加え、二次焼成を580℃で3時間行った以外は、実施例9と同様にして触媒を得た。
比較例5で得られた二次焼成品を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、粒径20μm以上の粒子が酸化物換算で20質量%残り、他が粒径20μm以下の粒子である粉砕品とした。この粉砕品を、比較例5と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が20質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し、さらに580℃で3時間二次焼成した。二次焼成品をサイクロンを用いて粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離して、20〜100μmに整粒された二次焼成品(触媒)を得た。
比較例2で得られた二次焼成品を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、全ての粒子を粒径5μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例5と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が20質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し、さらに580℃で3時間二次焼成した。二次焼成品をサイクロンを用いて粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離して、20〜100μmに整粒された二次焼成品(触媒)を得た。
比較例5で得られた一次焼成品と二次焼成品を等質量ずつボールミルに入れて湿式粉砕し、全ての粒子を粒径5μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例5と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が20質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得た。サイクロンを用いて粒径調整し、粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離した。20〜100μmに整粒された一次焼成品を、580℃3時間二次焼成して二次焼成品(触媒)を得た。
実験式がMo10Bi0.5Fe1.1Ni6Cr0.8Ce0.4K0.2Na1.2OX(SiO2)35で表される触媒を以下のように調製した。(xは各元素の原子価を満足するのに必要な酸素原子数である。)
(スラリー(E)の調製)
15質量%硝酸水溶液411質量部に、硝酸ニッケル399質量部、硝酸クロム73.2質量部、硝酸セリウム39.7質量部、硝酸第二鉄102質量部、硝酸カリウム4.6質量部、硝酸ナトリウム23.3質量部、および硝酸ビスマス55.5質量部を順に攪拌しながら加えてスラリー(E)を得た。
(スラリー(F)の調製)
20質量%コロイダルシリカ2410質量部を40℃にて攪拌しながら、そこにパラモリブデン酸アンモニウム404質量部を純水808質量部に溶解したものを加えてスラリー(F)を得た。
(触媒の調製)
そして、スラリー(F)にスラリー(E)を攪拌しながら加えて、ホモジナイザー処理を施して、水性スラリーを完成させた。水性スラリーのpHは0.8(40℃)であった。その後、水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用い噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得た。一次焼成品について、サイクロンを用いて粒径調整し、粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離した。20〜100μmに整粒された一次焼成品を、670℃で3時間焼成して二次焼成品(触媒)を得た。
この二次焼成品の二価金属モリブデイト結晶相について、α型とβ型に各々由来するX線回折ピーク強度の比(α型/β型)の粉砕試験前(X1)と粉砕試験後(X2)との差(X2−X1)は15であった。
比較例14で得られた一次焼成品を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、全ての粒子を粒径10μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例14と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が30質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得た。サイクロンを用いて粒径調整し、粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離した。20〜100μmに整粒された一次焼成品を、680℃3時間二次焼成して二次焼成品(触媒)を得た。
比較例14で得られた二次焼成品を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、全ての粒子を粒径5μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例14と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が25質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得て、さらに680℃で3時間二次焼成した。二次焼成品をサイクロンを用いて粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離して、20〜100μmに整粒された二次焼成品(触媒)を得た。
実験式がMo10Bi0.3Fe1.5Ni2Mg3Mn1Ce0.4K0.2OX(SiO2)35で表される触媒を以下のように調製した。(xは各元素の原子価を満足するのに必要な酸素原子数である。)
(スラリー(G)の調製)
15質量%硝酸水溶液411質量部に、硝酸ニッケル140質量部、硝酸マグネシウム185質量部、硝酸マンガン68.9質量部、硝酸セリウム41.7質量部、硝酸第二鉄146質量部、硝酸カリウム4.9質量部および硝酸ビスマス34.9質量部を順に攪拌しながら加えてスラリー(G)を得た。
(スラリー(H)の調製)
20質量%コロイダルシリカ2520質量部を40℃にて攪拌しながら、そこにパラモリブデン酸アンモニウム424質量部を純水848質量部に溶解したものを加えてスラリー(H)を得た。
(触媒の調製)
そして、スラリー(H)にスラリー(G)を攪拌しながら加えて、ホモジナイザー処理を施して、水性スラリーを完成させた。水性スラリーのpHは1.0(40℃)であった。その後、水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得て、さらに570℃で3時間二次焼成した。二次焼成品をサイクロンを用いて粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離して、20〜100μmに整粒された二次焼成品(触媒)を得た。
この二次焼成品の二価金属モリブデイト結晶相について、α型とβ型に各々由来するX線回折ピーク強度の比(α型/β型)の粉砕試験前(X1)と粉砕試験後(X2)との差(X2−X1)は0.2であった。
比較例16で得られた一次焼成品を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、全ての粒子を粒径10μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例16と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が15質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得た。サイクロンを用いて粒径調整し、粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離した。20〜100μmに整粒された一次焼成品を、580℃3時間二次焼成して二次焼成品(触媒)を得た。
比較例16で得られた二次焼成品を、ボールミルを用いて湿式粉砕し、全ての粒子を粒径5μm以下の粉砕品とした。この粉砕品を、比較例16と同様に調製した水性スラリーに、最終的に得られる触媒中の粉砕品の酸化物換算含有量が25質量%となるように加えた。粉砕品を含有する水性スラリーを、回転円盤式噴霧乾燥機を用いて噴霧乾燥し、乾燥物を得た。乾燥物を400℃で2時間一次焼成し一次焼成品を得て、さらに570℃で3時間二次焼成した。二次焼成品をサイクロンを用いて粒径20μm以下の微粒子および100μm以上の粗大粒子を分級分離して、20〜100μmに整粒された二次焼成品(触媒)を得た。
(触媒性能)
触媒流動部の内径が2インチである流動層反応装置に、表1,2に記載の接触時間となるように触媒を充填した。そして、原料ガスとして、プロピレン、アンモニアおよび空気を、1/1.2/11(モル比)の割合で、15cm/secの線速度となるように、前記反応装置に供給した。反応温度は440℃、反応圧力は200kPaとした。生成物をガスクロマトグラフにより分析定量した。プロピレン転化率、アクリロニトリル収率およびアクリロニトリル選択率を、以下の式を用いて求めた。
プロピレン転化率(%)=Q/P×100、
アクリロニトリル収率(%)=R/P×100、
アクリロニトリル選択率(%)=R/Q×100。
ここで、Pは供給したプロピレンのモル数、Qは反応したプロピレンのモル数、Rは生成したアクリロニトリルのモル数を表す。
触媒の強度は以下2種類の方法により評価した。結果を表1および表2に示す。
(圧壊強度)
特開平9−70542号公報に記載の方法に準じて、触媒の圧壊強度の測定を行った。表に示した圧壊強度値は、島津製作所製「島津MCTM―200」を用い、以下の測定条件で測定した値によるものである。
圧子:上部加圧圧子、ダイヤモンド製、500μm平面圧子、
下部加圧版:SUS製、
負荷速度:0.72g重/sec.
サンプル:粒径45〜50μmの触媒。
流動接触分解触媒の耐磨耗性の試験法として知られる「Test Method for Synthetic Cracking Catalysts」、アメリカン・サイアナミド・カンパニー刊行、6/31−4m−1/57記載の方法に準じ、常温(管理された室内温度、10〜30℃)にて触媒の耐摩耗性を評価した。表に示した摩減損失(%)は、粒径44〜88μmに調整した触媒を50g採取し、約300m/sec.の高速気流による衝撃付与を20時間実施し、5〜20時間の触媒減量分を求めたものである。
触媒の粒径を、ベックマンコールター社製LS−130を用い、以下の測定条件で測定し、触媒中の微粒子(%)を求めた。ここでいう微粒子は、粒径が20μm以下のものである。
(試料の前処理条件)
分散媒:0.025質量%のヘキサメタリン酸ナトリウム水溶液。
試料濃度:0.1質量%。
分散条件:30Wの超音波バスで60秒間分散させた。
(測定条件)
試料濃度:装置に最適な条件に希釈した。
屈折率:シリカの屈折率に近似させた。
表1および表2の結果から、一次焼成品の粉砕品を適量混合した実施例1〜6の触媒は、比較基準の比較例2,5よりも、触媒性能および物性ともに良好であることが認められる。なお、実施例6は、水性スラリー中の各元素の原子比および一次焼成品の粉砕品中の各元素の原子比が異なる例であるが、原子比の差が特定の範囲内であるため、触媒性能および物性ともに良好であった。
一方、一次焼成品の粉砕品を60〜70質量%混合した比較例4、6の触媒は、摩減損失および圧壊強度が比較例2、5と同等以上であるものの、アクリロニトリル収率が低下した。一次焼成品の粉砕品を90質量%混合した比較例7では、アクリロニトリル収率がさらに低下するとともに、摩減損失が増加し、圧壊強度が低下した。一次焼成品の粉砕品を1質量%混合した比較例3の触媒は、基準の比較例2と同等性能であった。
比較例8では、粗大な一次焼成品の粉砕品を多く含むため、触媒の形状が悪くなり、アクリロニトリル収率は高いものの、摩減損失が増加し、圧壊強度が低下した。
比較例9は、一次焼成品の粉砕品の代わりに乾燥物の粉砕品を用いた例であり、アクリロニトリル収率が低下するとともに、摩減損失が増加し、圧壊強度が低下した。
なお、一次焼成品の粉砕品を混合すると、アクリロニトリル収率が最高となる焼成温度が若干高くなる傾向を示した。これもまた、本発明の製造方法によって得られた触媒が、特許文献7に記載された、触媒を水性スラリーに加えて得られたものとは異なることを示唆していると考えられる。
一方、二次焼成品の粉砕品を60質量%混合した比較例11,12の触媒は、摩減損失および圧壊強度が比較例2、5と同等以上であるものの、アクリロニトリル収率が低下した。
なお、二次焼成品の粉砕品を混合した場合も、アクリロニトリル収率が最高となる焼成温度が若干高くなる傾向を示した。これもまた、本発明の製造方法によって得られた触媒が、特許文献7に記載された、触媒を水性スラリーに加えて得られたものとは異なることを示唆していると考えられる。
Claims (7)
- プロピレンを分子状酸素およびアンモニアにより気相接触アンモ酸化してアクリロニトリルを合成する際に用いられる触媒の製造方法であって、
モリブデン、ビスマス、鉄およびシリカを含む水性スラリーを調製する調製工程と、
水性スラリーを乾燥して粒状の乾燥物を得る乾燥工程と、
乾燥物を焼成して一次焼成品を得る一次焼成工程と、
一次焼成品をさらに焼成して二次焼成品を得る二次焼成工程と
を有し、
調製工程の際に、下記要件(a−1)〜(a−3)を満足する微粒子(a)を、前記水性スラリーに含有させて、触媒を構成する元素(酸化物換算)100質量%のうち微粒子(a)に由来する元素(酸化物換算)を5〜50質量%とすることを特徴とする触媒の製造方法。
(a−1)モリブデン、ビスマス、鉄およびシリカを含む一次焼成品の微粒子であり、
(a−2)モリブデンの原子比を10としたときのビスマス、鉄およびケイ素の原子比が、水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であり、
(a−3)粒径10μm以下の微粒子を全微粒子(100質量%)中80〜100質量%含む。 - 前記一次焼成工程で得られた一次焼成品の一部を取り出し、これを粉砕して粒径が10μm以下の粉砕品を得る粉砕工程をさらに有し、
該粉砕品を前記微粒子として前記水性スラリーに含有させる、請求項1記載の触媒の製造方法。 - 前記一次焼成工程で得られた一次焼成品から、粒径が10μm以下の一次焼成品および/または粒径が200μm以上の一次焼成品を取り出す、請求項2記載の触媒の製造方法。
- プロピレンを分子状酸素およびアンモニアにより気相接触アンモ酸化してアクリロニトリルを合成する際に用いられる触媒の製造方法であって、
モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを含む水性スラリーを調製する調製工程と、
水性スラリーを乾燥して粒状の乾燥物を得る乾燥工程と、
乾燥物を焼成して一次焼成品を得る一次焼成工程と、
一次焼成品をさらに焼成して二次焼成品を得る二次焼成工程と
を有し、
調製工程の際に、下記要件(b−1)〜(b−3)および(c−1)を満足する微粒子(b)を、前記水性スラリーに含有させて、触媒を構成する元素(酸化物換算)100質量%のうち微粒子(b)に由来する元素(酸化物換算)を5〜50質量%とすることを特徴とする触媒の製造方法。
(b−1)モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを含む二次焼成品を粉砕した微粒子であり、
(b−2)モリブデンの原子比を10としたときのビスマス、ニッケル、鉄およびケイ素の原子比が、水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であり、
(b−3)粒径5μm以下の微粒子を全微粒子(100質量%)中80〜100質量%含み、
(c−1)粉砕試験前の二次焼成品の二価金属モリブデイト結晶相における、α型およびβ型に由来するX線回折ピーク強度の比(X1=α型/β型)と、粉砕試験後の粉砕品の二価金属モリブデイト結晶相における、α型およびβ型に由来するX線回折ピーク強度の比(X2=α型/β型)との差(X2−X1)が、0.4〜10である二次焼成品を粉砕した微粒子である。 - 前記二次焼成工程で得られた二次焼成品の一部を取り出し、これを粉砕して粒径が5μm以下の粉砕品を得る粉砕工程をさらに有し、
該粉砕品を前記微粒子(b)として前記水性スラリーに含有させる、請求項4記載の触媒の製造方法。 - 前記二次焼成工程で得られた二次焼成品から、粒径が10μm以下の二次焼成品および/または粒径が200μm以上の二次焼成品を取り出す、請求項5記載の触媒の製造方法。
- プロピレンを分子状酸素およびアンモニアにより気相接触アンモ酸化してアクリロニトリルを合成する際に用いられる触媒の製造方法であって、
モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを含む水性スラリーを調製する調製工程と、
水性スラリーを乾燥して粒状の乾燥物を得る乾燥工程と、
乾燥物を焼成して一次焼成品を得る一次焼成工程と、
一次焼成品をさらに焼成して二次焼成品を得る二次焼成工程と
を有し、
調製工程の際に、下記要件(a’−1)〜(a’−3)を満足する微粒子(a’)および下記要件(b−1)〜(b−3)および(c−1)を満足する微粒子(b)を、前記水性スラリーに含有させて、触媒を構成する元素(酸化物換算)100質量%のうち微粒子(a’)および微粒子(b)に由来する元素(酸化物換算)を合計で5〜50質量%とすることを特徴とする触媒の製造方法。
(a’−1)モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを含む一次焼成品の微粒子であり、
(a’−2)モリブデンの原子比を10としたときのビスマス、ニッケル、鉄およびケイ素の原子比が、水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であり、
(a’−3)粒径10μm以下の微粒子を全微粒子(100質量%)中80〜100質量%含む。
(b−1)モリブデン、ビスマス、ニッケル、鉄およびシリカを含む二次焼成品を粉砕した微粒子であり、
(b−2)モリブデンの原子比を10としたときのビスマス、ニッケル、鉄およびケイ素の原子比が、水性スラリー中のモリブデンの原子比を10としたときの、その元素の原子比に対して±40%以内であり、
(b−3)粒径5μm以下の微粒子を全微粒子(100質量%)中80〜100質量%含み、
(c−1)粉砕試験前の二次焼成品の二価金属モリブデイト結晶相における、α型およびβ型に由来するX線回折ピーク強度の比(X1=α型/β型)と、粉砕試験後の粉砕品の二価金属モリブデイト結晶相における、α型およびβ型に由来するX線回折ピーク強度の比(X2=α型/β型)との差(X2−X1)が、0.4〜10である二次焼成品を粉砕した微粒子である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006043637A JP5008876B2 (ja) | 2005-02-22 | 2006-02-21 | 触媒の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005045307 | 2005-02-22 | ||
JP2005045307 | 2005-02-22 | ||
JP2006043637A JP5008876B2 (ja) | 2005-02-22 | 2006-02-21 | 触媒の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006263715A JP2006263715A (ja) | 2006-10-05 |
JP5008876B2 true JP5008876B2 (ja) | 2012-08-22 |
Family
ID=37200230
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006043637A Expired - Fee Related JP5008876B2 (ja) | 2005-02-22 | 2006-02-21 | 触媒の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5008876B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4970986B2 (ja) * | 2007-03-08 | 2012-07-11 | 株式会社日本触媒 | 複合酸化物触媒の製造方法および該触媒を用いた不飽和アルデヒドおよび/または不飽和カルボン酸の製造方法 |
JP5378041B2 (ja) * | 2009-04-07 | 2013-12-25 | 三菱レイヨン株式会社 | アクリロニトリル合成用複合酸化物触媒の製造方法 |
JP5919870B2 (ja) * | 2012-02-17 | 2016-05-18 | 三菱レイヨン株式会社 | アクリロニトリル製造用触媒の製造方法および該アクリロニトリル製造用触媒を用いたアクリロニトリルの製造方法 |
US8835666B2 (en) | 2012-11-26 | 2014-09-16 | Ineos Usa Llc | Pre calcination additives for mixed metal oxide ammoxidation catalysts |
JP6373523B1 (ja) | 2017-06-19 | 2018-08-15 | 旭化成株式会社 | 化合物の製造方法 |
BR112021003208A2 (pt) | 2018-08-23 | 2021-05-11 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | método para produzir catalisador para amoxidação e método para produzir acrilonitrila |
CN112705231B (zh) * | 2020-12-29 | 2023-11-14 | 常州大学 | 一种低羰基化合物含量甲醇合成催化剂及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5315471B2 (ja) * | 1972-08-24 | 1978-05-25 | ||
JPS52140490A (en) * | 1976-05-19 | 1977-11-24 | Nitto Chem Ind Co Ltd | Production of fluid catalyst containing antimony oxide |
DE4200248A1 (de) * | 1992-01-08 | 1993-07-15 | Basf Ag | Verfahren zur regenerierung von metalloxid-katalysatoren |
JP3296146B2 (ja) * | 1995-06-30 | 2002-06-24 | 住友化学工業株式会社 | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸の製造方法 |
JPH1157479A (ja) * | 1997-08-08 | 1999-03-02 | Mitsubishi Chem Corp | 炭化水素の気相接触酸化反応触媒の製造方法 |
JP2001029788A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-02-06 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | モリブデン−ビスマス−鉄含有金属酸化物流動層触媒の製法 |
JP4385587B2 (ja) * | 2001-11-09 | 2009-12-16 | 三菱化学株式会社 | 複合酸化物触媒の製造方法 |
JP4424192B2 (ja) * | 2003-12-17 | 2010-03-03 | 三菱化学株式会社 | 複合酸化物触媒の製造方法 |
-
2006
- 2006-02-21 JP JP2006043637A patent/JP5008876B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006263715A (ja) | 2006-10-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6740769B1 (en) | Molybdenum-bismuth-iron-containing metal oxide catalysts for fluidized layer, method for preparation thereof, and use thereof | |
JP5008876B2 (ja) | 触媒の製造方法 | |
JP5919870B2 (ja) | アクリロニトリル製造用触媒の製造方法および該アクリロニトリル製造用触媒を用いたアクリロニトリルの製造方法 | |
JP4242197B2 (ja) | アクリロニトリル合成用触媒 | |
JP5011176B2 (ja) | アクリロニトリル合成用触媒およびアクリロニトリルの製造方法 | |
JP4954750B2 (ja) | モリブデン、ビスマス、鉄、シリカ含有複合酸化物触媒の製造方法 | |
JP5832785B2 (ja) | アンモ酸化用触媒、その製造方法及びアクリロニトリル又はメタクリロニトリルの製造方法 | |
JP2010172851A (ja) | アクリロニトリルの製造用触媒及びアクリロニトリルの製造方法 | |
JP5361034B2 (ja) | 流動床用アンモ酸化触媒及びそれを用いたアクリロニトリル又はメタクリロニトリルの製造方法 | |
WO2017130909A1 (ja) | 流動床アンモ酸化反応触媒及びアクリロニトリルの製造方法 | |
EP2098288B1 (en) | Catalyst for producing acrylonitrile and process for producing acrlyonitrile | |
KR101735862B1 (ko) | 복합 산화물 촉매의 제조 방법 | |
JP5011178B2 (ja) | アクリロニトリル合成用触媒の製造方法およびアクリロニトリルの製造方法 | |
JP2010131575A (ja) | アクリロニトリル合成用触媒の製造方法およびアクリロニトリルの製造方法 | |
JP4503444B2 (ja) | アクリロニトリル製造用触媒、及びアクリロニトリルの製造方法 | |
JP5210835B2 (ja) | アクリロニトリル合成用触媒の製造方法およびアクリロニトリルの製造方法 | |
JP5378041B2 (ja) | アクリロニトリル合成用複合酸化物触媒の製造方法 | |
JP5042658B2 (ja) | アクリロニトリル製造用触媒の製造方法、およびアクリロニトリルの製造方法 | |
JP5011177B2 (ja) | アクリロニトリル合成用触媒の製造方法およびアクリロニトリルの製造方法 | |
TWI757721B (zh) | 觸媒、觸媒之製造方法、丙烯腈之製造方法 | |
JP4762554B2 (ja) | アクリロニトリルの製造方法 | |
JP2005029528A (ja) | アクリロニトリルの製造方法 | |
JP2004141823A (ja) | メタクリル酸製造用触媒の製造方法およびメタクリル酸の製造方法 | |
JP2003251187A (ja) | メタクロレインおよび/またはメタクリル酸製造用触媒、その製造方法、および、メタクロレインおよび/またはメタクリル酸の製造方法 | |
TW201436860A (zh) | 丙烯腈製造用觸媒的製造方法及丙烯腈的製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081112 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100826 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120321 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120427 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120522 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120530 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5008876 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150608 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |