JP4997117B2 - 集積回路の検査及びバーンインのためのシステム - Google Patents
集積回路の検査及びバーンインのためのシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP4997117B2 JP4997117B2 JP2007546763A JP2007546763A JP4997117B2 JP 4997117 B2 JP4997117 B2 JP 4997117B2 JP 2007546763 A JP2007546763 A JP 2007546763A JP 2007546763 A JP2007546763 A JP 2007546763A JP 4997117 B2 JP4997117 B2 JP 4997117B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- distribution board
- capacitor
- contactor
- board
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title description 9
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 102
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 71
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 45
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000011143 downstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2855—Environmental, reliability or burn-in testing
- G01R31/286—External aspects, e.g. related to chambers, contacting devices or handlers
- G01R31/2863—Contacting devices, e.g. sockets, burn-in boards or mounting fixtures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/04—Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
- G01R1/0408—Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
- G01R1/0491—Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets for testing integrated circuits on wafers, e.g. wafer-level test cartridge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2855—Environmental, reliability or burn-in testing
- G01R31/2872—Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation
- G01R31/2879—Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation related to electrical aspects, e.g. to voltage or current supply or stimuli or to electrical loads
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
コンデンサは、分電盤によって支持することができる。
電力用コンデンサ導体及び基準電圧用コンデンサ導体は、実質的に平坦な平面導体とすることができる。
分電盤端子は接点とすることができ、この場合、実質的に平坦な平面コンデンサ導体の各々は、各接点上に形成された部分を有することができ、コンデンサは、実質的に平坦な平面コンデンサ導体間に誘電体層をさらに含むことができる。
実質的に平坦な平面導体の各々は、分電盤導体の少なくとも一部の上に形成することができる。
本システムは、分電基板に面した第1の側と対向する第2の側とを有するコンタクタ基板と、各々が分電盤端子の各々に接触する、コンタクタ基板の第1の側上の第1の複数のコンタクタ・ボード端子と、各々が第1の複数のコンタクタ・ボード端子の各々と接続され、且つ、ダイの各々の各ダイ接点と接触するための、コンタクタ基板の第2の側上の複数のコンタクタ・ボード端子とを含むことができる、コンタクタ・ボードをさらに含むことができる。
分電基板が第1の基板であることが好ましい。
第1の複数のコンタクタ・ボード端子から第2の複数のコンタクタ・ボード端子へのx−y変換は存在しない場合がある。
本システムは、ダイの少なくとも1つに流れる電流を自動的に制限する少なくとも1つのヒューズを含むことができる。ヒューズは、温度が上昇したときにそこを通って流れる電流を制限するポリマー材料から作製することができる。
本システムは、分電基板に取り付けられ、かつ、該分電基板の上にある別個の電気コンポーネントを含むことができ、この場合、開口部をコンタクト基板の第1の側に形成することができ、別個の電気コンポーネントは、開口部に挿入される。
添付図面の図1は、個別化されていないウェハ14の集積回路12のバーンイン検査のために用いられる、本発明の実施形態によるコンタクタ・システム10のコンポーネントを示す。システム10は、電力、接地基準電圧、及び信号の分電盤16、複数のコンデンサ18、及びコンタクタ・ボード20を含む。本発明の範囲を超える、埋め込まれた抵抗器等の他のコンポーネントは、本明細書に示されず、又は記載されていない。
分電基板22は、複数の領域30を有する。領域30は、x方向に延びる行及びy方向に延びる列を成してx−yアレイを形成しており、各領域30は、集積回路12(図1)のそれぞれをミラー反転している。代替的に、2つ以上のコンデンサを1つの集積回路と関連付けることができ、又は1つのコンデンサを2つ以上の集積回路と関連付けることもできる。分電基板22は、導電性金属層と交互配置された、低k値(典型的には、3から4まで)の誘電材料の多層を含む。
最初に、接地基準電圧用コンデンサ導体32の各々が、各々の領域30上に形成される。各々の接地基準電圧用コンデンサ導体32は、各領域30の面積の大部分をカバーする面積を有する。スペースがピンのような他のコンポーネントによって制限される場合、或いは、各集積回路に対して2つ以上のコンデンサが必要とされる場合には、各コンデンサ導体により、より小さい面積をカバーすることができる。接地基準電圧用コンデンサ導体32は、分電盤導体26の一部の上に形成される。接地基準電圧用コンデンサ導体32の部分38が、各領域30の接地基準電圧用分電盤接点端子24Gの部分のみの上に形成される。従って、接地基準電圧は、接地基準電圧用分電盤接点端子24Gを通じて、接地基準電圧用コンデンサ導体32に供給され得る。接地基準電圧用コンデンサ導体32は、電力用分電盤接点端子24Pとも、又は信号用分電盤接点端子24Sのいずれとも接触状態にない。
図7にさらに示されるように、バッキング基板148が設けられ、ここに分電盤16が取り付けられる。バッキング基板148は、その上部内に複数のコンデンサ開口部150を有する。別個の巻回型コンデンサ118Cが、分電盤16の下面に取り付けられ、コンデンサ開口部150の各々の中に収容される。
さらに、個別化されていないウェハの検査が説明されたが、他のデバイスを検査できることも理解すべきである。1つのこのようなデバイスは、例えば、そこにマウントされた複数のダイを有する基板を含むストリップであってもよい。別のデバイスは、接着テープと、該接着テープ上に保持された複数のダイとを含むフィルム・フレームであってもよい。
Claims (16)
- 個別化されていない基板上の集積回路を検査するためのシステムであって、
i)(1)前記集積回路に対応する複数の領域を有する分電基板と、
(2)少なくとも1つの信号用分電盤端子、電力用分電盤端子、及び基準電圧用分電盤端子を含む、各領域における複数の分電盤端子と、
(3)それぞれ前記信号用分電盤端子、前記電力用分電盤端子、及び前記基準電圧用分電盤端子に接続された、信号用分電盤導体、電力用分電盤導体、及び基準電圧用分電盤導体を含む、前記分電基板によって支持された複数の分電盤導体と、
(4)前記分電盤導体が接続された、前記分電基板上の少なくとも1つの分電盤インターフェースと、
を含む、分電盤と、
ii)前記領域の少なくとも1つの、それぞれ前記電力用分電盤端子及び前記基準電圧用分電盤端子に電気的に接続された、離間配置された電力用コンデンサ導体及び基準電圧用コンデンサ導体を含む、少なくとも1つのコンデンサと、
iii)(1)前記分電基板に面した第1の側と対向する第2の側とを有するコンタクタ基板と、
(2)各々が前記分電盤端子の各々に接触する、前記第1の側上の第1の複数のコンタクタ端子と、
(3)各々が、前記第1の複数のコンタクタ端子の各々に接続され、且つ、前記集積回路の各々の各集積回路接点と接触するための、前記コンタクタ基板の前記第2の側上の第2の複数のコンタクタ端子と、
を含む、コンタクタと、
を備えることを特徴とするシステム。 - 前記個別化されていない基板が、ウェハであることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記コンデンサが、前記分電盤によって支持されていることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記電力用コンデンサ導体及び前記基準電圧用コンデンサ導体は、実質的に平坦な平面導体であることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記実質的に平坦な平面導体の各々は、前記領域の各々の各面積の大部分を含む各面積を有することを特徴とする請求項4に記載のシステム。
- 前記分電盤端子は接点であり、前記実質的に平坦な平面コンデンサ導体の各々は、各接点上に形成された部分を有し、前記コンデンサは、該実質的に平坦なコンデンサ導体間に誘電体層をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載のシステム。
- 前記実質的に平坦な平面導体の各々は、前記分電盤導体の少なくとも一部の上に形成されることを特徴とする請求項4に記載のシステム。
- 複数のコンデンサを備え、各々のコンデンサが、複数の前記領域の前記電力用分電盤端子及び前記基準電圧用分電盤端子に各々に電気的に接続された、離間配置された電力用コンデンサ導体及び基準電圧用コンデンサ導体を含むことを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記分電基板及び前記コンタクタ基板のうちの一方が第1の基板であり、該分電基板及び該コンタクタ基板のうちの他方が第2の基板であり、前記コンデンサは、前記第1の基板に取り付けられ、少なくとも1つのコンデンサ開口部が前記第2の基板内に形成され、該コンデンサは、前記コンデンサ開口部に挿入されることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記分電基板は、前記第1の基板であることを特徴とする請求項9に記載のシステム。
- 各々が前記第1の基板に取り付けられた複数のコンデンサと、前記第2の基板内の複数のコンデンサ開口部とを含み、前記コンデンサの各々は、前記コンデンサ開口部の各々に挿入されることを特徴とする請求項9に記載のシステム。
- 前記第1の複数のコンタクタ端子から前記第2の複数のコンタクタ端子へのx−y変換がないことを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記コンタクタは、
(4)各々が、前記第1のコンタクタ端子及び前記第2のコンタクタ端子の各々を形成する対向する端部を有する、前記コンタクタ基板によって保持される複数のピンをさらに含むことを特徴とする請求項12に記載のシステム。 - iiii)前記集積回路の少なくとも1つに流れる電流を自動的に制限する少なくとも1つのヒューズをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記ヒューズは、温度が上昇したときにそこを通って流れる電流を制限するポリマー材料から作製されることを特徴とする請求項14に記載のシステム。
