JP2008235398A - デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】厚さが100μm以下の薄いウエーハであっても破損させることなく裏面に接着フィルムを装着した個々に分割されたデバイスを製造することができるデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】厚さが100μm以下のウエーハ2を分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割するとともに、デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着するデバイス22の製造方法であって、裏面に接着フィルムを装着したウエーハ接着フィルム側を環状のフレームに装着されたダイシングテープTの表面に貼着する工程と、ダイシングテープに接着フィルム側を貼着したウエーハの分割予定ラインに沿ってパルスレーザー光線を照射し、ウエーハを接着フィルム共々個々のデバイスに分割する工程と、ダイシングテープを拡張して分割された各デバイス間の隙間を広げ、裏面に接着フィルムが装着されているデバイスをダイシングテープからピックアップする工程とを含む。
【選択図】図7
【解決手段】厚さが100μm以下のウエーハ2を分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割するとともに、デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着するデバイス22の製造方法であって、裏面に接着フィルムを装着したウエーハ接着フィルム側を環状のフレームに装着されたダイシングテープTの表面に貼着する工程と、ダイシングテープに接着フィルム側を貼着したウエーハの分割予定ラインに沿ってパルスレーザー光線を照射し、ウエーハを接着フィルム共々個々のデバイスに分割する工程と、ダイシングテープを拡張して分割された各デバイス間の隙間を広げ、裏面に接着フィルムが装着されているデバイスをダイシングテープからピックアップする工程とを含む。
【選択図】図7
Description
本発明は、表面に格子状に形成された分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成されたウエーハを分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割するとともに、各デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着するデバイスの製造方法に関する。
例えば、半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に形成されたストリート(分割予定ライン)によって区画された複数の領域にIC、LSI等のデバイスを形成し、該デバイスが形成された各領域を分割予定ラインに沿って分割することにより個々のデバイスを製造している。半導体ウエーハを分割する分割装置としては一般にダイシング装置と呼ばれる切削装置が用いられており、この切削装置は厚さが40μm程度の切削ブレードによって半導体ウエーハを分割予定ラインに沿って切削する。このようにして分割されたデバイスは、パッケージングされて携帯電話やパソコン等の電気機器に広く利用されている。
個々に分割されたデバイスは、その裏面にエポキシ樹脂等で形成された厚さ70〜80μmのダイアタッチフィルムと称するダイボンディング用の接着フィルムが装着され、この接着フィルムを介してデバイスを支持するダイボンディングフレームに加熱することによりボンディングされる。デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着する方法としては、半導体ウエーハの裏面に接着フィルムを貼着し、この接着フィルムを介して半導体ウエーハをダイシングテープに貼着した後、半導体ウエーハの表面に形成された分割予定ラインに沿って切削ブレードにより半導体ウエーハとともに接着フィルムを切断することにより、裏面に接着フィルムが装着されたデバイスを形成している。(例えば、特許文献1参照。)
特開2000−182995号公報
而して、ウエーハの厚さが100μm以下と薄くなると、ウエーハの裏面に接着フィルムを貼着して切削ブレードにより切削すると、切断されたデバイスが接着フィルム上で踊り高速回転する切削ブレードの衝撃によって破損するという問題がある。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、厚さが100μm以下の薄いウエーハであっても破損させることなく裏面に接着フィルムを装着した個々に分割されたデバイスを製造することができるデバイスの製造方法を提供することにある。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、表面に格子状に形成された分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成された厚さが100μm以下のウエーハを分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割するとともに、該デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着するデバイスの製造方法であって、
ウエーハの裏面に接着フィルムを装着するとともに該接着フィルム側を環状のフレームに装着されたダイシングテープの表面に貼着するウエーハ支持工程と、
該ダイシングテープに該接着フィルム側を貼着したウエーハの分割予定ラインに沿ってウエーハに対して吸収性を有する波長のパルスレーザー光線を照射し、ウエーハを個々のデバイスに分割するとともに該接着フィルムを切断するレーザー加工工程と、
該レーザー加工工程を実施した後に、該ダイシングテープを拡張して個々に分割された各デバイス間の隙間を広げ、裏面に該接着フィルムが装着されているデバイスを該ダイシングテープから剥離してピックアップするピックアップ工程と、を含む、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。
ウエーハの裏面に接着フィルムを装着するとともに該接着フィルム側を環状のフレームに装着されたダイシングテープの表面に貼着するウエーハ支持工程と、
該ダイシングテープに該接着フィルム側を貼着したウエーハの分割予定ラインに沿ってウエーハに対して吸収性を有する波長のパルスレーザー光線を照射し、ウエーハを個々のデバイスに分割するとともに該接着フィルムを切断するレーザー加工工程と、
該レーザー加工工程を実施した後に、該ダイシングテープを拡張して個々に分割された各デバイス間の隙間を広げ、裏面に該接着フィルムが装着されているデバイスを該ダイシングテープから剥離してピックアップするピックアップ工程と、を含む、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。
上記レーザー加工工程は、接着フィルムを一部の切り残し部を残存させて不完全切断することが望ましい。
また、上記レーザー加工工程は、波長が370nm以下のパルスレーザー光線を照射する。
上記レーザー加工工程において接着フィルムを一部の切り残し部を残存させて不完全切断した場合には、上記ピックアップ工程においては接着フィルムを冷却し伸縮性を低下させてダイシングテープを拡張することが望ましい。
また、上記レーザー加工工程は、波長が370nm以下のパルスレーザー光線を照射する。
上記レーザー加工工程において接着フィルムを一部の切り残し部を残存させて不完全切断した場合には、上記ピックアップ工程においては接着フィルムを冷却し伸縮性を低下させてダイシングテープを拡張することが望ましい。
本発明によれば、ダイシングテープに接着フィルム側を貼着したウエーハの分割予定ラインに沿ってウエーハに対して吸収性を有する波長のパルスレーザー光線を照射し、ウエーハを個々のデバイスに分割するとともに接着フィルムを切断するレーザー加工工程においては、ウエーハを切削装置によって切断するもののように分割されたデバイスに高速回転する切削ブレードが接触しないので、デバイスが接着フィルム上を踊ることはないため、ウエーハの厚さが100μm以下であってもデバイスが損傷することはない。
以下、本発明によるウエーハに貼着された接着フィルムの破断方法の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1には、ウエーハとしての半導体ウエーハの斜視図が示されている。図1に示す半導体ウエーハ2は、例えば厚さが80μmのシリコンウエーハからなっており、表面2aには複数の分割予定ライン21が格子状に形成されている。そして、半導体ウエーハ2の表面2aには、格子状に形成された複数の分割予定ライン21によって区画された複数の領域にIC、LSI等のデバイス22が形成されている。
上述した半導体ウエーハ2の裏面2bには、図2の(a)および(b)に示すようにダイボンディング用の接着フィルム3が装着される(接着フィルム装着工程)。このとき、80〜200°Cの温度で加熱しつつ接着フィルム3を半導体ウエーハ2の裏面2bに押圧して装着する。なお、接着フィルム3は、図示の実施形態においてはエポキシ系樹脂からなり、その厚さが80μmに形成されている。
接着フィルム装着工程を実施したならば、図3の(a)および(b)に示すように環状のフレームFの内側開口部を覆うように外周部が装着されたダイシングテープTの表面に半導体ウエーハ2の接着フィルム3側を貼着する(ウエーハ支持工程)。なお、上記ダイシングテープTは、図示の実施形態においては厚さが80μmのポリ塩化ビニル(PVC)からなるシート基材の表面に、アクリル樹脂系の粘着層が厚さが5μm程度塗布されている。
上述した接着フィルム装着工程およびウエーハ支持工程の他の実施形態について、図4を参照して説明する。
図4に示す実施形態は、ダイシングテープの表面に予め接着フィルムが貼着された接着フィルム付きのダイシングテープを使用する。即ち、図4の(a)および(b)に示すように環状のフレームFの内側開口部を覆うように外周部が装着されたダイシングテープTの表面に貼着された接着フィルム3を、半導体ウエーハ2の裏面2bに装着する。このとき、80〜200°Cの温度で加熱しつつ接着フィルム3を半導体ウエーハ2の裏面2bに押圧して装着する。なお、接着フィルム付きのダイシングテープは、株式会社リンテック社製の接着フィルム付きのダイシングテープ(LE5000)を用いることができる。
図4に示す実施形態は、ダイシングテープの表面に予め接着フィルムが貼着された接着フィルム付きのダイシングテープを使用する。即ち、図4の(a)および(b)に示すように環状のフレームFの内側開口部を覆うように外周部が装着されたダイシングテープTの表面に貼着された接着フィルム3を、半導体ウエーハ2の裏面2bに装着する。このとき、80〜200°Cの温度で加熱しつつ接着フィルム3を半導体ウエーハ2の裏面2bに押圧して装着する。なお、接着フィルム付きのダイシングテープは、株式会社リンテック社製の接着フィルム付きのダイシングテープ(LE5000)を用いることができる。
上述したウエーハ支持工程を実施したならば、ダイシングテープに接着フィルム側を貼着したウエーハの分割予定ラインに沿ってウエーハに対して吸収性を有する波長のパルスレーザー光線を照射し、ウエーハを個々のデバイスに分割するとともに接着フィルムを切断するレーザー加工工程を実施する。このレーザー加工工程は、図5に示すレーザー加工装置5を用いて実施する。図5に示すレーザー加工装置5は、被加工物を保持するチャックテーブル51と、該チャックテーブル51上に保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段52と、チャックテーブル51上に保持された被加工物を撮像する撮像手段53を具備している。チャックテーブル51は、被加工物を吸引保持するように構成されており、図示しない移動機構によって図5において矢印Xで示す加工送り方向および矢印Yで示す割り出し送り方向に移動せしめられるようになっている。
上記レーザー光線照射手段52は、実質上水平に配置された円筒形状のケーシング521を含んでいる。ケーシング521内には図示しないYAGレーザー発振器或いはYVO4レーザー発振器からなるパルスレーザー光線発振器や繰り返し周波数設定手段を備えたパルスレーザー光線発振手段が配設されている。上記ケーシング521の先端部には、パルスレーザー光線発振手段から発振されたパルスレーザー光線を集光するための集光器522が装着されている。レーザー光線照射手段52を構成するケーシング521の先端部に装着された撮像手段53は、図示の実施形態においては可視光線によって撮像する通常の撮像素子(CCD)等で構成されており、撮像した画像信号を図示しない制御手段に送る。
上述したレーザー加工装置5を用いて上記図3および図4に示すようにダイシングテープTに接着フィルム3側を貼着したウエーハ2を、分割予定ライン21に沿ってデバイス毎に分割するとともに接着フィルム3を切断するレーザー加工工程について、図5乃至図7を参照して説明する。
先ず上述した図5に示すレーザー加工装置5のチャックテーブル51上に半導体ウエーハ2の接着フィルム3側が貼着されたダイシングテープTを載置する。そして、図示しない吸引手段を作動することにより、ダイシングテープTを介して半導体ウエーハ2をチャックテーブル51上に保持する。なお、図5においてはダイシングテープTが装着された環状のフレームFを省いて示しているが、環状のフレームFはチャックテーブル51に配設された適宜のフレーム保持手段に保持される。半導体ウエーハ2を吸引保持したチャックテーブル51は、図示しない移動機構によって撮像手段53の直下に位置付けられる。
先ず上述した図5に示すレーザー加工装置5のチャックテーブル51上に半導体ウエーハ2の接着フィルム3側が貼着されたダイシングテープTを載置する。そして、図示しない吸引手段を作動することにより、ダイシングテープTを介して半導体ウエーハ2をチャックテーブル51上に保持する。なお、図5においてはダイシングテープTが装着された環状のフレームFを省いて示しているが、環状のフレームFはチャックテーブル51に配設された適宜のフレーム保持手段に保持される。半導体ウエーハ2を吸引保持したチャックテーブル51は、図示しない移動機構によって撮像手段53の直下に位置付けられる。
チャックテーブル51が撮像手段53の直下に位置付けられると、撮像手段53および図示しない制御手段によって半導体ウエーハ2のレーザー加工すべき加工領域を検出するアライメント作業を実行する。即ち、撮像手段53および図示しない制御手段は、ウエーハ2の所定方向に形成されている分割予定ライン21と、分割予定ライン21に沿ってレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段52の集光器522との位置合わせを行うためのパターンマッチング等の画像処理を実行し、レーザー光線照射位置のアライメントを遂行する(アライメント工程)。また、半導体ウエーハ2に形成されている上記所定方向に対して直角に延びる分割予定ライン21に対しても、同様に切削領域のアライメントが遂行される。
以上のようにしてチャックテーブル51上に保持された半導体ウエーハ2に形成されている分割予定ライン21を検出し、レーザー光線照射位置のアライメントが行われたならば、図6で示すようにチャックテーブル51をレーザー光線照射手段52の集光器522が位置するレーザー光線照射領域に移動し、所定の分割予定ライン21の一端(図6において左端)をレーザー光線照射手段52の集光器522の直下に位置付ける。そして、集光器522からシリコンウエーハに対して吸収性を有する波長のパルスレーザー光線を照射しつつチャックテーブル51を図6において矢印X1で示す方向に所定の加工送り速度で移動せしめる(レーザー加工工程)。そして、レーザー光線照射手段52の集光器522の照射位置が分割予定ライン21の他端(図6において右端)の位置に達したら、パルスレーザー光線の照射を停止するとともにチャックテーブル51の移動を停止する。なお、シリコンウエーハに対して吸収性を有する波長のパルスレーザー光線としては、波長が370nm以下の紫外光のパルスレーザー光線が望ましく、特に波長が266nmのパルスレーザー光線は吸収性が良好でシリコンウエーハおよび接着フィルムを効率よく切断できる。
なお、上記レーザー加工工程は、例えば以下の加工条件で行われる。
レーザー光線の光源 :YVO4レーザーまたはYAGレーザー
波長 :266nm
繰り返し周波数 :50kHz
平均出力 :4W
集光スポット :楕円形:長軸200μm、短軸10μm
加工送り速度 :150mm/秒
レーザー光線の光源 :YVO4レーザーまたはYAGレーザー
波長 :266nm
繰り返し周波数 :50kHz
平均出力 :4W
集光スポット :楕円形:長軸200μm、短軸10μm
加工送り速度 :150mm/秒
上記加工条件においては1回の加工工程で40μm程度のレーザー加工溝が形成されるので、上記レーザー加工工程を2回繰り返し実行することにより半導体ウエーハ2が切断して分割され、更に上記レーザー加工工程を1回行うことにより接着フィルム3に70μm程度のレーザー加工溝を形成することができる。この結果、図7に示すように半導体ウエーハ2および接着フィルム3に分割予定ライン21に沿ってレーザー加工溝210が形成され、ウエーハ2がデバイス22毎に分割するとともに接着フィルム3が一部の切り残し部31を残存させて不完全切断される。なお、切り残し部31の厚さtは、図示の実施形態においては10μmとなる。この残し部31の厚さtは、20μm以下であることが望ましい。このようにレーザー加工工程においては、接着フィルム3が一部の切り残し部31を残存させて不完全切断されるので、接着フィルム3がダイシングテープTに癒着することがない。なお、上記レーザー加工工程においては、接着フィルム3を完全切断してもよい。このレーザー加工工程においては、ウエーハを切削装置によって切断するもののように分割されたデバイス22に高速回転する切削ブレードが接触しないので、デバイス22が接着フィルム3上を踊ることはないため、半導体ウエーハ2の厚さが100μm以下であってもデバイス22が損傷することはない。
上述したレーザー工程を半導体ウエーハ2に形成された全ての分割予定ライン21に実施する。
上述したレーザー工程を半導体ウエーハ2に形成された全ての分割予定ライン21に実施する。
以上のようにしてレーザー加工工程を実施したら、ダイシングテープを拡張して個々に分割された各デバイス間の隙間を広げ、裏面に該接着フィルムが装着されているデバイスを該ダイシングテープから剥離してピックアップするピックアップ工程を実施する。このピックアップ工程は、図8に示すピックアップ装置を用いて実施される。図8に示すピックアップ装置6は、基台61と、該基台61上に矢印Yで示す方向に移動可能に配設された第1のテーブル62と、該第1のテーブル62上に矢印Yと直交する矢印Xで示す方向に移動可能に配設された第2のテーブル63を具備している。基台61は矩形状に形成され、その両側部上面には矢印Yで示す方向に2本の案内レール611、612が互いに平行に配設されている。なお、2本の案内レールのうち一方の案内レール611には、その上面に断面がV字状の案内溝611aが形成されている。
上記第1のテーブル62は、中央部に矩形状の開口621を備えた窓枠状に形成されている。この第1のテーブル62の一方の側部下面には、上記基台61に設けられた一方の案内レール611に形成されている案内溝611aに摺動可能に嵌合する被案内レール622が設けられている。また第1のテーブル62の両側部上面には上記被案内レール622と直交する方向に2本の案内レール623、624が互いに平行に配設されている。なお、2本の案内レールのうち一方案内レール623には、その上面に断面がV字状の案内溝623aが形成されている。このように構成された第1のテーブル62は、被案内レール622を基台61に設けられた一方の案内レール611に形成された案内溝611aに嵌合するとともに、他方の側部下面を基台61に設けられた他方の案内レール612上に載置される。図示の実施形態におけるピックアップ装置6は、第1のテーブル62を基台61に設けられた案内レール611、612に沿って矢印Yで示す方向に移動する第1の移動手段64を具備している。
上記第2のテーブル63は矩形状に形成され、一方の側部下面には上記第1のテーブル62に設けられた一方の案内レール623に形成されている案内溝623aに摺動可能に嵌合する被案内レール632が設けられている。このように構成された第2のテーブル63は、被案内レール632を第1のテーブル62に設けられた一方の案内レール623に形成されている案内溝623aに嵌合するとともに、他方の側部下面を第1のテーブル62に設けられた他方の案内レール624上に載置される。図示の実施形態におけるピックアップ装置6は、第2のテーブル63を第1のテーブル62に設けられた案内レール623、624に沿って矢印Xで示す方向に移動する第2の移動手段65を具備している。
図示の実施形態におけるピックアップ装置6は、上記環状のフレームFを保持するフレーム保持手段66と、該フレーム保持手段66に保持された環状のフレームFに装着されたダイシングテープTを拡張するテープ拡張手段67を具備している。フレーム保持手段66は、環状のフレーム保持部材661と、該フレーム保持部材661の外周に配設された固定手段としての複数のクランプ662とからなっている。フレーム保持部材661の上面は環状のフレームFを載置する載置面661aを形成しており、この載置面661a上に環状のフレームFが載置される。そして、載置面661a上に載置された環状のフレームFは、クランプ662によってフレーム保持部材661に固定される。このように構成されたフレーム保持手段66は、第2のテーブル63の上方に配設され、後述するテープ拡張手段67によって上下方向に進退可能に支持されている。
テープ拡張手段67は、上記環状のフレーム保持部材661の内側に配設される拡張ドラム670を具備している。この拡張ドラム670は、環状のフレームFの内径より小さく該環状のフレームFに装着されたダイシングテープTに貼着される半導体ウエーハ2の外径より大きい内径および外径を有している。また、拡張ドラム670は、下端部に上記第2のテーブル63に設けられた穴(図示せず)の内周面に回動可能に嵌合する装着部を備えているとともに、該装着部の上側外周面には径方向に突出して形成された支持フランジ671を備えている。図示の実施形態におけるテープ拡張手段67は、上記環状のフレーム保持部材661を上下方向に進退可能な支持手段672を具備している。この支持手段672は、上記支持フランジ671上に配設された複数のエアシリンダ673からなっており、そのピストンロッド674が上記環状のフレーム保持部材661の下面に連結される。このように複数のエアシリンダ673からなる支持手段672は、図8および図9の(a)に示すように環状のフレーム保持部材661を載置面661aが拡張ドラム670の上端と略同一高さとなる基準位置と、図9の(b)に示すように環状のフレーム保持部材661を載置面661aが拡張ドラム670の上端から図において所定量下方の拡張位置に選択的に移動せしめる。
図示の実施形態におけるピックアップ装置6は、図8に示すように上記拡張ドラム670およびフレーム保持部材661を回動せしめる回動手段68を具備している。この回動手段68は、上記第2のテーブル63に配設されたパルスモータ681と、該パルスモータ681の回転軸に装着されたプーリ682と、該プーリ682と拡張ドラム670の支持フランジ671とに捲回された無端ベルト683とからなっている。このように構成された回動手段68は、パルスモータ681を駆動することにより、プーリ682および無端ベルト683を介して拡張ドラム670を回動せしめる。
図示の実施形態におけるピックアップ装置6は、上記環状のフレーム保持部材661に保持された環状のフレームFにダイシングテープTを介して支持されている半導体ウエーハ2の個々に分割されたデバイス22を検出するための検出手段7を具備している。検出手段7は、基台61に配設されたL字状の支持柱71に取り付けられている。この検出手段7は、光学系および撮像素子(CCD)等で構成されており、上記環状のフレーム保持部材661に保持された環状のフレームFにダイシングテープTを介して支持されている半導体ウエーハ2の個々に分割されたデバイス22を撮像し、これを電気信号に変換して図示しない制御手段に送る。
また、図示の実施形態におけるピックアップ装置6は、個々に分割されたデバイス22をダイシングテープTからピックアップするピックアップ手段8を具備している。このピックアップ手段8は、基台61に配設された旋回アーム81と、該旋回アーム81の先端に装着されたピックアップコレット82とからなっており、旋回アーム81が図示しない駆動手段によって旋回せしめられる。なお、旋回アーム81は上下動可能に構成されており、先端に装着されたピックアップコレット82は、ダイシングテープTに貼着されている個々に分割されたデバイス22をピックアップすることができる。
図示の実施形態におけるピックアップ装置6は以上のように構成されており、このピックアップ装置6を用いて実施するピックアップ工程について、主に図9および図10を参照して説明する。
上述したレーザー加工工程が実施され裏面に接着フィルム3が装着された個々のデバイス22をダイシングテープTを介して支持した環状のフレームFを図9の(a)に示すようにフレーム保持手段66を構成するフレーム保持部材661の載置面661a上に載置し、クランプ662によってフレーム保持部材661に固定する(フレーム保持工程)。このとき、フレーム保持部材661は図9の(a)に示す基準位置に位置付けられている。
上述したレーザー加工工程が実施され裏面に接着フィルム3が装着された個々のデバイス22をダイシングテープTを介して支持した環状のフレームFを図9の(a)に示すようにフレーム保持手段66を構成するフレーム保持部材661の載置面661a上に載置し、クランプ662によってフレーム保持部材661に固定する(フレーム保持工程)。このとき、フレーム保持部材661は図9の(a)に示す基準位置に位置付けられている。
図9の(a)に示すように基準位置に位置付けられているフレーム保持部材661に、裏面に接着フィルム3が装着された個々のデバイス22をダイシングテープTを介して支持した環状のフレーム4を固定したならば、テープ拡張手段67を構成する支持手段672としての複数のエアシリンダ673を作動して、環状のフレーム保持部材661を図9の(b)に示す拡張位置まで下降せしめる。従って、フレーム保持部材661の載置面661a上に固定されている環状のフレームFも下降するため、図9の(b)に示すように環状のフレームFに装着されたダイシングテープTは拡張ドラム670の上端縁に当接して拡張せしめられる(テープ拡張工程)。この結果、ダイシングテープTに貼着されている接着フィルム3には放射状に引張力が作用するので、接着フィルム3は上記レーザー加工工程において個々のデバイス22に沿って完全切断されていない場合には、このテープ拡張工程を実施することによって個々のデバイス22に沿って完全切断される。そして、接着フィルム3が装着された個々のデバイス22間の隙間Sが広げられる。
なお、上記テープ拡張工程において接着フィルム3が完全切断されていない場合には、上記切り残し部31が20μm以下であれば、接着フィルム3を各デバイス22の外周縁に沿って容易に破断することができる。また、接着フィルム3が完全切断されていない場合には、テープ拡張工程における環状のフレーム保持部材611の移動速度は、50mm/秒以上であることが望ましい。更に、接着フィルム3が完全切断されていない場合には、テープ拡張工程においては、上述したように接着フィルム3を10℃以下に冷却し伸縮性を低下せしめて実施することが望ましい。
上述したようにテープ拡張工程を実施したならば、第1の移動手段64および第2の移動手段65を作動して第1のテーブル62を矢印Yで示す方向(図8参照)に移動するとともに、第2のテーブル63を矢印Xで示す方向(図8参照)に移動し、フレーム保持部材661に保持された環状のフレームFに装着されたダイシングテープTに接着フィルム3を介して貼着されている個々のデバイス22を検出手段7の直下に位置付ける。そして、検出手段7を作動し個々のデバイス22間の隙間が矢印Yで示す方向または矢印Xで示す方向と一致するかを確認する。もし、個々のデバイス22間の隙間が矢印Yで示す方向または矢印Xで示す方向とズレているならば、回動手段68を作動しフレーム保持手段66を回動して一致させる。次に、第1のテーブル62を矢印Yで示す方向(図8参照)に移動するとともに、第2のテーブル63を矢印Xで示す方向(図8参照)に移動しつつ、図10に示すようにピックアップ手段8を作動しピックアップコレット82によって所定位置に位置付けられたデバイス22(裏面に接着フィルム3が装着されている)を吸着し、ダイシングテープTから剥離してピックアップ(ピックアップ工程)し、図示しないトレーまたはダイボンディング工程に搬送する。このピックアップ工程においては、上述したように接着フィルム6が装着された個々のデバイス22間の隙間Sが広げられているので、隣接するデバイス22と接触することなく容易にピックアップすることができる。従って、デバイス22の厚さが100μm以下であっても接触により破損することなく確実にピックアップすることができる。
2:半導体ウエーハ
21:ストリート
22:デバイス
40:ダイシングテープ
5:レーザー加工装置
51:レーザー加工装置のチャックテーブル
52:レーザー光線照射手段
522:集光器
6:ピックアップ拡張装置
61:基台
62:第1のテーブル
63:第2のテーブル
64:第1の移動手段
65:第2の移動手段
66:フレーム保持手段
67:テープ拡張手段
68:回動手段
7:検出手段
8:ピックアップ手段
F:環状のフレーム
T:ダイシングテープ
21:ストリート
22:デバイス
40:ダイシングテープ
5:レーザー加工装置
51:レーザー加工装置のチャックテーブル
52:レーザー光線照射手段
522:集光器
6:ピックアップ拡張装置
61:基台
62:第1のテーブル
63:第2のテーブル
64:第1の移動手段
65:第2の移動手段
66:フレーム保持手段
67:テープ拡張手段
68:回動手段
7:検出手段
8:ピックアップ手段
F:環状のフレーム
T:ダイシングテープ
Claims (4)
- 表面に格子状に形成された分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成された厚さが100μm以下のウエーハを分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割するとともに、該デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着するデバイスの製造方法であって、
ウエーハの裏面に接着フィルムを装着するとともに該接着フィルム側を環状のフレームに装着されたダイシングテープの表面に貼着するウエーハ支持工程と、
該ダイシングテープに該接着フィルム側を貼着したウエーハの分割予定ラインに沿ってウエーハに対して吸収性を有する波長のパルスレーザー光線を照射し、ウエーハを個々のデバイスに分割するとともに該接着フィルムを切断するレーザー加工工程と、
該レーザー加工工程を実施した後に、該ダイシングテープを拡張して個々に分割された各デバイス間の隙間を広げ、裏面に該接着フィルムが装着されているデバイスを該ダイシングテープから剥離してピックアップするピックアップ工程と、を含む、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。 - 該レーザー加工工程は、接着フィルムを一部の切り残し部を残存させて不完全切断する、請求項1記載のデバイスの製造方法。
- 該レーザー加工工程は、波長が370nm以下のパルスレーザー光線を照射する、請求項1又は2記載のデバイスの製造方法。
- 該ピックアップ工程においては、該接着フィルムを冷却し伸縮性を低下させて該ダイシングテープを拡張する、請求項2記載のデバイスの製造方法。
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