JP4944642B2 - デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
ウエーハの表面側から分割予定ラインに沿って所定の深さの分割溝を形成した後にウエーハの裏面を研削して裏面に該分割溝を表出させ、ウエーハを個々のデバイスに分割するウエーハ分割工程と、
個々のデバイスに分割されたウエーハの裏面に紫外線を照射することにより硬化する接着フィルムを装着する接着フィルム装着工程と、
該接着フィルムが装着されたウエーハの該接着フィルム側を環状のフレームに装着されたダイシングテープの表面に貼着するウエーハ支持工程と、
該ダイシングテープに貼着されたウエーハの表面側から紫外線を照射し、ウエーハに形成された該分割溝を通して該接着フィルムに紫外線を照射することにより、該接着フィルムにおける該分割溝に対応する領域を硬化せしめる接着フィルム硬化工程と、
ウエーハの表面側から該分割溝に沿って該接着フィルムに対して吸収性を有する波長のレーザー光線を照射し、該分割溝に沿って硬化せしめられた該接着フィルムをデバイス毎に分割する接着フィルム分割工程と、
デバイス毎に分割された該接着フィルムが装着されているデバイスを該ダイシングテープから剥離してピックアップするピックアップ工程と、を含む、
ことを特徴とするデバイスの製造方法が提供される。
なお、接着フィルム硬化工程は、紫外線領域の波長を有するレーザー光線を分割溝210を通して接着フィルム6に照射し、接着フィルム6における分割溝210に対応する領域6a硬化するようにしてもよい。
レーザー光線の種類 :LD励起QスイッチYAGレーザー
波長 :355nm
繰り返し周波数 :100kHz
平均出力 :1W
集光スポット径 :φ15μm
加工送り速度 :100mm/秒
上述した接着フィルム分割工程が実施され裏面に接着フィルム6が装着された個々のデバイス22をダイシングテープTを介して支持した環状のフレームFを図11の(a)に示すようにフレーム保持手段96を構成するフレーム保持部材961の載置面961a上に載置し、クランプ962によってフレーム保持部材961に固定する(フレーム保持工程)。このとき、フレーム保持部材961は図11の(a)に示す基準位置に位置付けられている。
21:分割予定ライン
22:デバイス
3:切削装置
31:切削装置のチャックテーブル
32:切削手段
321:切削ブレード
4:保護部材
5:研削装置
51:研削装置のチャックテーブル
52:研削砥石
53:研削手段
6:接着フィルム
7:紫外線照射器
8:レーザー加工装置
81:レーザー加工装置のチャックテーブル
82:レーザー光線照射手段
822:集光器
9:ピックアップ装置
91:基台
92:第1のテーブル
93:第2のテーブル
94:第1の移動手段
95:第2の移動手段
96:フレーム保持手段
97:テープ拡張手段
98:回動手段
10:検出手段
11:ピックアップ手段
F:環状のフレーム
T:ダイシングテープ
Claims (2)
- 表面に格子状に形成された分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成されたウエーハを分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割するとともに、各デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着するデバイスの製造方法であって、
ウエーハの表面側から分割予定ラインに沿って所定の深さの分割溝を形成した後にウエーハの裏面を研削して裏面に該分割溝を表出させ、ウエーハを個々のデバイスに分割するウエーハ分割工程と、
個々のデバイスに分割されたウエーハの裏面に紫外線を照射することにより硬化する接着フィルムを装着する接着フィルム装着工程と、
該接着フィルムが装着されたウエーハの該接着フィルム側を環状のフレームに装着されたダイシングテープの表面に貼着するウエーハ支持工程と、
該ダイシングテープに貼着されたウエーハの表面側から紫外線を照射し、ウエーハに形成された該分割溝を通して該接着フィルムに紫外線を照射することにより、該接着フィルムにおける該分割溝に対応する領域を硬化せしめる接着フィルム硬化工程と、
ウエーハの表面側から該分割溝に沿って該接着フィルムに対して吸収性を有する波長のレーザー光線を照射し、該分割溝に沿って硬化せしめられた該接着フィルムをデバイス毎に分割する接着フィルム分割工程と、
デバイス毎に分割された該接着フィルムが装着されているデバイスを該ダイシングテープから剥離してピックアップするピックアップ工程と、を含む、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。 - 該ピックアップ工程は、該接着フィルムが装着されているデバイスをダイシングテープから剥離する前に、ダイシングテープを拡張してデバイス間の隙間を広げるテープ拡張工程を実施する、請求項1記載のデバイスの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007060136A JP4944642B2 (ja) | 2007-03-09 | 2007-03-09 | デバイスの製造方法 |
| US12/038,224 US7910459B2 (en) | 2007-03-09 | 2008-02-27 | Method of manufacturing device having a UV-curable adhesive |
| CN200810082925XA CN101261934B (zh) | 2007-03-09 | 2008-03-07 | 器件制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007060136A JP4944642B2 (ja) | 2007-03-09 | 2007-03-09 | デバイスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008226982A JP2008226982A (ja) | 2008-09-25 |
| JP4944642B2 true JP4944642B2 (ja) | 2012-06-06 |
Family
ID=39742079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007060136A Active JP4944642B2 (ja) | 2007-03-09 | 2007-03-09 | デバイスの製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7910459B2 (ja) |
| JP (1) | JP4944642B2 (ja) |
| CN (1) | CN101261934B (ja) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008235650A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | デバイスの製造方法 |
| JP5155030B2 (ja) * | 2008-06-13 | 2013-02-27 | 株式会社ディスコ | 光デバイスウエーハの分割方法 |
| FR2943176B1 (fr) * | 2009-03-10 | 2011-08-05 | 3D Plus | Procede de positionnement des puces lors de la fabrication d'une plaque reconstituee |
| US8609512B2 (en) * | 2009-03-27 | 2013-12-17 | Electro Scientific Industries, Inc. | Method for laser singulation of chip scale packages on glass substrates |
| JP2011077429A (ja) * | 2009-10-01 | 2011-04-14 | Disco Abrasive Syst Ltd | ワーク分割方法 |
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| WO2012106223A2 (en) | 2011-02-01 | 2012-08-09 | Henkel Corporation | Pre-cut wafer applied underfill film on dicing tape |
| WO2012106191A2 (en) | 2011-02-01 | 2012-08-09 | Henkel Corporation | Pre- cut wafer applied underfill film |
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| JP6029307B2 (ja) * | 2012-04-05 | 2016-11-24 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
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| DE102015100827B4 (de) * | 2015-01-21 | 2024-10-02 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Bearbeiten eines Halbleitersubstrats |
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| JP7281873B2 (ja) | 2018-05-14 | 2023-05-26 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
| JP7166718B2 (ja) * | 2018-10-17 | 2022-11-08 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
| JP7164411B2 (ja) * | 2018-11-15 | 2022-11-01 | 株式会社ディスコ | 積層体の加工方法 |
| CN109801863B (zh) * | 2019-01-17 | 2021-04-06 | 广州兴森快捷电路科技有限公司 | 用于加工封装基板内槽的治具及加工方法 |
| JP7431545B2 (ja) * | 2019-09-19 | 2024-02-15 | 株式会社ディスコ | ピックアップ方法、ピックアップ装置、及び、試験装置 |
| JP2023046922A (ja) * | 2021-09-24 | 2023-04-05 | 株式会社ディスコ | 板状物の加工方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2000182995A (ja) | 1998-12-14 | 2000-06-30 | Mitsumi Electric Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| JP4109823B2 (ja) * | 2000-10-10 | 2008-07-02 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
| JP2005019525A (ja) * | 2003-06-24 | 2005-01-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体チップの製造方法 |
| JP4664005B2 (ja) * | 2004-05-11 | 2011-04-06 | リンテック株式会社 | 接着剤層付き半導体チップの製造方法 |
| JP4923398B2 (ja) * | 2004-09-21 | 2012-04-25 | 日立化成工業株式会社 | 接着剤層付き半導体素子の製造方法 |
| JP4690697B2 (ja) * | 2004-11-01 | 2011-06-01 | 古河電気工業株式会社 | 半導体チップの製造方法 |
| JP2006222142A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Renesas Technology Corp | 半導体素子の製造方法 |
| JP4630689B2 (ja) * | 2005-03-01 | 2011-02-09 | 株式会社ディスコ | ウエーハの分割方法 |
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| JP2006332078A (ja) * | 2005-05-23 | 2006-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体チップの製造方法 |
| JP2008235650A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | デバイスの製造方法 |
-
2007
- 2007-03-09 JP JP2007060136A patent/JP4944642B2/ja active Active
-
2008
- 2008-02-27 US US12/038,224 patent/US7910459B2/en active Active
- 2008-03-07 CN CN200810082925XA patent/CN101261934B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US7910459B2 (en) | 2011-03-22 |
| US20080220591A1 (en) | 2008-09-11 |
| CN101261934B (zh) | 2011-04-06 |
| JP2008226982A (ja) | 2008-09-25 |
| CN101261934A (zh) | 2008-09-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120125 |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150309 Year of fee payment: 3 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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