- 前記ヒューズは、実質的に平坦な平面デバイスであることを特徴とする請求項15に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/013,855 | 2004-12-15 | ||
US11/013,855 US7053644B1 (en) | 2004-12-15 | 2004-12-15 | System for testing and burning in of integrated circuits |
PCT/US2005/044459 WO2006065621A1 (en) | 2004-12-15 | 2005-12-07 | A system for testing and burning in of integrated circuits |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008524850A JP2008524850A (ja) | 2008-07-10 |
JP4997117B2 true JP4997117B2 (ja) | 2012-08-08 |
Family
ID=36036675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007546763A Active JP4997117B2 (ja) | 2004-12-15 | 2005-12-07 | 集積回路の検査及びバーンインのためのシステム |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7053644B1 (ja) |
EP (1) | EP1825281B1 (ja) |
JP (1) | JP4997117B2 (ja) |
KR (1) | KR101177596B1 (ja) |
CN (1) | CN101084447B (ja) |
AT (1) | ATE440290T1 (ja) |
DE (1) | DE602005016146D1 (ja) |
TW (1) | TWI290748B (ja) |
WO (1) | WO2006065621A1 (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2273279A1 (en) | 2005-04-27 | 2011-01-12 | Aehr Test Systems, Inc. | Apparatus for testing electronic devices |
CN100460870C (zh) * | 2005-11-02 | 2009-02-11 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 利用熔丝测试栅极氧化物的方法与装置 |
US8717777B2 (en) | 2005-11-17 | 2014-05-06 | Avx Corporation | Electrolytic capacitor with a thin film fuse |
US7532457B2 (en) * | 2007-01-15 | 2009-05-12 | Avx Corporation | Fused electrolytic capacitor assembly |
US7667475B2 (en) | 2007-04-05 | 2010-02-23 | Aehr Test Systems | Electronics tester with a signal distribution board and a wafer chuck having different coefficients of thermal expansion |
US7800382B2 (en) | 2007-12-19 | 2010-09-21 | AEHR Test Ststems | System for testing an integrated circuit of a device and its method of use |
US7798867B2 (en) | 2008-11-12 | 2010-09-21 | Interconnect Devices, Inc. | Environmentally sealed contact |
US8030957B2 (en) | 2009-03-25 | 2011-10-04 | Aehr Test Systems | System for testing an integrated circuit of a device and its method of use |
US8506307B2 (en) | 2010-12-02 | 2013-08-13 | Interconnect Devices, Inc. | Electrical connector with embedded shell layer |
US9704809B2 (en) * | 2013-03-05 | 2017-07-11 | Maxim Integrated Products, Inc. | Fan-out and heterogeneous packaging of electronic components |
CN103723673B (zh) * | 2013-12-30 | 2015-12-16 | 杭州士兰微电子股份有限公司 | 微机电系统及检测电路 |
KR101467383B1 (ko) * | 2014-02-07 | 2014-12-02 | 윌테크놀러지(주) | 커패시터가 구비된 반도체 검사 장치 |
KR102085731B1 (ko) * | 2014-03-31 | 2020-03-09 | 엘에스산전 주식회사 | 배전반 결선 시험 장치 |
CN206038837U (zh) * | 2015-10-02 | 2017-03-22 | 魏晓敏 | Led芯片老化测试装置 |
KR20180101476A (ko) | 2016-01-08 | 2018-09-12 | 에어 테스트 시스템즈 | 일렉트로닉스 테스터 내의 디바이스들의 열 제어를 위한 방법 및 시스템 |
KR20230021177A (ko) | 2017-03-03 | 2023-02-13 | 에어 테스트 시스템즈 | 일렉트로닉스 테스터 |
US11175336B2 (en) * | 2017-07-25 | 2021-11-16 | King Tiger Technology (Canada) Inc. | System and method of automated burn-in testing on integrated circuit devices |
US10261123B2 (en) * | 2017-08-24 | 2019-04-16 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor device structures for burn-in testing and methods thereof |
JP7110817B2 (ja) * | 2018-08-09 | 2022-08-02 | オムロン株式会社 | 検査具、検査ユニットおよび検査装置 |
TWI808164B (zh) * | 2019-04-26 | 2023-07-11 | 致茂電子股份有限公司 | 用於測試面射型雷射二極體之治具組件及具備該組件之測試設備 |
TWI808165B (zh) * | 2019-04-26 | 2023-07-11 | 致茂電子股份有限公司 | 用於測試邊射型雷射二極體之治具組件及具備該組件之測試設備 |
KR20230082672A (ko) | 2020-10-07 | 2023-06-08 | 에어 테스트 시스템즈 | 일렉트로닉스 테스터 |
TWI812203B (zh) * | 2022-05-05 | 2023-08-11 | 創意電子股份有限公司 | 探針卡裝置及其電路保護組件 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6288561B1 (en) * | 1988-05-16 | 2001-09-11 | Elm Technology Corporation | Method and apparatus for probing, testing, burn-in, repairing and programming of integrated circuits in a closed environment using a single apparatus |
US5663654A (en) * | 1990-08-29 | 1997-09-02 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
US5682064A (en) * | 1993-08-16 | 1997-10-28 | Micron Technology, Inc. | Repairable wafer scale integration system |
US5491426A (en) * | 1994-06-30 | 1996-02-13 | Vlsi Technology, Inc. | Adaptable wafer probe assembly for testing ICs with different power/ground bond pad configurations |
US5600257A (en) * | 1995-08-09 | 1997-02-04 | International Business Machines Corporation | Semiconductor wafer test and burn-in |
US6677776B2 (en) | 1998-05-11 | 2004-01-13 | Micron Technology, Inc. | Method and system having switching network for testing semiconductor components on a substrate |
JPH11344509A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Hiroshi Katagawa | プローブカード及びプローブピン |
US6705876B2 (en) * | 1998-07-13 | 2004-03-16 | Formfactor, Inc. | Electrical interconnect assemblies and methods |
US7143500B2 (en) * | 2001-06-25 | 2006-12-05 | Micron Technology, Inc. | Method to prevent damage to probe card |
JP3624193B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2005-03-02 | 株式会社東芝 | 半導体試験装置 |
SG107610A1 (en) | 2002-08-16 | 2004-12-29 | Micron Technology Inc | Methods and apparatus for testing and burn-in of semiconductor devices |
JP2004144742A (ja) * | 2002-10-02 | 2004-05-20 | Renesas Technology Corp | プローブシート、プローブカード、半導体検査装置および半導体装置の製造方法 |
-
2004
- 2004-12-15 US US11/013,855 patent/US7053644B1/en active Active
-
2005
- 2005-12-07 JP JP2007546763A patent/JP4997117B2/ja active Active
- 2005-12-07 AT AT05853389T patent/ATE440290T1/de not_active IP Right Cessation
- 2005-12-07 WO PCT/US2005/044459 patent/WO2006065621A1/en active Search and Examination
- 2005-12-07 EP EP05853389A patent/EP1825281B1/en active Active
- 2005-12-07 KR KR1020077016269A patent/KR101177596B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-12-07 DE DE602005016146T patent/DE602005016146D1/de active Active
- 2005-12-07 CN CN2005800432042A patent/CN101084447B/zh active Active
- 2005-12-15 TW TW094144462A patent/TWI290748B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101177596B1 (ko) | 2012-08-27 |
TWI290748B (en) | 2007-12-01 |
KR20070100741A (ko) | 2007-10-11 |
EP1825281B1 (en) | 2009-08-19 |
DE602005016146D1 (de) | 2009-10-01 |
US20060125502A1 (en) | 2006-06-15 |
US7053644B1 (en) | 2006-05-30 |
EP1825281A1 (en) | 2007-08-29 |
CN101084447A (zh) | 2007-12-05 |
TW200627573A (en) | 2006-08-01 |
CN101084447B (zh) | 2010-09-29 |
WO2006065621A1 (en) | 2006-06-22 |
JP2008524850A (ja) | 2008-07-10 |
ATE440290T1 (de) | 2009-09-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4997117B2 (ja) | 集積回路の検査及びバーンインのためのシステム | |
US7215131B1 (en) | Segmented contactor | |
US4777434A (en) | Microelectronic burn-in system | |
US9588139B2 (en) | Probe card assembly for testing electronic devices | |
US20020039802A1 (en) | Fabrication method of semiconductor integrated circuit device and its testing apparatus | |
JP4387125B2 (ja) | 検査方法及び検査装置 | |
KR20020028159A (ko) | 전자 회로용 대량 병렬 인터페이스 | |
JPH10111315A (ja) | プローブカードおよびこれを用いた試験装置 | |
US5391502A (en) | Per-wafer method for globally stressing gate oxide during device fabrication | |
US20210255237A1 (en) | Burn-in board including strip socket with integrated heating for high volume burn-in of semiconductor devices | |
KR102653116B1 (ko) | 전자 소자의 회로 검사용 소켓 장치 | |
JP2001228169A (ja) | 電気的接続装置 | |
KR20190006341A (ko) | 전자 소자 검사용 핀 조립체 | |
JP4334684B2 (ja) | 基板検査用センサおよび基板検査装置 | |
JP2006226765A (ja) | ウエハ一括型プローブカードおよび半導体装置の検査方法 | |
KR0169815B1 (ko) | 범용 번-인 기판 | |
TW563220B (en) | Method for picking defected dielectric in semiconductor device | |
JPH11145213A (ja) | 半導体装置およびその検査方法 | |
KR20120120594A (ko) | 반도체 패키지 테스트용 소켓에 장착되는 연결모듈 및 이를 포함하는 반도체 패키지 테스트용 소켓 | |
JPH05198633A (ja) | 半導体ウエハ用プローバ | |
Roesch | Measuring and comparing humidity acceleration factors of compound semiconductors | |
JPH11121570A (ja) | 半導体装置およびその検査方法 | |
JPH05340996A (ja) | ベアチップicのバーンイン方法 | |
JPH0629297A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPS63184078A (ja) | 半導体テスト装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080822 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110819 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110829 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20111129 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20111206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120507 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120514 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150518 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4997117 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |