JP5000147B2 - 超音波加工機用の穿孔工具 - Google Patents
超音波加工機用の穿孔工具 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5000147B2 JP5000147B2 JP2006034883A JP2006034883A JP5000147B2 JP 5000147 B2 JP5000147 B2 JP 5000147B2 JP 2006034883 A JP2006034883 A JP 2006034883A JP 2006034883 A JP2006034883 A JP 2006034883A JP 5000147 B2 JP5000147 B2 JP 5000147B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pin
- resist film
- processing
- shaped member
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
System)分野における半導体デバイス用のガラスウェハでは、デバイスの小型化に伴い、貫通孔電極用の繊細かつ多孔を形成したガラスウェハのニーズが高まってきた。特に、携帯電話用デバイスなどではデバイスのより小型化が大きなニーズとなっている。現状、ガラス等のウェハ加工では、サンドフラスト加工法、ドリル加工法、超音波加工法が一般的に行われている。
サンドフラスト加工法は、加工の性質上、孔自体がテーパ状となり、ストレート孔の加工が必要な用途には向かなかった。特に昨今、ガラス基板に金属貫通電極(Viahole)を形成するガラスウェハの場合、基板の反りを低減するためにはストレート孔が求められる。
超音波加工法は、通常、SUSやニッケルなどピン状の加工用ピンを半田付けしたホーンと呼ばれる器具を用い遊離砥粒を使用する加工方法である。加熱製作によって形成され、加工ピンの変形などのため、繊細化・複数の加工ピン位置の高精度化・異形加工などに限界があった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、例えば超音波加工機に用いられる穿孔用の工具について、多数のピン状の加工用ピンを容易に形成できる超音波加工機用の穿孔工具を提供することにある。
上記超音波加工機用の穿孔工具は、前記母材に形成した複数のピンが、異なる2種以上の径を有することができる。
さらに、上記超音波加工機用の穿孔工具は、前記ピンの横断面が円形状、多角形状、曲線形状若しくはピンの先端側と基端側で断面形状が異なる異形形状とすることができる。
また、前記ピン状部材の長さが1mm以上であることが好ましい。
本発明のピン状部材の製造方法は、母材面上にピン状部材を形成するピン状部材の製造方法において、前記母材面にレジスト膜を形成し、前記ピン状部材を形成する部位にある前記母材面上のレジスト膜を除去して該レジスト膜に孔を空け、該レジスト膜によって形成した孔の内側に電鋳メッキによるメッキ膜を施して前記孔に対応する形状のピン状部材を形成した後、前記母材面上に残留するレジスト膜を除去するようにしたので、母材の正確な位置に径の細いピン状部材を形成することができる。
本発明のピン状部材の加工用工具は、母材の面上に電鋳メッキのメッキ膜により形成した複数のピンを立設させたので、複数のピンの位置や径を正確に配置することができる。
また、本発明のピン状部材の加工用工具は、母材の面上に電鋳メッキのメッキ膜層を縦方向に重ねて形成した複数のピンを立設させたので、ピン状部材の形状に対しての応用が容易にできるようになった。
上記ピン状部材の加工用工具は、前記ピンが超音波加工機に取付けられ、超音波振動によって半導体デバイスに用いられる複数のガラス貫通孔電極を形成するための工具とすることによって、半導体デバイスの貫通孔電極をより正確な位置に空けることができるようになった。
上記ピン上部材の加工用工具は、ピン状部材を備えた加工用工具は、前記ピンの横断面が円形状、多角形状、曲線形状若しくはピンの先端側と基端側で断面形状が異なる異形形状としたことによって、種々の作業に応じた工具を作成できる。
本実施の形態のピン状部材は、金属基板上にホトリソグラフィー技術によるレジストパターン作成と電鋳技術を組み合わせて超音波加工機によりガラスに孔を空ける工具(電鋳ツールとする)であり、電鋳ツールによりガラス等の基板に微細かつ高精度の孔・溝・異形加工を可能とする。
超音波加工機1は、超音波振動子2に超音波発振器3が取付けられ、超音波振動子2の下方には、コーン4が取付けられ、コーン4の下部にはホーン5が接続されている。ホーン5の下部には、本発明に係わる電鋳ツール10が取付けられている。
図2に示すように、電鋳ツール10は、円形の平板状の母材11の表面上に多数の加工用ピン12が母材11面に対して直角方向に向けて固定されている。母材11は例えばステンレスにより形成され、少なくとも加工用ピン12が固定されている面にNiメッキ17が施されている。加工用ピン12は、Niによる厚膜の電鋳メッキにより形成され、厚膜電鋳メッキはメッキの被膜層が複数の層で形成されている。加工用ピン12は、現時点では直径100〜500μm程度のものを形成することができる。ターゲットとしては50μm程度とする事が出来る。加工用ピン12同士の縁からの間隔は、概ね100μm程度以上とすることができる。加工用ピン12の形状は、母材11側の基端部から先端部まで同じ径に形成している。なお、加工用ピン12の本数についても任意に形成できる。
図4のAは、円板状のステンレスからなる母材11を示し、母材11の表面には図示しないニッケルメッキを施している。このニッケルメッキの表面には、厚さ約40μmの感光性の樹脂であるレジスト膜15aを形成している。ホトリソグラフィーでは種々の作業方法があるが、例えば、レジスト膜15aは光化学反応によって、光の当たった部分がアルカリ溶液に溶ける化学構造に変化するタイプのものが使用できる。この場合は、母材11に加工用ピンを固定する箇所以外の部分にマスキングをして、図示しない光源から光を照射させて、光で化学変化したレジスト膜15aを溶剤などによって、母材11のNiメッキ17が表れるまで除去する。
なお、レジスト膜については、直接エッチング装置によってレジスト膜を除去することもできる。
図4のDに示すように、母材11上に除去されず残留しているレジスト膜15aと、加工用ピン12aの面上に2層目のレジスト膜15bを形成する。母材11に形成された加工用ピン15aの直上にある以外の部分のレジスト膜15bに光が照射されないように、マスクキングをする。レジスト膜15bの材質及び厚さは1層目のレジスト膜15aと同じである。
本発明では、こうした加工用ピン12の形成により、ガラスウェハに孔若しくは溝を形成するときは、孔径・孔位置精度を数μmの精度で実現できる。作業的には、1本の加工用ピンを有する電鋳ツール10であっても、多数の加工用ピンを有する電鋳ツール10であっても、製造工程は複雑にならないので、1万個以上の加工用ピンを形成することも可能である。このような工程によって、1枚のガラスウェハに多数の孔・溝等の同時作成が可能となる。
図4及び図5で説明した加工用ピン12は、電鋳メッキのメッキ膜の複数積層体であるが本実施の形態では、メッキ膜が単層体であることが異なっている。
図6のAに示すように、円板状のステンレスからなる母材21の表面にはニッケルメッキ25を施し、ニッケルメッキ25の表面には、レジスト膜22を形成している。レジスト膜22の厚さは、形成しようとする加工用ピン23の長さと同じ厚さに形成する。母材21に加工用ピンを固定する箇所以外の部分にマスクキングをして、図示しない光源から光を照射させて、レジスト膜22を化学変化させる。
このように形成された加工用ピン23は、図4及び図5に示す方法で形成された加工用ピン12と比べ、短時間で形成できる効果がある。
電鋳メッキ法は、条件のコントロールで加工用ピン12,23の微細化、長さなどもコントロール可能である。本加工用ピン12,23によって、1枚のガラスウェハを加工した結果、金属構造体の磨耗量は概ね15μm程度であり、1mm以上の長さのピンを有するホーンであれば、数十枚のガラスウェハの加工が可能となり、コスト的にも優れている。
本発明によれば、今まで製作難度の大きかった、Φ0.1mm以下の繊細孔及び溝を形成することができる。ホトリソグラフィー技術の応用では厚さ方向の異形加工も可能となり、広い応用範囲が期待できる。
すなわち、上記実施の形態では、母材11に形成した加工用ピン12の長さ及び径を全ての加工用ピン12について同じとしたが、加工用ピン12の長さは、異なる長さの加工用ピン12を2種以上形成し、1つのガラスウェハに貫通孔及び溝を同時に形成してもよい。また、加工用ピン12の径は、異なる径の加工用ピン12を2種以上形成し、1つのガラスウェハに異なる径の貫通孔又は溝を形成してもよい。
1つの加工用ピンについては、図7に示すように、加工用ピン12の形状を基端側の大径部12cを太く、先端側の小径部12dを細くして異形にしても良い。そして、電鋳ツール10を介して超音波振動が加工用ピン12に伝わり、ガラス基板などのワーク13に異径孔を形成する。なお、符号26は水と共に流す遊離砥粒であって、加工用ピン12とワーク13の間に流し込むようにする。こうして、下側が小径で上側が大径の異径孔を形成することができる。なお、加工用ピン12は、このように加工用ピン12を段付きにして先端を細くしてもよく、テーパ状に細くしても良い。
図8のAは、内側が空洞の環状の加工用ピン12であり、このような加工用ピン12によってもワークに孔を形成できる。なお、ワーク13は、加工用ピン12の内孔12eに対応する部分は削りとられるので、横断面が円形の孔を形成できる。
図8のBは、平面形状がほぼS字形状(曲線形状)であり、このような変形板形状の加工用ピン12でも、その断面形状に対応したS字形状の孔を形成できる。
例えば、母材11,22の表面に形成したNiメッキ17,25は、電鋳メッキ(加工用ピン)の付きは劣るが省略することもできる。
母材11,22の材質をSUSとし、電鋳メッキで形成したピンはNiとしたが、この組合せは任意であり、多数の組合せがある。
10 電鋳ツール
11,21 母材
12,23 加工用ピン
13 ワーク
14 貫通孔
15a,15b,22 レジスト膜
16a,16b,24 孔
Claims (4)
- 金属母材上に、複数のピン状部材を電鋳メッキによって立設させ、該ピン状部材によってガラス基板に孔又は溝を形成するピン状部材を備えた加工用工具において、
前記母材上にレジスト膜を形成し、前記ピン状部材を形成する部位にある前記母材上のレジスト膜を除去して該レジスト膜に孔を空け、該レジスト膜によって形成した孔の内側に電鋳メッキによる1層目のメッキ膜を前記母材上に施して前記孔に対応する形状の第1のメッキ膜を形成し、
