KR102430134B1 - 유해가스 제거용 스크러버 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 등의 제조공정에서 발생하는 유해가스를 제거하는 스크러버에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 히팅챔버를 포함하는 유해가스 제거용 스크러버에 있어서, 상기 히팅챔버를 거친 유해가스를 냉각하고 상기 유해가스에 포함된 파우더가 내주면에 쌓이는 것을 방지하도록 워터막을 형성하는 쿨링유닛을 포함하는 유해가스 제거용 스크러버에 의해 달성된다. 이에 따라, 워터막을 형성함으로써 유해가스의 파우더가 쌓이는 것을 방지할 수 있으며, 쿨링유닛의 내면이 산화되어 부식되는 것을 방지할 수 있다.

Description

유해가스 제거용 스크러버{Scrubber for removing harmful gases}

본 발명은 반도체 등의 제조공정에서 발생하는 유해가스를 제거하는 스크러버에 관한 것이다.

화학 증기 점착, 플라즈마 에칭 등 반도체 제조공정에서는 실란, 디클로롤실란, 암모니아, 산화질소, 아르신, 포르핀, 디포린 등의 유독성 가스가 사용될 수 있다. 따라서 이들 제조공정의 배출가스에는 BCl3, Cl2, HCl, HF 등의 유해성분이 함유될 수 있다. 스크러버는 이와 같이 유해성분을 함유한 배출가스를 외기로 방출시키기 전정화 처리하는 설비 중 하나이다.

스크러버가 배출가스를 처리하는 방법으로는 크게 습식 처리법과 건식 처리법이 알려져 있다.

습식 처리법은 배출가스를 물이나 알칼리성 수용액에 기액 접촉시켜 유해성분을 중화시키거나 흡수 처리하는 방식이다. 분사노즐을 통해 물 또는 알칼리성 수용액을 분사하고, 분사영역에 배출가스를 통과시키는 구조가 대표적이다. 다만, 습식 처리법은 처리과정에서 발생되는 고체 부산물이 막힘 현상을 일으킬 수 있으며, 연소식 처리법 대비 고농도의 배출가스를 처리하는데 한계가 있다. 따라서 근래에는 연소식 처리법과 같은 건식 처리법과 습식 처리법을 병행하는 건습식 혼합형의 스크러버 또한 널리 사용되고 있다.

건식 처리법은 배출가스를 가열 산화시키는 연소식과, 흡착제를 사용한 흡착식으로 다시 구분될 수 있다.

흡착식 처리법은 건식 처리법의 일종으로, 충진된 흡착제 내부로 배출가스를 통과시키고, 유해성분과 흡착제 간 반응에 의해 유해성분을 흡착 제거하는 방식이다. 이러한 흡착식 처리법은 다른 처리법에 비해 시스템 구성이 간소하여 사용 및 취급이 용이한 이점이 있다. 흡착제로는 알루미나, 소석회, 알루미나 실리케이트, 제올라이드 등의 무기 흡착제, 활성탄, 무기 흡착제를 담체로 알칼리 화합물이나 산성 화합물을 처리한 첨착 무기 흡착제, 흡착 기능이 있는 레진 종류, 활성탄에 화학물질을 처리한 첨착 활성탄 등 다양한 종류가 사용될 수 있으며, 필요에 따라 2종 이상의 흡착제가 사용되기도 한다.

연소식 처리법은 연소챔버 내에서 배출가스를 연소시켜 유해성분을 열분해하는 방식이다. 연소식 처리법은 다른 처리법들에 비해 고농도의 배출가스를 취급하는데 적합하여 반도체 제조공정 등의 배출가스 처리에 널리 사용되고 있으며, 습식 처리법을 병행하는 혼합형 스크러버의 형태로도 다수 적용되고 있다. 다만, 연소식 처리법은 열분해를 위해 고온의 환경이 요구되는바, 안전상의 문제점 및 경제성이 단점으로 지적되고 있다.

상기와 같은 연소식 처리법에 있어 또 다른 문제점 중 하나는 배출가스의 열분해시 발생되는 파우더이다. 즉, 연소챔버 내에서 배출가스를 고온으로 연소시키면, 열분해의 부산물로 다량의 파우더가 발생되는데, 이와 같은 파우더가 연소챔버나 각종 배관의 내벽에 점착되어 장치의 처리효율을 저감시키는 것이다.

따라서 종래 파우더의 점착을 방지하기 위한 다양한 방법들이 제안된 바 있다. 일 예로, 전처리 수단을 통해 배출가스로부터 수분을 제거함으로써, 파우더의 점착을 저감시키는 방법이 알려졌다. 다만, 이 방법은 파우더의 점착을 일정부분 저감시킬 순 있으나, 전처리 수단을 통한 수분 제거에 한계가 있기 때문에, 파우더의 점착을 완전히 방지하긴 어렵다. 다른 예로, 물리적 수단을 통해 내벽 등에 점착된 파우더를 제거하는 방식이 있다.

대표적으로, 스크래퍼를 통해 내벽에 붙은 파우더를 긁어내는 방법이다. 이 방법은 비교적 간단한 구조로 구현될 수 있어 장치비용의 증가를 최소화면서도, 점착된 파우더를 직접 긁어내기 때문에 작동시 그 효과가 즉시 나타나는 이점이 있다.

스크래퍼를 사용한 방식의 일 예로, 등록특허공보 제10-1391191호(이하, 특허문헌 1)는 스크러버용 부산물 제거장치 등을 개시한 바 있다. 특허문헌 1은 연소챔버 내에 상하로 연장된 부산물 제거부재(스크래퍼)가 구비되며, 이와 같은 스크래퍼가 연소챔버의 중심축을 기준으로 회전되어 내벽의 부산물(파우더)을 긁어내도록 구성되고 있다. 이와 같은 구조는 특허문헌 1 외에도 대부분의 스크래퍼 방식에서 채용되고 있는 구조이다.

그러나 상기의 특허문헌 1과 같은 스크래퍼의 구조는 다음과 같은 문제점들을 가지고 있다.

먼저 스크래퍼가 상하로 길게 연장되며, 스크래퍼 상단으로 구동력이 전달되어 내벽을 따라 회전되기 때문에, 구조상 스크래퍼가 연소챔버 내벽에 밀착되기가 어렵다. 특히, 스크래퍼 하단은 특별한 지지구조 없이 자유단으로 형성되어 있기 때문에, 보다 쉽게 내벽으로부터 이격될 수 있다. 따라서 스크래퍼가 내벽에 밀착되지 않음으로 인해, 내벽에 점착된 파우더의 제거 성능이 저하될 수 있다.

또한, 스크래퍼의 교체 시 다음과 같은 문제점이 발생할 수 있다. 스크래퍼는 연소챔버의 내벽에 접촉되어 내벽을 긁고 지나가는 부품이기 때문에 마모 및 교체가 예정되어 있다. 특히, 연소챔버는 배출가스가 가열 산화되는 공간으로 고온의 환경이 조성되기 때문에 이와 같은 스크래퍼의 마모가 촉진될 수 있다. 그러나 특허문헌 1과 같은 종래의 구조는 이러한 스크래퍼의 교체가 상당히 까다로운 단점을 가진다.

더욱 상세하게는, 특허문헌 1은 스크래퍼의 상단이 연소챔버 상부에 장착 지지된 구조를 가지며, 스크래퍼를 구동시키기 위한 모터, 기어구조 등도 마찬가지로 연소챔버 상부에 내설된 구조로 이뤄져 있다. 이때, 스크래퍼나 이를 위한 기계적 구조(모터, 기어구조 등)가 장착 배치된 연소챔버 상부는 가스 유입관이나 플라즈마 토치 등의 가열수단이 배치된 곳으로 상당히 복잡한 구조를 이루고 있다. 특히, 플라즈마 토치 등의 가열수단은 연소챔버 내 화염이나 아크를 발생시키는 민감한 핵심부품으로, 그 해체나 조립이 용이하지 않다. 그럼에도 불구하고, 특허문헌 1과 같은 종래의 구조는 스크래퍼의 교체를 위해 연소챔버 상부구조의 분해 및 재조립이 불가피하다. 기본적으로, 스크래퍼나 관련된 기계적 구조가 모두 연소챔버 상부에 내설된 구조를 가지기 때문이다. 따라서 스크래퍼의 교체를 위해 플라즈마 토치 등 민감한 핵심부품의 분해 및 재조립이 함께 요구되며, 이로 인해 스크래퍼의 교체 작업이 상당히 까다로워지는 문제점을 가진다.

등록특허공보 제10-1391191호(2014년 4월 25일 등록)

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 스크래퍼를 생략하고 워터막을 형성하여 유해가스의 파우더가 쌓이는 것을 방지할 수 있는 유해가스 제거용 스크러버를 제공하는데 그 목적이 있다.

또한, 회전하는 워터막을 형성함으로써 유해가스의 파우더가 쌓이는 것을 더욱 방지할 수 있으며, 쿨링유닛의 내면이 산화되어 부식되는 것을 방지할 수 있는 유해가스 제거용 스크러버를 제공하는데 그 목적이 있다.

이러한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 히팅챔버를 포함하는 유해가스 제거용 스크러버에 있어서, 상기 히팅챔버를 거친 유해가스를 냉각하고 상기 유해가스에 포함된 파우더가 내주면에 쌓이는 것을 방지하도록 워터막을 형성하는 쿨링유닛을 포함하는 유해가스 제거용 스크러버에 의해 달성된다.

또, 상기 쿨링유닛은,

상기 히팅챔버와 결합하고 하부에 물을 주입하는 적어도 하나의 주입구를 마련하는 외부하우징과, 상기 외부하우징의 내부에 상기 외부하우징과 인접한 주입공간을 형성하는 내부하우징 및 상기 주입공간으로 주입된 물을 분사시켜 워터막을 형성하는 노즐부를 포함할 수 있다.

또, 상기 쿨링유닛은,

상기 주입공간에서 물을 회전시키고 상기 노즐부의 분사력을 상승시키는 가이드부를 더 포함할 수 있다.

또, 상기 쿨링유닛은,

상기 주입공간과 상기 노즐부 사이에 마련되는 회전수단을 더 포함하되, 상기 회전수단이 상기 노즐부에서 분사되기 전에 물을 회전시키면 상기 노즐부에서 물이 회전하면서 분사되어 회전하는 워터막이 형성될 수 있다.

또, 상기 쿨링유닛은,

내면에 도포되는 부식방지수단을 더 포함하되, 상기 부식방지수단이 상기 유해가스에 의해 상기 쿨링유닛의 내면이 산화되어 부식되는 것을 방지할 수 있다.

또, 상기 부식방지수단은,

유리섬유, 탄소섬유 및 테프론 중 적어도 두 가지를 조합하여 형성될 수 있다.

또, 상기 외부하우징은,

주입구가 상기 외부하우징과 접하는 방향으로 형성될 수 있다.

본 발명에 따르면, 쿨링유닛의 내면에 워터막을 형성함으로써 쿨링유닛의 내면에 유해가스의 파우더가 쌓이는 것을 방지할 수 있다.

또한, 쿨링유닛의 내부로 물을 주입한 후 주입된 물이 회전하면서 노즐부로 상승하기 때문에 노즐부의 분사압력을 상승시킬 수 있다.

또한, 회전하는 물을 분사함으로써 회전하는 워터막을 형성할 수 있고, 이로 해 파우더가 쌓이는 것을 더욱 방지할 수 있다.

또한, 쿨링유닛의 내면에 부식방지수단을 도포함으로써 부품의 교체주기를 늘릴 수 있고 나아가 장치의 수명을 연장할 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 유해가스 제거용 스크러버를 개략적으로 나타낸 사시도.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 유해가스 제거용 스크러버를 개략적으로 나타낸 정면도.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 유해가스 제거용 스크러버에서 쿨링유닛을 개략적으로 나타낸 사시도.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 유해가스 제거용 스크러버에서 쿨링유닛을 개략적으로 나타낸 분해 사시도.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 유해가스 제거용 스크러버에서 외부하우징을 개략적으로 나타낸 평면도.
도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 유해가스 제거용 스크러버에서 쿨링유닛을 개략적으로 나타낸 정단면도.

본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 더 구체적으로 설명하되, 이미 주지된 기술적 부분에 대해서는 설명의 간결함을 위해 생략하거나 압축하기로 한다.

도 1 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 유해가스 제거용 스크러버는, 흡입매니폴드(2), 히팅챔버부(1), 물탱크(3), 습식챔버부(4), 순환펌프(6) 및 쿨링유닛(5)을 포함한다.

흡입매니폴드(2)는, 반도체 제조 공정에서 발생하는 유해가스를 히팅챔버부(1)로 유도하는 것으로, 대략 원통형으로 상단에서 하단으로 관통 형성되되 히팅챔버부(1)의 상단에 배치되어 히팅챔버부(1)와 결합하고 히팅챔버부(1)와 연통된다. 즉, 흡입매니폴드(2)의 둘레를 냉각시킴으로써 유해가스를 히팅챔버부(1)로 용이하게 유도할 수 있다.

히팅챔버부(1)는, 흡입매니폴드(2)를 거친 유해가스를 약 700℃의 고온으로 가열하여 산화반응을 일으키는 것으로, 대략 원통형으로 상단에서 하단으로 관통 형성되되 후술할 쿨링유닛(5)의 상단에 배치되어 쿨링유닛(5)과 결합한다. 즉, 유해가스를 고온으로 가열하여 산화반응을 일으키면 다량의 파우더가 발생하고 대부분의 유해가스는 제거되어 소량의 유해가스만 남는다.

여기서, 히팅챔버부(1)는 외부로 고열이 방출되는 것을 방지하도록 히팅챔버부(1)의 외벽에 단열재가 설치될 수 있고, 냉매에 의해 외벽 둘레가 냉각될 수 있다.

쿨링유닛(5)은, 히팅챔버부(1)를 거친 유해가스 및 파우더를 냉각하는 것으로, 외부하우징(51), 내부하우징(53), 노즐부(54), 가이드부(55), 회전수단(56) 및 부식방지수단(57)을 포함하며, 히팅챔버부(1)를 거친 유해가스의 온도를 약 150℃ 이하로 떨어트린다.

외부하우징(51)은, 대략 깔때기 모양으로 상단에서 하단으로 관통 형성되되 상단에는 히팅챔버부(1)와 결합하는 상부플랜지(514)가 마련되고, 하단에는 물탱크(3)와 결합하는 하부플랜지(515)가 마련된다.

또한, 외부하우징(51)은 상단 내주면에 쿨링유닛(5)으로 유입되는 물을 안내하는 미끄럼안내면(512)이 형성되고, 미끄럼안내면(512)과 연결되는 안내경사면(513)이 형성되며, 하부에는 물이 유입되는 적어도 하나의 유입구가 외부하우징(51)과 접하는 방향으로 마련된다. 이에 따른 설명은 후술한다.

내부하우징(53)은, 대략 깔때기 모양으로 상단에서 하단으로 관통 형성되되 상부에는 배출구(531)가 형성되고, 외부하우징(51)의 내부에 배치되되 외부하우징(51)과 이격되어 배치된다. 이때, 내부하우징(53)은 외부하우징(51)의 내부에서 수압에 의해 유동하는 것을 방지하도록 내부하우징(53)의 상단 및 하단이 외부하우징(51)과 용접된다. 이에 따라, 외부하우징(51)과 내부하우징(53) 사이에는 주입공간(52)이 형성되고, 외부하우징(51)의 유입구를 통해 유입되는 물은 주입공간(52)의 하부에서부터 채워진다. 또한, 외부하우징(51)의 유입구가 접하는 방향으로 형성돼 있어서, 주입공간(52)에 물이 채워질 때 회전하면서 채워진다. 주입공간(52)에 물이 가득 채워지면 미끄럼안내면(512)을 타고 물의 방향이 내부하우징(53)으로 바뀌며, 방향이 바뀐 물은 안내경사면(513)을 타고 내부하우징(53)의 배출구(531)를 통해 배출된다.

노즐부(54)는, 내부하우징(53)의 배출구(531)를 통해 배출된 물을 분사하여 워터막을 형성하는 것으로, 내부하우징(53)과 히팅챔버부(1) 하단 사이에 마련된다. 즉, 노즐부(54)는 내부하우징(53)과 히팅챔버부(1) 사이에 틈새가 형성되고, 이 틈새를 통해 물이 분사되며, 분사된 물은 내부하우징(53)의 내면을 타고 흐르면서 워터막이 형성된다. 이때, 틈새는 노즐부(54)의 분사력이 상승하도록 상부보다 하부가 좁게 형성될 수 있다. 이에 따라, 얇은 워터막을 형성할 수 있다.

여기서, 노즐부(54)가 내부하우징(53)과 히팅챔버부(1) 사이에 형성됨으로써 분사되는 물이 내부하우징(53)과 충돌하면서 내부하우징(53)이 유동할 수 있지만, 내부하우징(53)의 상단 및 하단이 외부하우징(51)에 견고하게 용접 돼 있어서 수압이 강하더라도 내부하우징(53)이 흔들리는 것을 방지할 수 있다.

만약, 내부하우징(53)의 하단만 외부하우징(51)과 용접된 상태로 물을 분사하면 수압에 의해 내부하우징(53)이 유동하면서 내부하우징(53)과 히팅챔버부(1) 사이의 틈새가 달라질 수 있다. 틈새가 달라지면 분사력이 골고루 형성되지 않고 워터막 또한 두께가 일정치 않아서 어느 한쪽으로 많은 양의 물이 분사될 수 있으며, 이로 인해 다른 쪽의 분사력이 약해져서 특정 구역에 쌓인 파우더를 제거하기 어렵다. 하지만, 본 발명은 내부하우징(53)의 상단 및 하단을 견고하게 고정함으로써 일정한 분사력을 가지는 워터막을 형성할 수 있어서 특정 구역에 파우더가 쌓이는 것을 방지할 수 있다.

가이드부(55)는, 주입공간(52)에 유입되는 물을 안내하는 것으로, 복수가 마련되고 외부하우징(51)과 내부하우징(53) 사이에 배치되되 외부하우징(51)의 내면에 물의 회전방향으로 휘어져 형성되며, 상부로 갈수록 가이드부(55)와 가이드부(55)가 벌어진다. 즉, 가이드부(55)는 평면상에서 소용돌이 모양으로 형성되고, 물이 신속하게 채워지도록 돌출 길이가 외부하우징(51)과 내부하우징(53) 사이의 거리보다 짧게 형성된다. 이에 따라, 주입공간(52)으로 유입되는 물은 가이드부(55)를 따라 이동함으로써, 물의 회전력을 주입공간(52)의 상부까지 유지할 수 있다. 이로 인해 노즐부(54)에서는 회전하는 물을 분사함으로써 회전하는 워터막을 형성할 수 있다. 따라서, 내부하우징(53)의 내주면에 파우더가 들러붙거나 쌓이는 것을 방지할 수 있다.

여기서, 가이드부(55)는 외부하우징(51)의 내면에 설치된 것으로 설명하였지만, 내부하우징(53)의 외면에 설치될 수도 있다.

가령, 주입구(511)가 외부하우징(51)과 접하는 방향으로 형성되어 주입공간(52)에 유입되는 물이 회전하더라도 상부로 갈수록 회전반경이 커지면서 회전력이 약해지고, 특히 주입공간(52)에 물이 가득 채워지면 주입공간(52)에서 와류 현상으로 인해 회전력이 약해질 수 있으며, 회전력이 약해진 물이 노즐부(54)를 통해 분사되면 내부하우징(53)의 내주면을 타고 하부로만 흐르는 워터막이 형성될 수 있다. 즉, 파우더가 가로방향으로 쌓일 경우에는 큰 문제가 없지만 세로방향으로 쌓이면 파우더가 제거되지 않고 내부하우징(53)의 내주면에 들러붙을 수도 있다.

하지만, 주입공간(52)에 가이드부(55)가 배치돼 있으면, 주입공간(52)에 물이 가득 채워지더라도 가이드부(55)를 타고 물이 흐름으로써 와류가 발생하는 것을 방지할 수 있고, 이로 인해 물의 회전력을 유지할 수 있다. 따라서, 회전하는 워터막을 형성할 수 있으며, 회전하는 워터막은 측 방향과 하부방향으로 흐르는 힘이 있으며, 이로 인해 파우더가 세로로 쌓이더라도 워터막이 하부 및 측 방향으로 동시에 파우더를 쓸어내림으로써 파우더를 손쉽게 제거할 수 있다.

회전수단(56)은, 노즐부(54)를 통해 분사되기 전에 물의 회전력을 향상시키는 것으로, 다수의 날개를 구비하고, 내부하우징(53)의 배출구(531)에 등간격으로 배치된다. 이때, 날개는 유선형으로 형성될 수 있고, 회전하는 방향을 따라 꺾여서 배치될 수 있다. 이에 따라, 주입공간(52)에 채워진 물은 배출구(531)를 통해 다수의 날개 사이사이로 배출되고, 이렇게 배출된 물은 내부하우징(53)과 히팅챔버부(1) 사이에서 회전력이 향상된다. 회전력이 향상된 물은 노즐부(54)를 통해 분사될 때 회전력이 높은 상태로 분사됨으로써 회전력이 향상된 워터막을 형성할 수 있다. 따라서, 내부하우징(53)의 내주면에 파우더가 들러붙거나 쌓이는 것을 더욱 방지할 수 있다.

가령, 파우더가 물에 섞여 점성이 높아질 수 있고, 이로 인해 파우더가 내부하우징(53)의 내주면에 들러붙을 수 있다. 점성이 큰 파우더는 수직 워터막으로는 제거하기 어렵다.

하지만, 회전력이 향상된 워터막은 점성이 큰 파우더도 손쉽게 제거할 수 있어서 파우더가 내부하우징(53)의 내주면에 쌓이는 것을 더욱 방지할 수 있다.

부식방지수단(57)은, 내부하우징(53)의 부식을 방지하는 것으로, 내약품성, 내산성 및 내부식성이 강한 탄소섬유, 유리섬유 및 테프론 등을 조합하여 형성할 수 있고, 이렇게 조합된 부식방지수단(57)을 내부하우징(53)의 내주면에 도포하거나 코팅할 수 있다. 이에 따라, 유해가스 및 파우더로 인해 내부하우징(53)의 내주면이 부식되는 것을 방지할 수 있다.

예를 들면, 유해가스 및 파우더가 물과 혼합하면서 물이 산성으로 변화될 수 있고, 이렇게 변한 물은 내부하우징(53)을 부식시킬 수 있다. 이로 인해 내부하우징(53)을 주기적으로 교체해야 하는 번거로움이 발생한다.

하지만, 내부하우징(53)의 내주면을 부식방지수단(57)으로 코팅함으로써, 내부하우지이 부식되는 것을 최소화할 수 있고, 이로 인해 내부하우징(53)의 교체주기를 늘릴 수 있으며, 나아가 스크러버의 수명을 연장할 수 있다.

물탱크(3)는, 내부에 일정량의 물이 채워져 있고, 쿨링유닛(5) 및 습식챔버부(4)와 연결된다. 또한, 물탱크(3)는 내부에 처리되고 남은 유해가스를 물과 결합하도록 복수의 분사노즐(미도시)이 마련된다. 이에 따라, 쿨링유닛(5) 및 습식챔버부(4)로부터 떨어지는 물은 물탱크(3)로 모이고, 모인 물은 순환펌프(6)에 의해 다시 쿨링유닛(5) 및 습식챔버부(4)로 공급된다. 따라서, 물탱크(3)에는 유해가스와 파우더를 처리하는 과정에서 유해가스 및 파우더가 물에 혼합돼 있으며, 일정량의 파우더가 쌓이거나 물의 농도가 설정된 농도로 변화하면 변화된 물과 파우더를 외부로 배출시키고, 배출시킨 용량만큼 깨끗한 물을 물탱크(3)에 채워넣거나 물탱크(3) 내에 깨끗한 물을 지속적으로 순환시킬 수도 있다.

습식챔버부(4)는, 물탱크(3)를 거친 유해가스를 처리하는 것으로, 하단이 물탱크(3)와 연결되고, 내부에 필터(미도시) 및 분사노즐(미도시)이 마련된다. 또한, 습식챔버부(4)는, 내부에 필터 및 분사노즐이 복층으로 구비될 수 있다. 이에 따라, 물탱크(3)를 거친 유해가스가 습식챔버부(4)를 지나면서 대부분의 유해가스 제거되고 파우더는 포집되며, 배기되는 가스의 온도를 약 25℃ 이하로 떨어트린다.

순환펌프(6)는, 쿨링유닛(5) 및 습식챔버부(4)에 물을 공급하는 것으로, 물탱크(3)의 한 부분에 설치된다. 이에 따라, 물탱크(3)에 수용된 물을 쿨링유닛(5) 및 습식챔버부(4)에 지속적으로 공급한다.

따라서, 본 발명은 히팅챔버부(1)를 거친 유해가스에서 파우더가 가장 많이 생성되는데 이로 인해 쿨링유닛(5)이 빠르게 부식되는 것을 방지하고, 나아가 기기의 수명을 연장할 수 있다. 또한, 쿨링유닛(5)에 파우더가 쌓이는 것을 방지하며, 일정한 분사력과 두께를 갖는 워터막을 형성함으로써 파우더를 신속하게 제거할 수 있다.

상술한 본 발명을 설명하는데 있어서, 그 실시 예가 상이하더라도 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조번호를 사용하고, 필요에 따라 그 설명을 생략할 수 있다.

이상과 같이, 본 발명에 대한 구체적인 설명은 첨부된 도면을 참조한 실시 예에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시 예는 본 발명의 바람직한 예를 들어 설명하였을 뿐이기 때문에 본 발명이 상기의 실시 예에만 국한되는 것으로 이해되어져서는 아니 된다. 따라서 상기에서 설명한 것 외에도 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 사람은 본 발명의 실시 예에 대한 설명만으로도 쉽게 상기 실시 예와 동일 범주 내의 다른 형태의 본 발명을 실시할 수 있거나, 본 발명과 균등한 영역의 발명을 실시할 수 있을 것이다.

1; 히팅챔버부 2; 흡입매니폴드
3; 물탱크 4; 습식챔버부
5; 쿨링유닛
51; 외부하우징 511; 주입구
512; 미끄럼안내면 513; 안내경사면
514; 상부플랜지 515; 하부플랜지
52; 주입공간 53; 내부하우징
531; 배출구 54; 노즐부
55; 가이드부 56; 회전수단
57; 부식방지수단 6; 순환펌프

Claims (4)

1. 히팅챔버를 포함하는 유해가스 제거용 스크러버에 있어서,
   상기 히팅챔버를 거친 유해가스를 냉각하고 상기 유해가스에 포함된 파우더가 내주면에 쌓이는 것을 방지하도록 워터막을 형성하는 쿨링유닛;을 포함하되,
   상기 쿨링유닛은,
   상기 히팅챔버와 결합하고 하부에 물을 주입하는 적어도 하나의 주입구를 마련하는 외부하우징과, 상기 외부하우징의 내부에 상기 외부하우징과 인접한 주입공간을 형성하는 내부하우징과, 상기 주입공간으로 주입된 물을 분사시켜 워터막을 형성하는 노즐부와, 상기 주입공간과 상기 노즐부 사이에 마련되는 회전수단을 포함하고,
   상기 회전수단은, 상기 내부하우징의 배출구에 등간격으로 배치되는 다수의 유선형 날개가 회전 방향을 따라 꺾여서 배치되고, 상기 노즐부에서 분사되기 전에 물을 회전시킴으로써 상기 노즐부에서 물이 회전하면서 분사되어 회전하는 워터막이 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는
   유해가스 제거용 스크러버.
   
2. 삭제
3. 제 1항에 있어서,
   상기 쿨링 유닛은,
   상기 주입공간에서 물을 회전시키고 상기 노즐부의 분사력을 상승시키는 가
   이드부;를 더 포함하되,
   상기 가이드부는, 상기 내부하우징의 내면에 물의 회전방향으로 휘어지도록 복수개가 마련되며, 상기 가이드부의 사이는 상부로 갈수록 벌어지면서 소용돌이 모양으로 형성되며, 상기 물이 신속하게 채워지도록 돌출길이가 상기 외부하우징과 상기 내부하우징 사이의 거리보다 짧게 형성되어 상기 가이드부를 타고 물이 흐름으로써 와류가 발생하는 것을 방지하여 물의 회전력을 유지하는 것을 특징으로 하는
   유해가스 제거용 스크러버.
4. 삭제

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