JP4937886B2 - 燃焼式排ガス処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、例えばシランガス（ＳｉＨ_４）、或いはハロゲン系のガス（ＮＦ_３，ＣｌＦ_３，ＳＦ_６，ＣＨＦ_３，Ｃ_２Ｆ_６，ＣＦ_４等）を含む有害可燃性の排ガスを燃焼処理し、無害化するための燃焼式排ガス処理装置に関する。

例えば、半導体製造装置からはシランガス（ＳｉＨ_４）、或いはハロゲン系のガス（ＮＦ_３，ＣｌＦ_３，ＳＦ_６，ＣＨＦ_３，Ｃ_２Ｆ_６，ＣＦ_４）等の有害可燃ガスを含むガスが排出されるが、このような排ガスは、そのままでは大気に放出することはできない。そこで、これらの排ガスを除害装置に導いて、燃焼による酸化無害化処理を行うことが一般に行われている。この処理方法としては、助燃ガスを用いて炉内に火炎を形成し、この火炎により排ガスを燃焼させるようにしたものが広く採用されている（例えば、特許文献１）。

半導体産業や液晶産業向け燃焼式排ガス処理装置は、排ガス処理において、燃焼処理副生成物として、多量の粉塵（主としてＳｉＯ_２）の発生や多量の酸性ガスの発生が見込まれる。そのため、定期的に処理部内に付着堆積した粉体の除去メンテナンスが必要となるか、付着堆積した粉体をスクレーパーなどの機構を追加することで、燃焼処理室の筒体内壁面を定期的に掻き取ることが必要であった。

付着堆積する粉体は、主としてＳｉＯ_２（二酸化珪素）であるが、これ以外にも有毒な粉体が入り混じる可能性が高く、さらにそれら粉体の粒子径はまちまちで、０．１ミクロン程度から数十ミクロン、または大きな塊状となっており、粉体除去メンテナンス時などには、吸引による健康被害など安全性の確立が他に必要な状態である。

また、粉体の掻き取り機構を設けた場合には、部品点数が増加することで、製品製造コストの上昇や定期的な掻き取り機構部品の交換が必要となり、ランニングコストの増加にも直結している。

また、燃焼処理室の燃焼ガスは約１７００℃程度と高温であるので、燃焼処理室を囲む筒体にはアルミナ系ガラスセラミックス材料等の耐熱性の高い材料が用いられる。しかしながら、燃焼処理室は高温であり、例えばフッ素系や塩素系のガスが存在すると、燃焼処理室を囲む筒体内壁面が腐食され、消耗するので定期的に交換する必要がある。このため、高価な筒体の交換のためのコストがかかり、また、メンテナンスの手間が必要となる。

特開平１１−２１８３１７号公報

本発明はこのような課題を解決するもので、燃焼処理室を囲む筒体を安価な材料で構成でき、且つ粉体が燃焼処理室内壁面に付着せず、腐食性ガスにより燃焼処理室内壁面が損傷せず、メンテナンスの手間とコストを低減できる燃焼式排ガス処理装置を提供することを目的とする。

本発明の燃焼式排ガス処理装置は、処理対象排ガスの燃焼処理部と、前記燃焼処理部で燃焼処理した排ガスを冷却する冷却部を搭載した燃焼式排ガス処理装置であって、前記燃焼処理部は、内部に火炎を形成する排ガス処理用燃焼器と、金属材料からなり、前記排ガス処理用燃焼器の下側に設けられた筒体と、前記排ガス処理用燃焼器と前記筒体の間に設けられた水溜め部と、前記筒体の内壁面に水膜を形成する水膜形成機構とを備え、前記筒体は、前記火炎の下流側に配置されており、前記水膜形成機構は、前記水溜め部に水の旋回流を形成する少なくとも一つの水の供給口を備え、前記水溜め部に前記水の旋回流を形成することで、前記筒体の内壁面にらせん状の水膜を形成することを特徴とする。

本発明の燃焼式排ガス処理装置によれば、筒体の内壁面に水膜を形成するので、水膜により断熱が施され、例えばステンレス鋼等の安価な材料を筒体に用いることができる。そして、筒体の内壁面に水膜を形成するので、粉体が水膜により洗い流され、筒体の内壁面に付着せず、また腐食性ガスが水膜により洗い流され、筒体の内壁面が損傷しない。これにより、ステンレス鋼等の安価な材料を筒体に用いることができ、筒体自体の製造コストを低減出来ると共に、メンテナンスの手間とコストを低減出来る。

以下、本発明の実施形態について、添付図面を参照して説明する。なお、各図中、同一の作用または機能を有する部材または要素には、同一の符号を付して説明する。

図１は、本発明の一実施形態の燃焼式排ガス処理装置における燃焼処理部を示す。この燃焼処理部１１は、排ガス処理用燃焼器１２を備え、ノズル１３から供給される排ガスを、空気ノズル１４から供給される空気の旋回流と、助燃ガスノズル１５から供給される助燃ガスと混合して燃焼し、火炎１７を形成する。火炎１７の下流側には、円筒状の筒体１８に囲まれた燃焼処理室（保炎室）１９が配置され、燃焼処理室１９で排ガスの燃焼処理が進行する。排ガス処理用燃焼器１２と筒体１８との間には、水流フランジ２０を備え、水が筒体１８の内壁面に沿って流下し、筒体１８の内壁面に水膜Ａを形成する。

この実施形態では、筒体１８としてステンレス鋼が用いられ、この筒体１８の内壁面に荒れ加工が施されている。この荒れ加工により内壁面の濡れ性が向上し、均一な水膜を内壁面の全面に形成できる。例えば疎水性であるステンレス鋼の内表面を鏡面に加工すると、水滴が生じやすくなり、均一な水膜を内壁面の全面に形成することは困難である。荒れ加工を筒体１８の内壁面の全面に施すことで、水切れの存在しない安定した水膜を筒体１８の内壁面の全面に確保することができる。

荒れ加工は、圧縮空気や遠心力などを用いて研削材（例えば砂、ガラスビーズなど）を加工面に高速で噴射し、その衝撃力で適切な粗さの粗面を生み出すブラスト加工により形成される。また、荒れ加工は、多数刃工具による切削加工（ブローチ加工）、工具を上下方向に直線運動させ、工作物の送り運動と組み合わせて削るスプライン加工などの機械加工を用いて形成することができる。また、薬品（硝酸、フッ酸、塩酸、硫酸など）を入れた槽に浸漬し、取り出して水洗・乾燥を行う酸洗い、ガラス繊維系・ケイ素ポリマー・テフロン（登録商標）などの親水性膜を内面に塗布する親水性コーティングなどの表面処理によっても形成できる。

排ガスの分解には１７００℃以上の高温が好ましく、燃焼処理室１９内の温度はこの程度の温度に維持される。水膜Ａの厚さは少なくとも２ｍｍ以上となるように、水流フランジ２０からの水の供給量が調整される。厚さ２ｍｍ以上の水膜Ａを形成することで、水膜Ａにより断熱が施され、筒体１８の温度は略常温（５０℃以下）に保たれる。これにより、高価なアルミナ系ガラスセラミックス材料に代えて、例えばステンレス鋼等の安価な材料を筒体１８に用いることができる。なお、水流フランジ２０における水温を３０℃とすると、筒体１８の出口における水温を数十℃以下に抑えることができる。

筒体１８の内壁面に水膜Ａを形成するので、燃焼処理室１９で形成される粉体が筒体１８の内壁面に付着しようとすると水膜Ａの水流により洗い流され、筒体１８の内壁面に付着しない。同様に、腐食性ガス分子が筒体１８の内壁面に付着しようとすると水膜Ａの水流により洗い流され、例えばフッ素系の処理反応副生成物であると薄いフッ酸となり、筒体１８の内壁面を損傷しない。これにより、ステンレス鋼等の安価な金属材料を筒体１８に用いても、内壁面に粉体が付着せず、酸化性ガスによる腐食が生じないので、メンテナンスの手間とコストを大幅に低減出来る。

筒体１８の内壁面は、図１の例では上流側から下流側に向かって内径が同一な直胴型であるが、上流側から下流側に向かって内径が縮小するコニカル型を用いてもよい。直胴型のメリットは、処理反応部に溶接部を無くせるので水切れの可能性が少なくなる、筒体の製造加工が容易で製造コストを低減出来ることなどである。また、コニカル型のメリットは、下細りになっているので水膜が形成し易い点にあるが、溶接部で水切れを起こさないようにするために溶接の技術力を要し、製造コストが高くなる。

図２乃至図１０は、筒体の内壁面に水膜を形成する各種機構の構成例を示す。
図２は水流フランジ（水膜形成機構）２０の構成例を示す。この例の水膜形成機構２０は、環状の水溜め部２４と、堰１８ａとを備えている。堰１８ａは水溜め部２４の一部を構成している。堰１８ａの頂部を均一な高さとすることにより円筒状の筒体１８の内壁面に沿って均質な膜厚の水膜を形成することができる。図３は円筒状堰の頂部の内周面側を円弧状とした堰１８ｂを示す。この例の水膜形成機構の基本的構成は図２と同様である。これにより、堰１８ｂを越える水の流れを滑らかなものとすることができる。

図４は図２の変形例であり、堰の頂部をＬ字型とした堰１８ｃを示す。この例の水膜形成機構は、環状の水溜め部２４と、堰１８ｃとを備えている。堰１８ｃは水溜め部２４の一部を構成している。図５は堰の頂部をＬ字型とし、さらに円筒状堰の頂部の内周面側を円弧状とした堰１８ｄを示す。この例の水膜形成機構の基本的構成は図４と同様である。図６は、円筒状の堰１８ｅの径方向内側に円筒部材３３を配置し、堰１８ｅと円筒部材３３との間の微小な隙間から水を流下させる例を示す。この例の水膜形成機構は、環状の水溜め部２４と、堰１８ｅと、円筒部材３３とを備えている。堰１８ｅは水溜め部２４の一部を構成している。

図７（ａ）および図７（ｂ）は円筒状堰の頂部の下に矩形の開口２０ｆを設け、この開口２０ｆから水を円筒状の筒体１８の内周面に流出させるようにした堰１８ｆを示す。この例の水膜形成機構は、環状の水溜め部２４と、堰１８ｃと、堰１８ｃに形成された複数の開口２０ｆとを備えている。図８（ａ）および図８（ｂ）は円筒状の筒体１８の内周面にらせん状に水流を形成するようにした流出口２０ｇを示す。この例の水膜形成機構は、筒体１８の内周面に形成された複数の流出口２０ｇを備えている。すなわち、流出口２０ｇは円筒状の筒体１８の内周面に沿って水平方向に水流を形成する。流出口２０ｇが複数個配置されているので、これにより筒体１８の内周面に均質な膜厚の水膜が形成される。図９（ａ）乃至図９（ｃ）は、同様に円筒状の筒体１８の内周面にらせん状に水流を形成するようにした流出口２０ｈを示す。この例の水膜形成機構は、環状の水溜め部２４と、筒体１８に形成された、縦長に延びる複数の流出口２０ｈとを備えている。ここで、流出口２０ｈは一辺が開口した矩形状をなしていて、筒体１８の内面に対して水平かつ接線方向に水を流出させることで、矩形状をなす流出口２０ｈも水膜で覆われる構造となっている。

図１０（ａ）および図１０（ｂ）は、水溜め部２４に接線方向から水を供給することにより該水溜め部２４に旋回流を形成させ、堰１８ｉから溢れ出る水がらせん状に流れるようにした例を示す。この例の水膜形成機構は、環状の水溜め部２４と、堰１８ｉと、水溜め部２４に接線方向から水を供給する少なくとも１つの供給口２０ｉとを備えている。堰１８ｉは水溜め部２４の一部を構成している。供給口２０ｉから水溜め部２４に水を供給すると、この水溜め部２４に水の旋回流が形成される。その結果、水溜め部２４内の水位が全周方向において均一に上昇し、水は堰１８ｉから筒体１８の内面に均一に溢れ出る。供給口２０ｉは、１つまたは複数であってもよい。供給口２０ｉが１つの場合であっても、水溜め部２４には水の旋回流が形成されるので、筒体１８の内面に均一な水膜を形成することができる。この構成例によれば、排ガス処理装置１０の設置条件によって筒体１８が水平方向からある程度傾いても（例えば、長さ２００ｃｍに対して高さ１ｃｍ程度の傾斜）、均一な水膜を安定して形成することができる。

図１１は、燃焼式排ガス処理装置１０の全体構成例を示す。燃料と酸素とは配管３５，３６を介して予混合器３７に供給され、ここで混合されて予混合燃料が形成される。この予混合燃料は燃焼処理部１１に配管３８を介して供給される。また、排ガスを燃焼（酸化）させるための酸素源となる空気が配管３９を介して燃焼処理部１１に供給される。

燃焼式排ガス処理装置１０は、筒体１８の下流側に燃焼処理した排ガスを冷却する冷却部２１と、筒体１８の内壁面に水膜Ａを形成した水を貯留して循環させる循環タンク２５とを備えている。排ガスを冷却する冷却部２１は、筒体１８の下端部と循環タンク２５とを接続する配管２２と、配管２２から分岐して水洗部３１と接続する配管２７とを備えている。配管２７は、配管２２から分岐して上方に向けて傾斜し、垂直管を介して水洗部（水洗室）３１の下端に接続される。配管２７の垂直管との接続部分の近傍に配管２７の内壁に水膜を形成する散水装置２８を備えている。

配管２２と配管２７とは、配管２２は筒体１８から流下する水膜により、配管２７は散水装置２８から散水して形成される水膜により管内壁の全周面が水膜により被覆されている。この水膜により断熱されるので、燃焼処理された排ガスは高温であるが配管２２，２７自体は略常温（５０℃以下）に維持され、腐食性ガスによる損傷もないため、安価なステンレス鋼を配管２２，２７の材料として用いることができる。なお、従来から、ステンレス鋼等の金属材料で構成された配管の接ガス部表面に耐食性のある材料（テフロン（登録商標）やＰＶＣ材料）を化学的に蒸着したり、物理的なコーティング、塗布、または貼り付けるなどの対策を施している場合があるが、このような対策も不要となる。

配管２２または配管２７の内壁に、フィンまたは邪魔板などの冷却を促進する機構を設けることが好ましい。フィンまたは邪魔板などの冷却を促進する機構の例を図１２乃至図１６に示す。図１２（ａ）および図１２（ｂ）は配管２２の内周面にリング状のフィン２３を配置したものである。図１３（ａ）および図１３（ｂ）は同様にリング状のフィン２３を設けたものであるが、図１２（ａ）および図１２（ｂ）の例ではフィン２３の断面が矩形状であるのに対し、図１３（ａ）および図１３（ｂ）の例ではフィン２３の断面が三角形状である点で相違する。図１４（ａ）および図１４（ｂ）は、配管２２の流れ方向に沿って傾斜した短いフィン２３を設けたものである。図１５（ａ）および図１５（ｂ）は配管２２の内周に半月型の邪魔板２３を設けたものである。半月型の邪魔板２３は、配管内の内周の一部分に沿うような形状に構成されており、配管内で高さと円周上の位置をずらして取り付けられている。排ガス流は配管２２の内壁と邪魔板２３に接触しながら流れる。このようにして、水膜に被覆されたフィンまたは邪魔板などにより、排ガスの冷却効果が促進される。なお、図１６（ａ）および図１６（ｂ）は、らせん状にフィン２３を配管２２の内周面に設けたものである。

燃焼式排ガス処理装置１０において、水洗部３１はフィルタ３１ａと散水装置３１ｂとを備えている。燃焼した排ガスは冷却部２１で冷却された後、水洗部３１に導入される。この水洗部３１は、排ガスの燃焼処理によって発生する粉体および酸化性ガスなどの処理反応副生成物を水洗にて捕集除去する。フィルタ３１ａにより除去された粉体等は散水装置３１ｂの散水により下方に落下し、配管２７，２２を通り、循環タンク２５に流入し、貯留される。燃焼処理により無害化され、冷却部２１で冷却され、水洗部３１で水洗処理された処理済排ガスは配管３２を介して大気中などに排気される。

循環タンク２５には堰２６が設けられ、配管２２を流下した水は一旦堰２６の図示左側の室に入り、左側の室から堰２６を越えた水が堰２６の図示右側の室に入り、ポンプ３０により吸引され、供給配管３４を通って熱交換器４０に送られ、この熱交換器４０で冷却水と熱交換され、好ましい温度に調温された後、循環水として再利用される。タンク２５の堰２６の左側の室には、粉体を多量に含む水が流入するが、粉体の内、粒径の大きいものは、重いので室底部に沈み、粒径のごく小さいものは軽いので堰２６を越え、図示右側の室に入り、循環水として利用される水中に混入する。循環水として利用する上で支障のない混入粉体の粒径は５０μｍ程度と考えられ、堰２６の高さは粒径５０μｍ以上の粉体が越えられない高さに設定することが好ましい。

熱交換器４０で調温された水は、Ｗ１として水流フランジ２０に供給され、筒体１８の内壁面の水膜Ａを形成し、さらに配管２２の内周面に水膜を形成し、循環タンク２５に戻るように循環する。また、熱交換器４０で調温された水の一部は、水洗部３１の散水装置３１ｂに供給され、循環タンク２５に戻るように循環する。さらに、熱交換器４０で調温された水の一部は、散水装置２８に供給され、配管２２の内周面に水膜を形成した後、循環タンク２５に戻るように循環する。従って、この燃焼式排ガス処理装置１０においては、使用する水の大部分に循環水を用いて運転が可能であるので、市水、工業用水等の補給がごく僅かな量で済むという利点がある。また、水洗後の水は薄いフッ酸となる場合があるが、循環水として循環利用されるので、外部に放出されないという環境上の利点がある。

熱交換器４０に供給される冷却水の一部は、排ガス処理用燃焼器１２を冷却するための冷却水Ｗ２として、燃焼処理部１１に設けられた図示しない冷却水路に供給される。また、ポンプ３０によって移送される水の一部Ｗ３は、循環タンク２５の側部から循環タンク２５内に流入するようになっている。流入した水は、循環タンク２５の底部に堆積した副生成物を堰２６の方に押し流す。これにより、配管２２の下端開口部が副生成物によって閉塞してしまうことが防止される。

さらに、この燃焼式排ガス処理装置１０においては、筒体１８に温度センサ４１を備え、筒体１８の温度上昇を監視している。万一、筒体１８の内壁面に水切れなどが生じると、その部分で断熱効果がなくなり、筒体１８は直接高温の燃焼排ガスと接触し、損傷を受けることになる。このような事態を検出するため、筒体１８に温度センサ４１を備え、安全確保を図っている。

また、筒体１８の受け皿に相当する部分に漏水センサ４２を備えている。例えば、筒体１８に損傷があり、貫通孔がある場合には、漏水センサ４２でこれを検出することができる。このように、漏水センサ４２を備えることで、安全性を向上できる。

これまで本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施されてよいことは勿論である。

本発明の一実施形態の燃焼処理部を示す断面図である。 水膜形成機構の例を示す断面図である。 水膜形成機構の変形例を示す断面図である。 水膜形成機構の他の変形例を示す断面図である。 水膜形成機構の他の変形例を示す断面図である。 水膜形成機構の他の変形例を示す断面図である。 図７（ａ）は水膜形成機構の他の変形例を示す断面図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）に示す水膜形成機構の正面図である。 図８（ａ）は水膜形成機構の他の変形例を示す平面図であり、図８（ｂ）は図８（ａ）に示す水膜形成機構の断面図である。 図９（ａ）は水膜形成機構の他の変形例を示す平面図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）に示す水膜形成機構の断面図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）に示す水膜形成機構の正面図である。 図１０（ａ）は水膜形成機構の他の変形例を示す断面図であり、図１０（ｂ）は図１０（ａ）に示す水膜形成機構の平面図である。 本発明の一実施形態の燃焼式排ガス処理装置を示すブロック図である。 図１２（ａ）は冷却を促進する機構の構造例を示す平面図であり、図１２（ｂ）は図１２（ａ）に示す機構の断面図である。 図１３（ａ）は冷却を促進する機構の他の構造例を示す平面図であり、図１３（ｂ）は図１３（ａ）に示す機構の断面図である。 図１４（ａ）は冷却を促進する機構の他の構造例を示す平面図であり、図１４（ｂ）は図１４（ａ）に示す機構の断面図である。 図１５（ａ）は冷却を促進する機構の他の構造例を示す平面図であり、図１５（ｂ）は図１５（ａ）に示す機構の断面図である。 図１６（ａ）は冷却を促進する機構の他の構造例を示す平面図であり、図１６（ｂ）は図１６（ａ）に示す機構の断面図である。

符号の説明

１０ 燃焼式排ガス処理装置
１１ 燃焼処理部
１２ 排ガス処理用燃焼器
１３ ノズル
１４ 空気ノズル
１５ 助燃ガスノズル
１７ 火炎
１８ 筒体
１９ 燃焼処理室
２０ 水流フランジ
２１ 冷却部
２２，２７，３２，３４，３５，３６，３８，３９ 配管
２３ フィン（邪魔板）
２５ 循環タンク
２６ 堰
３０ ポンプ
３１ 水洗部
３１ａ フィルタ
３１ｂ，２８ 散水装置

Claims (15)

1. 処理対象排ガスの燃焼処理部と、
   前記燃焼処理部で燃焼処理した排ガスを冷却する冷却部を搭載した燃焼式排ガス処理装置であって、
   前記燃焼処理部は、
   内部に火炎を形成する排ガス処理用燃焼器と、
   金属材料からなり、前記排ガス処理用燃焼器の下側に設けられた筒体と、
   前記排ガス処理用燃焼器と前記筒体の間に設けられた水溜め部と、
   前記筒体の内壁面に水膜を形成する水膜形成機構とを備え、
   前記筒体は、前記火炎の下流側に配置されており、
   前記水膜形成機構は、前記水溜め部に水の旋回流を形成する少なくとも一つの水の供給口を備え、前記水溜め部に前記水の旋回流を形成することで、前記筒体の内壁面にらせん状の水膜を形成することを特徴とする燃焼式排ガス処理装置。
2. 前記供給口は、前記水溜め部に接線方向から水を供給することにより該水溜め部に水の旋回流を形成することを特徴とする請求項１記載の燃焼式排ガス処理装置。
3. 前記筒体の内壁面は、上流側から下流側に向かって内径が同一な直胴型であることを特徴とする請求項１に記載の燃焼式排ガス処理装置。
4. 前記筒体の内壁面は、上流側から下流側に向かって内径が縮小するコニカル型であることを特徴とする請求項１に記載の燃焼式排ガス処理装置。
5. 前記筒体の下流側に配置され、前記冷却部に接続された循環タンクを備えたことを特徴とする請求項１に記載の燃焼式排ガス処理装置。
6. 前記循環タンクに堰を設け、所定サイズ以上の粒径の処理反応副生成物を含む水を循環させないようにしたことを特徴とする請求項５記載の燃焼式排ガス処理装置。
7. 燃焼処理によって発生する処理反応副生成物を水洗いによって捕集除去する水洗部をさらに備え、
   前記冷却部は、前記筒体の下端部と前記循環タンクとを接続する第１の配管と、該第１の配管から分岐し、前記水洗部に接続する第２の配管とを備え、該第１の配管と該第２の配管の内壁面に水膜を形成する機構を備えたことを特徴とする請求項５記載の燃焼式排ガス処理装置。
8. 前記第２の配管は、前記第１の配管から分岐した部分から上方に傾斜して配置され、前記第２の配管の内壁面に散水する散水装置を備えたことを特徴とする請求項７記載の燃焼式排ガス処理装置。
9. 燃焼処理によって発生する処理反応副生成物を水洗いによって捕集除去する水洗部と、 前記循環タンクに貯留された水を、前記筒体の内壁面に水膜を形成する前記水膜形成機構と、前記水洗部と、前記冷却部とに供給する供給配管およびポンプと、
   該供給配管に接続した熱交換器とをさらに備えたことを特徴とする請求項５記載の燃焼式排ガス処理装置。
10. 前記水膜形成機構および前記水洗部に供給された水は、前記冷却部を通じて前記循環タンクに戻されることを特徴とする請求項９記載の燃焼式排ガス処理装置。
11. 前記筒体に温度センサを備え、前記筒体の温度上昇を検出するようにしたことを特徴とする請求項１記載の燃焼式排ガス処理装置。
12. 前記筒体の漏水を検出する漏水センサを備えたことを特徴とする請求項１記載の燃焼式排ガス処理装置。
13. 前記筒体は、ステンレス鋼から構成されていることを特徴とする請求項１記載の燃焼式排ガス処理装置。
14. 前記筒体の内壁面には、荒れ加工が施されていることを特徴とする請求項１記載の燃焼式排ガス処理装置。
15. 前記水膜形成機構は、少なくとも厚さが２ｍｍの水膜を均一に形成することを特徴とする請求項１記載の燃焼式排ガス処理装置。

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