前記ピン状部材と母材に残留するレジスト膜の表面上にさらにレジスト膜を形成し、前記ピン状部材上のレジスト膜を除去してレジスト膜に孔を空け、該レジスト膜によって形成した孔の内側に電鋳メッキによるメッキ膜を前記ピン状部材上に施して該孔に対応する形状の第2のメッキ膜を形成し、
該第2のメッキ膜を1回以上繰り返して、該ピン状部材が所定の長さに達したときに母材上に残留するレジスト膜を除去するようにして前記ピン状部材を形成し、
該ピン状部材と母材とを備えた電鋳ツールを超音波加工機の穿孔用工具として該超音波加工機のホーンに取付け、
前記ホーンを介して超音波振動を前記電鋳ツールへ伝達し、前記ピン状部材によって前記ガラス基板に孔又は溝を形成することを特徴とする超音波加工機用の穿孔工具。 - 前記母材に形成した複数のピンが、異なる2種以上の径を有するようにしたことを特徴とする請求項1に記載の超音波加工機用の穿孔工具。
- 前記ピンの横断面が円形状、多角形状、曲線形状若しくはピンの先端側と基端側で断面形状が異なる異形形状であることを特徴とする請求項1又は2に記載の超音波加工機用の穿孔工具。
- 前記ピン状部材の長さが1mm以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の超音波加工機用の穿孔工具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006034883A JP5000147B2 (ja) | 2006-02-13 | 2006-02-13 | 超音波加工機用の穿孔工具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006034883A JP5000147B2 (ja) | 2006-02-13 | 2006-02-13 | 超音波加工機用の穿孔工具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007211323A JP2007211323A (ja) | 2007-08-23 |
JP5000147B2 true JP5000147B2 (ja) | 2012-08-15 |
Family
ID=38490019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006034883A Expired - Fee Related JP5000147B2 (ja) | 2006-02-13 | 2006-02-13 | 超音波加工機用の穿孔工具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5000147B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6421294B1 (ja) * | 2017-05-25 | 2018-11-14 | 株式会社三井E&Sマシナリー | シャワーヘッド加工工具およびシャワーヘッド加工工具の製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH602943A5 (ja) * | 1975-05-02 | 1978-08-15 | Buser Ag Maschf Fritz | |
JPS6270594A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-04-01 | Fuji Xerox Co Ltd | 選択メツキ法 |
JPH03183629A (ja) * | 1989-12-08 | 1991-08-09 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子の加工方法 |
JPH10193299A (ja) * | 1996-12-27 | 1998-07-28 | Ricoh Co Ltd | 微細孔形成用型製造方法及び微細孔形成装置 |
JPH10202594A (ja) * | 1997-01-17 | 1998-08-04 | Ricoh Co Ltd | 微細孔形成装置 |
JP3349656B2 (ja) * | 1997-09-25 | 2002-11-25 | ティーディーケイ株式会社 | バンプおよびその製造方法 |
JPH11138827A (ja) * | 1997-11-10 | 1999-05-25 | Citizen Watch Co Ltd | 微細部品の製造方法 |
JP2001115293A (ja) * | 1999-10-19 | 2001-04-24 | Citizen Watch Co Ltd | 微細形状部品の製造方法 |
JP2002249890A (ja) * | 2001-02-22 | 2002-09-06 | Nikon Corp | コイルの製造方法 |
JP2002256474A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Nikon Corp | 微細構造物の製造方法 |
JP2002356793A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-13 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 電鋳メタルとその製造方法 |
-
2006
- 2006-02-13 JP JP2006034883A patent/JP5000147B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007211323A (ja) | 2007-08-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6276682B2 (ja) | 電気機械チップを作成する方法 | |
JP5080456B2 (ja) | 半導体ウェハにおける垂直な電気コンタクト接続の作製方法 | |
CN100369235C (zh) | 加工衬底的方法及系统 | |
JP3723201B1 (ja) | 貫通孔を有する金属製基板を用いたマイクロスフィアの製造方法 | |
Hwang et al. | Fabrication of a micro-pin array with high density and high hardness by combining mechanical peck-drilling and reverse-EDM | |
Gentili et al. | Review on micromachining techniques | |
JP5000147B2 (ja) | 超音波加工機用の穿孔工具 | |
KR20220090517A (ko) | 레이저 지원 재료 상변화 및 배출 마이크로 가공 방법 | |
KR100631186B1 (ko) | 미세홀 가공을 위한 초음파 가공용 공구의 제조방법 | |
WO2002005001A1 (fr) | Procede de fabrication d'une ferrule a plusieurs corps | |
JP2008258418A (ja) | サポートプレートに貫通孔を形成する方法、孔あきサポートプレート、及び孔あきサポートプレートの製造方法 | |
JP2005349538A (ja) | 粒子配列基板の製造方法 | |
JP5089107B2 (ja) | 微細部品の製造方法 | |
JP2014005172A (ja) | 貫通孔形成方法及び貫通孔付きガラス基板 | |
JP2013147404A (ja) | 貫通穴付きガラス基板の製造方法 | |
JP2003260611A (ja) | 傾斜孔加工方法 | |
JP2005274714A (ja) | 孔構造体の製造方法及び孔構造体 | |
JP5368753B2 (ja) | 加工基板の製造方法 | |
JP2002146584A (ja) | 微小形状構造体、ノズル部品、光学部品、表示装置、電鋳元型及びそれらの製造方法 | |
Chen et al. | Excimer laser ablation of glass-based arrayed microstructures for biomedical, mechanical, and optical applications | |
JPH0441120A (ja) | 微細放電加工方法 | |
JP5725435B2 (ja) | 微細穴加工用工具およびその作製方法ならびに高分子フィルムの加工方法 | |
KR101741668B1 (ko) | 미세 메쉬 구조물 제작 방법 | |
Lacrotte et al. | Fabrication of a low temperature co-fired ceramic package using powder blasting technology | |
JP2020059879A (ja) | 有孔積層部材および有孔積層部材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090126 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110815 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110823 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111021 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111115 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120207 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120406 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120424 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120516 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5000147 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150525 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |