JP4911529B2 - 光変調器 - Google Patents

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Description

本発明は、いわゆるマッハツェンダー型の光導波路を使用した光変調器に関するものである。
マッハツェンダー型の光導波路を使用した進行波型高速光変調器は波長帯域が広く、低チャープ特性が得られることから注目されている。このタイプの光変調器においては、一対の分岐型光導波路にそれぞれ光を伝搬させ、各分岐光導波路からの出力を合波部において合流させる。しかし、一対の分岐光導波路の間では、温度差などの原因によって動作点シフトが生ずることがあり、またいわゆるDCドリフトが生ずることがある。一般的に、マッハツェンダー(MZ)型LN光変調器は、温度ドリフト、DCドリフト、および応力などによる経時変化によって動作点がシフトしてしまう。これは消光比が劣化してしまい、変調器を動作させる上で重要な課題であった。
こうした動作点のシフトやDCドリフトを制御する方法は幾つか提案されている。代表的なものとして、特許文献1(特開平3−145623号公報)記載の方法では、一対の分岐光導波路の合波部から基板内部に放射される基板放射モードの光に着目している。即ち、オンモードの場合には、光導波路に入射した光は導波路内を伝搬し、導波路の端面から出射する。オフモードの光は、光導波路から基板内部に基板放射モードの光として放射される。基板の端面に光ファイバーを取り付けて基板放射モードの光を受光し、この光ファイバーからの出射光を光検知器によって検知する。光検知器からの出力信号を利用し、変調用電極から光導波路に印加される電圧の直流バイアスを変更し、光変調器の動作点を調節している。
しかし、この場合、出射端面において放射光は基板内部に拡散するために、放射光の光強度は小さく、また、光ファイバにて放射光をアライメントすることは非常に困難であった。このため、光変調器の動作点制御を安定して行うことが課題となっていた。
この問題を解決するために、特許文献2(特願平9-32489)においては、光導波路から放射されまたは漏洩する光をガイドする光ガイド部と、光ガイド部から出射される光と光導波路から漏洩する信号光とを干渉させて干渉光を生成し、この干渉光をモニタすることにより直流バイアスを制御している。
また、本出願人は、薄板構造の光変調器を開発しており、本構造において、ドリフトによる動作点制御を効率的に行う方法として特許文献3(特願2002−328683)を開示した。20μm以下に薄板化した基板は、有限の横幅(基板の横方向の幅)を有したスラブ導波路(通常は、デバイス構造設計上、横幅は無限大として取り扱われる)として機能するために、Y分岐の合波部で発生した横方向1次モード光はスラブモードとなり、低損失で薄板基板中を伝搬する。このスラブモード光は従来の変調器とは異なり、薄板基板中(スラブ導波路)に集中するために、十分な放射光強度を得ることが可能になった。
特開平3−145623号公報 特願平9-32489 特願2002−328683
我々は、薄板型変調器の場合、Y分岐の合波部で発生する放射光が光導波路の1次モード光として伝搬することを発見し、この1次モード光を利用することによりモニタし直流バイアスを制御することを試みた。しかし、1次モード光は、信号光に対してピーク間距離が10μmから100μm以下となり、このために1次モード光をモニタ光として信号光と分離して取り出すことが困難となっていた。
本発明の課題は、1次モード光をモニター光として利用して光検出手段に取り出し、その光信号に基づいてバイアス電圧のフィードバック制御を行うのに際して、1次モード光を信号光から高効率で分離し、1次モード光の損失を減らして良好な制御を可能とすることである。
本発明は、光導波路を伝搬する光に電圧を印加してこの光を変調する光変調器であって、
強誘電性材料からなる基板、
少なくとも一対の分岐光導波路、分岐光導波路の合波部およびこの合波部の下流側の出射部を含んでいる光導波路、
光導波路を伝搬する光を変調する信号電圧を印加するための変調用電極、および
合波部からの1次モード光をガイドする1次モード光ガイド導波路を備えており、
少なくとも変調用電極下において前記基板の厚みが20μm以下であり、合波部の中心軸からガイド導波路までの距離が15μm以上、50μm以下であり、ガイド導波路からの光出力に基づいて、変調用電極に加わる直流バイアスを変化させることによって、光変調器の動作点を制御でき、ガイド導波路が、一次モード光を受け入れる導入部、この導入部の下流側に設けられた側面側に曲がる湾曲部分と出射側端面へと曲がる湾曲部分、および出射部と平行に延びる射出部を備えており、ガイド導波路を伝搬した一次モード光が射出部を介して基板の端面から出射することを特徴とする。
本発明者は、基板厚みが薄くなると、厚み方向に低誘電率層あるいは空気層があるために基板内への閉じ込めが強くなり、光導波路の曲がり損失を極端に低減することが可能であることを発見した。例えば、図6は、波長1.55μm、導波路の曲率半径5mmの場合の、LN基板厚に対する1次モード光の光損失の計算結果である。この結果より、光導波路を湾曲させても、基板厚み20μm以下では光損失が10dB以下となり、実動作上問題にならないレベルに到達することがわかった。光導波路の曲率半径を大きくすることによりさらに低損失化が図れ、さらに、曲げ半径が1mmの場合においても基板厚み10μmでは光損失を10dB以下にできることがわかった。
本発明者は、このような発見に基づき、信号光を伝搬する三次元光導波路の合波部の近傍に、1次モード光を伝搬するためのガイド導波路を設け、1次モード光を信号光と分離して伝搬させることを想到した。そして、1次モード光の受光ポイントは、上述した理由から信号光の受光ポイントから大きく離し、光変調器の動作点の制御を容易に行えることを見いだし、本発明に到達した。
図1は、本発明の一実施形態に係る光変調器1を示す平面図である。 図2(a)は、図1のIIa−IIa線断面図であり、図2(b)は、図1のIIb−IIb線断面図である。 図3は、図1の光変調器のフィードバック機構を模式的に示す図である。 図4は、参考形態に係る光変調器1Aを示す平面図である。 図5は、各ガイド導波路のエッジと合波部5eとの結合部分を示す平面図である。 図6は、基板厚さと光損失との関係を示すグラフである。 図7は、ガイド導波路の信号光出射部との距離と光損失との関係を示すグラフである。 図8は、信号光出射部の幅と光損失および漏話との関係を示すグラフである。 図9は、信号光出射部の幅と光損失および漏話との関係を示すグラフである。 図10は、光変調器1の信号光出射部5fとガイド導波路との平面的位置関係を示す図である。 図11は、光変調器1Aの信号光出射部5fとガイド導波路との平面的位置関係を示す図である。
以下、適宜、例示図面を参照しつつ、本発明を更に詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る光変調器1の平面図であり、図2(a)は図1のIIa−IIa線断面図であり、図2(b)は図1のIIb−IIb線断面図である。
この実施形態の光変調デバイス8においては、支持基板7の表面に、図示しない接着剤層を介して、あるいは直接に、光変調器1の基板2の底面が接着されている。光変調器1の表面側には、マッハツェンダー型の光導波路5と、変調用電極3A、3B、4とが形成されている。光導波路5は、入射部5a、一対の分岐光導波路5c、5dおよび出射部5fを備えている。5bは分岐点であり、5eは合波部である。光導波路5を伝搬する光の制御方法や変調用電極の構成は周知であるので、説明を省略する。
信号光は、三次元光導波路の出射部5fの端面から出射する。例えば図3に示すように、光変調器1の出射側端面に光ファイバアレイ9を取り付けることによって、信号光を光ファイバー10によって伝送する。
一方、1次モード光は、合波部5e付近から射出する。ここで、合波部5eの近傍に一対の1次モード光ガイド導波路6A、6Bのエッジを位置させる。本例では、合波部5fの両側にそれぞれ1次モード光ガイド導波路6A、6Bを配置する。各ガイド導波路はチャンネル光導波路である。
各ガイド導波路6A、6Bは、合波部5e近傍にエッジのある導入部6a、湾曲部分6b、6cおよび射出部6dを備えている。各ガイド導波路の各射出部6dは光変調器の端面に露出しており、一方のガイド導波路の射出部6dは光伝送部材11に接続されている。こうした光伝送部材としては、光ファイバーが好ましい。本例では、側面側に曲がる湾曲部分6b、端面側に曲がる湾曲部分6cを設けることによって、導入部6aは合波部5eの近傍に位置させると共に、受光用の射出部6dは信号光の出射部5fから充分に離れた位置に形成することができる。
本例では、ガイド導波路の出射部6dと信号光の出射部5fとを略平行とすることが可能である。なお、ガイド導波路の出射部と信号光用の出射部5fとの間隔Lは、受光時にモニタ光と信号光とのSNをあげるという観点からは、120μm以上が好ましく、240μm以上が更に好ましい。
光伝送部材11は受光素子に接続されており、受光素子は、受光した光を電気信号に変換し、自動バイアス制御回路12へと伝送する。自動バイアス制御回路12においては、1次モード光の情報から、適切な直流バイアス値を算出し、制御信号を矢印Aのようにバイアスティー回路13へと伝送し、必要に応じて直流バイアス値を変更する。
図4の光変調器1Aにおいては、合波部5eの近傍に一対の1次モード光ガイド導波路6C、6Dのエッジを位置させる。本例では、合波部5fの両側にそれぞれ1次モード光ガイド導波路を配置する。各ガイド導波路はチャンネル光導波路である。
各ガイド導波路6C、6Dは、合波部5e近傍にエッジのある導入部6e、外側へと向かって湾曲する各湾曲部分6fおよび射出部6gを備えている。各ガイド導波路の各射出部6gは光変調器の側面に露出しており、一方のガイド導波路の射出部6gは、側面側に設置された受光素子14に対向する。本例では、湾曲部分6fを設けることによって、導入部6eは合波部5eの近傍に位置させると共に、受光用の射出部6gは基板の側面に位置させる。
受光素子14は、受光した光を電気信号に変換し、電線を通して自動バイアス制御回路12へと伝送する。自動バイアス制御回路12においては、1次モード光の情報から、適切な直流バイアス値を算出し、制御信号を矢印Aのようにバイアスティー回路13へと伝送し、必要に応じて直流バイアス値を変更する。
光検知器においては、光強度を測定することが好ましいが、光の位相や波長を測定することもできる。また、光検知器の種類は限定されないが、例えば、10Gb/sの電気信号で光の変調を行う場合には、検出するのに充分なバンド幅を持つ応答速度の速いInGaAs系の光検知器等が用いられる。
合波部の形態は限定されない。各分岐光導波路は、合波部において交わっていてもよいが、空間的に離れていても良い。ただし、合波部において、各分岐光導波路を伝搬してきた光エネルギーが合流可能なことが必要である。
また、分岐光導波路は、一対は必要であるが、複数対存在していてもよい。いわゆるカスケード型の光導波路であってよい。
光導波路、ガイド導波路は、プロトン交換法、チタン内拡散法、金属イオン拡散法によって形成でき、あるいは、基板の表面を機械加工やレーザーアブレーション加工によって除去することで、リッジ型の三次元光導波路を形成することができる。
好適な実施形態においては、光導波路、ガイド導波路が、基板2から突出するリッジ型光導波路である。こうした光導波路は、上述の方法で形成できる。あるいは、スラブ型光導波路の表面に、高屈折率膜を、例えば化学的気相成長法、物理的気相成長法、有機金属化学的気相成長法、スパッタリング法、液相エピタキシャル法によって形成し、この高屈折率膜を機械加工やレーザーアブレーション加工することによって、リッジ型の三次元光導波路を形成できる。
光変調器の基板を構成する材料は、強誘電性単結晶、ガラス、光学樹脂など、光の透過が可能な材料であればよい。ただし、強誘電性単結晶が好ましく、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム−タンタル酸リチウム固溶体、ニオブ酸カリウムリチウム、タンタル酸カリウムリチウム、ニオブ酸カリウムリチウム−タンタル酸カリウムリチウム固溶体、KTPを例示できる。
好適な実施形態においては、支持基板7と光変調器とを接着する接着剤層を備えている。支持基板を構成する材料としては、前述のような強誘電性単結晶、ガラス、樹脂を好適に使用できる。接着剤としては、ガラスや樹脂が好ましい。
前述のガラスとしては、低誘電率で接着温度(作業温度)が約600℃以下のものが好ましい。また、加工の際に十分な接着強度が得られるものが好ましい。具体的には、酸化珪素、酸化鉛、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ホウ素等の組成を複数組み合わせた、いわゆるはんだガラスが好ましい。前述の樹脂としては、室温硬化、加熱硬化、紫外線硬化型樹脂が好ましく、低誘電率の樹脂が好ましい。実際には、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系の樹脂が特に好ましい。
図5は、1次モード光ガイド導波路と合波部5eとの接続部分を拡大して示す模式図である。ここで、on光とは信号光であり、off光とは、フィードバック制御に用いる1次モード光である。出射部5fの中心軸Xからガイド導波路6C(または6A、6B、6D)までの距離Sxは、光エネルギーの移動時の損失を抑制するという観点から、50μm以下とする。また、信号光と1次モード光との漏話や消光比の劣化を防止するため、15μm以上とする
電極部分における基板厚さは20μm以下であるが、ガイド導波路の湾曲部分における損失低減という観点からは、15μm以下であることが更に好ましく、10μm以下であることが最も好ましい。また、これと同様に、光導波路に湾曲部分がある場合には、湾曲部分下における基板厚さは20μm以下が好ましく、15μm以下であることが更に好ましく、10μm以下であることが最も好ましい。
また、信号光を伝搬するための射出部5fの両側に1次モード光ガイド導波路を設けることが好ましい。これにより、1次モード光を完全に信号光の近傍から遠ざけることが可能となり、これまでOFF光が出射側の光ファイバに結合していた不要成分を除去し、消光比が飛躍的に改善できた。
好適な実施形態においては、ガイド導波路が湾曲部分を備えている。光変調器基板の厚さを20μm以下とすることによって、湾曲部分における損失は著しく低減され、これによって1次モード光の出射部分と信号光の出射部分とが大きく離れるようにガイド導波路を湾曲させる設計が可能となった。
ここで、ガイド導波路における光損失を抑制するという観点からは、湾曲部分の曲率半径Rを1mm以上とすることが好ましく、2mm以上とすることが更に好ましい。一方、ガイド導波路をできるだけ大きく湾曲させ、1次モード光の出射部と信号光の出射部との間隔を大きくするという観点からは、湾曲部分の曲率半径Rを30mm以下とすることが好ましく、15mm以下とすることが更に好ましい。
(実施例1)
図1、2、3を参照しつつ説明した方法に従い、図1の光変調器1を作製して試験した。具体的には、Xカットした3インチウエハー(LiNbO3単結晶)からなる基板を使用し、チタン拡散プロセスとフォトリソグラフィー法とによって、ウエハーの表面にマッハツェンダー型の光導波路5を形成する。次いで、メッキプロセスにより、CPW電極を形成する。中心電極4と接地電極3A、3Cとのギャップを25μmとし、電極厚みを20μmとし、電極長を32mmとする。次に薄型研磨のために研磨定盤に研磨ダミー基板を貼り付け、その上に変調器基板を電極面を下にして熱可塑性樹脂で貼り付ける。さらに、横型研磨およびポリッシング(CMP)にて8μm厚みまで基板本体を薄型加工する。その後、平板状の支持基体7を基板本体に接着固定し、光ファイバの接続部を端面研磨し、ダイシングにてチップ切断する。接着固定用の樹脂は、樹脂厚50μmのエポキシ樹脂を使用した。入力側には1.55μm帯パンダファイバを保持した単芯ファイバーアレイを、出力側にはシングルモードファイバを保持した単芯ファイバアレイを進行波形光変調器チップに結合し、光ファイバーと光導波路とを調芯し、紫外線硬化型樹脂によって接着する。
光ファイバアレイ9におけるピッチ間隔は、通常のファイバアレイで使用されている250μmとしている。Wti−m(図5参照)は、ファイバのコア径と同じとすることが望ましい。例えば、GIファイバの場合、コア径は50μm程度でありWti-mは50μmとした。また、S字をカーブを実現するために、湾曲部分6b、6cにおける各曲率半径rは5mmとした。図10には、各ガイド導波路と出射部5fとの位置関係を示す。この状態で前述のようにして動作点の直流バイアス電圧を制御することができた。
参考例1
図4、図5を参照しつつ説明したような光変調器について検討を行った。
具体的には、光変調器の材質や光導波路の形成方法は実施例1と同様とする。受光面積50μmのフォトダイオードでは、拡がりを考慮してWti−mは30μmとした。また、ガイド導波路の湾曲部分における曲率半径rは5mmとした。λ=1.55μmとし、光変調器の基板の厚さは、図6に示すように変更する。図11には、ガイド導波路と出射部5fとの平面的位置関係を示す。各ガイド導波路のエッジと出射部中心軸との距離Sxは20μmとする。
この状態で基板の厚さTsubを変更し、off光(1次モード光)の光損失を測定したところ、図6に示す結果が得られた。即ち、基板の厚さが20μm以下であれば、ガイド導波路の湾曲部分の曲率半径が5mmと小さい場合にも、光損失は10dB以下と著しく抑制されることが判明した。これによって、ガイド導波路の出射部を信号光の出射部5fから大きく離すことができる。
参考例2
参考例1と同様にして、ガイド導波路を伝搬する1次モード光の光損失試験を行った。ただし、本例では、λを1.55μmとし、光変調器基板厚さTsubを8μmとし、チタン厚さTtiを600オングストロームとし、信号光の出射部幅Wtiを5μmとし、ガイド導波路の幅Wti−mを30μmとした。ガイド導波路のエッジと出射部中心軸との距離Sx、およびガイド導波路の湾曲部分の曲率半径rを、図7に示すように変更した。
この結果、R=20μm以下において光損失は10dB以下に抑制された。また、10μmから100μmの間でSxを種々変更してもガイド導波路における光損失はあまり増大しなかった。
参考例3
参考例2と同様にして、ガイド導波路を伝搬する1次モード光の光損失試験を行った。ただし、本例では、λを1.55μmとし、光変調器基板厚さTsubを8μmとし、チタン厚さTtiを600オングストロームとし、ガイド導波路の幅Wti−mを30μmとした。ガイド導波路のエッジと出射部中心軸との距離Sxを20μm(図8)あるいは15μm(図9)とした。ガイド導波路の湾曲部分の曲率半径rを3mmとした。信号光の出射部幅Wtiを,図8、図9に示すように変更した。
図8、図9は、導波路の線幅Wtiが4μm、5μm、6μmでのモニタ導波路の変調器が、off時の損失とon時の損失およびMZ導波路のon時のモニタ導波路への漏話率を示す。Sxが15μmおよび20μmにおいても、全てのWti幅において、モニタ導波路のoff時の損失は小さく、on時の漏話はなく、on時のMZ導波路の損失も無視できることがわかる。Sx=15μmの場合、Wtiが大きくなるにつれ、さらにモニタ導波路のoff時の損失は小さく、on時の漏話はなく、on時のMZ導波路の損失も無視できることがわかる。これは、MZ導波路の閉じ込めが強くなるので、モニタ導波路と結合しにくいことを裏つけている。この効果はSx=20μmではさらに顕著である。

Claims (3)

  1. 光導波路を伝搬する光に電圧を印加してこの光を変調する光変調器であって、
    強誘電性材料からなる基板、
    少なくとも一対の分岐光導波路、前記分岐光導波路の合波部およびこの合波部の下流側の出射部を含んでいる光導波路、
    前記光導波路を伝搬する光を変調する信号電圧を印加するための変調用電極、および
    前記合波部からの1次モード光をガイドする1次モード光ガイド導波路を備えており、
    少なくとも前記変調用電極下において前記基板の厚みが20μm以下であり、前記合波部の中心軸から前記ガイド導波路までの距離が15μm以上、50μm以下であり、前記ガイド導波路からの光出力に基づいて、前記変調用電極に加わる直流バイアスを変化させることによって、前記光変調器の動作点を制御でき、前記ガイド導波路が、前記一次モード光を受け入れる導入部、この導入部の下流側に設けられた側面側に曲がる前記湾曲部分と前記基板の端面側に曲がる前記湾曲部分、および前記出射部と平行に延びる射出部を備えており、前記ガイド導波路を伝搬した前記一次モード光が前記射出部を介して前記基板の前記端面から出射することを特徴とする、光変調器。
  2. 前記湾曲部分の曲率半径が1mm以上、30mm以下であることを特徴とする、請求項記載の光変調器。
  3. 前記1次モード光ガイド導波路が前記出射部の一方の側に形成されており、他の1次モード光ガイド導波路が前記出射部の他方の側に形成されていることを特徴とする、請求項1または2記載の光変調器。
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