JP4990174B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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- A47G33/02—Altars; Religious shrines; Fonts for holy water; Crucifixes
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Description
20 洗浄治具
21 スピンチャック
24 容器
30 レジスト液供給ノズル
40 洗浄液供給ノズル
50 本体
51 突出部
60 他の洗浄液供給ノズル
70 洗浄治具
71 貯留部
73 吐出孔
L 洗浄液
R レジスト液
T 頂部
W ウェハ
Claims (1)
- 基板を保持して回転させる回転保持部材と、当該回転保持部材に保持された基板の周囲を覆い、基板上に供給された処理液の外部への飛散を防止するための容器と、を有する基板処理装置であって、
前記回転保持部材に保持され、前記容器の内側面を洗浄するための洗浄治具と、
前記回転保持部材に保持された状態の前記洗浄治具の少なくとも表面又は裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、
前記洗浄治具の側面に設けられ、当該洗浄治具に供給された洗浄液を前記洗浄治具の回転によって前記容器の内側面へ飛散させるための飛散案内部と、を有し、
前記洗浄治具の表面と裏面は平坦であり、
前記飛散案内部は、前記洗浄治具の側面の表面側から裏面側の間で厚み方向に連続するように外側に湾曲し前記洗浄治具の側面全周に形成され、且つ外側に突出した突出部の頂部であり、前記頂部から前記洗浄治具の表面又は裏面のいずれか一方に供給された洗浄液を飛散させるか、或いは前記洗浄治具の表面と裏面に供給された洗浄液を前記頂部で合流させて飛散させることを特徴とする、基板処理装置。
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