JP2001215371A - モニタ付光導波路型素子 - Google Patents
モニタ付光導波路型素子Info
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- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
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Abstract
が容易で小型化可能なモニタ付光導波路型素子の提供。 【解決手段】 誘電体基板の表面部に形成された光導波
路出力部の近傍に配置され、この出力部を伝播する導波
光を、直接に、或は基板の屈折率よりも高い屈折率を有
するエバネセント成分導入層を介して、又は、プリズム
を介して、受光する光検出器により、導波路を伝播する
導波光のエバネセント成分の一部を受光し、導波光出力
強度をモニタする素子。
Description
型素子に関するものである。更に詳しく述べるならば、
本発明は、光変調器などの光導波路を含む光素子におい
て、その出力光の強度をモニタすることができるモニタ
付光導波路型素子に関するものである。
その動作を制御するためには、当該素子の出力光をモニ
タし、そのモニタ結果に基いて、素子の動作を制御する
ことが必要である。機能素子のモニタ方法としては下記
のものが知られている。 (1)機能素子からの出力光の一部を、例えばカプラを
用いて分岐し、この分岐光をモニタする。(例えば特開
平6−232814号公報) (2)光導波路素子の導波路基板の出力端面を、出力側
光導波路に対して斜めに形成し、この斜め端面からの反
射光を受光し、これをモニタする。(例えば特開平5−
34650号公報) (3)光導波路素子の、出力光と、光導波路から漏洩す
る光とを干渉させて生成した干渉光を素子基板の端面か
ら出射させ、この際に干渉光出射手段において得られる
干渉光をモニタする。(特開平10−228006号公
報) (4)光導波路素子の光導波路に回折格子を設けて光導
波路を伝播する光の一部を回折してモニタする。
は、光導波路内に光検出器を設置するため構造が複雑に
なるという問題点があり、また上記モニタ方法(2)及
び(3)には、モニタ手段設置位置に制限があり、作業
性が不十分になるという問題点があり、さらに、上記モ
ニタ方法(4)には、導波路回路に、細工を施す必要が
あるという問題点がある。
波路素子、例えば光変調器の上記問題点を解消し、実装
が容易かつ簡便で、小型化が容易な、モニタ付光導波路
型素子を提供しようとするものである。
路型素子は誘電体基板と、その上に形成された光導波路
とを有する光素子、及びこの光導波路の近傍に配置さ
れ、前記光導波路を伝播する導波光のエバネセント成分
の一部を受光し、これをモニタする光検出器とを有する
ことを特徴とするものである。本発明のモニタ付光導波
路素子において、前記光導波路と、前記光検出器との間
に、前記誘電体基板の屈折率より高い屈折率を有するエ
バネセント成分導入層が配置されているものであっても
よい。本発明のモニタ付光導波路型素子において、前記
光導波路にプリズムが配置され、このプリズムを介して
導波光のエバネセント成分の一部が、前記光検出器によ
り受光されるものであってもよい。本発明のモニタ付光
導波路型素子において、前記光導波路の近傍にカプラを
配置して前記出力部に分波導波路を形成し、この分波導
波路の近傍に、前記分波導波路を伝播する導波光のエバ
ネセント成分の一部を受光する光検出器が配置されてい
てもよい。本発明のモニタ付光導波路型素子において、
前記素子がマッハツェンダ型光変調器であることが好ま
しい。本発明のモニタ付光導波路型素子において、前記
誘電体基板がニオブ酸リチウムであることが好ましい。
において、誘電体からなる基板(クラット部)1の表面
部に光導波路2が形成されており、この光導波路は、入
力部2aと、それから2分岐した分岐部2b,2cと、
それらが収斂している出力部2dからなるものである。
素子には、光導波路を通る光波を制御するための電極が
配置されている(図示されていない)。この素子の光導
波路2の出力部(コア)2d上に検出器3(例えばフォ
トダイオード)が配置されている。
が示されており、基板1の表面上に、光導波路2の出力
部2dが形成され、その上に光検出器3が配置されてい
る。光検出器3は、光導波路出力部2d及び基板1に光
学用接着剤をもって接合されていてもよく、この光学用
接着剤の屈折率nは基板屈折率と同程度の、エバネセン
ト成分の導出に有効なものであることが好ましい。この
ような光学接着剤としては、例えばエポキシ系光学接着
剤又はアクリル系光学接着剤などを用いることができ
る。
光導波路型素子において、光導波路2の出力部2dを伝
播する光出力波から放射されるエバネセント成分の一部
を、光検出器が受光し、その受光強度から、光導波路出
力部2dを伝播する出力波の強度をモニタする。このよ
うな本発明素子においては、光検出器の配置位置は、そ
れが光導波路出力部2dから放射されるエバネセント成
分の一部を受光し得る限り、格別の制限はない。
施態様の構成が、図3に示されている。図3において、
光導波路基板(クラッド部)1の表面部分に、光導波路
出力部2dが形成されている。光導波路出力部2d上に
は基板1の光屈折率よりも高い屈折率を有するエバネセ
ント成分導入層6が配置されており、このエバネセント
成分導入層6の上に光検出器用電極4が配置され、その
上に光検出器3が配置され、さらにその上に光検出器制
御用電極5が配置されている。光検出器用電極4には、
エバネセント成分導入層6と光検出器5とを接着する光
学接着層6aが形成されていてもよく、この光学接着層
6aに相当する部分は空隙であってもよい。
光の強度分布を示すグラフが示されている。このグラフ
に示された光強度分布において、エバネセント成分の一
部である光検出器により受光された光13の強度が光検
出器により検出測定される。この光検出器3により検出
された光の強度から、光導波路出力部2dを通る光の強
度を求めることができる。
しては、光導波路出力部を形成する材料の光屈折率より
も高い屈折率を有するものが用いられる。例えばLiN
bO 3 を用いた光導波路では、光導波路の光屈折率は通
常n=2.15であるから、エバネセント成分導入層の
屈折率nは2.15以上であることが好ましく、このよ
うな材料としては、シリコン(Si,n=3.5)、G
e,TiO2 、及びTa2 O5 などを用いることが好ま
しい。
さない厚さであることが好しく、例えば基板LiNbO
3 (n=2.15)、導入層Si(n=3.5)、波長
λ=1.55μmとすると、厚さは0.15μmよりう
すいことが好ましい。
分導入層及びその上に配置される光検出器は、光導波路
出力部の任意の位置に配置でき、その位置に格別の制限
はなく、また、その取付作業も容易かつ単純である。ま
た光導波路そのものに加工を施す必要は全くない。
の実施態様において、図4に示されているように光導波
路出力部2d上に、プリズム7が配置され、光導波路出
力部2dを矢印8の方向に伝播する光のエバネセント成
分の一部12が、プリズム7を通りその傾斜面9におい
て屈折して、光検出器3により受光検出される。この態
様に用いられるプリズムは、導波路の実効屈折率より高
い屈折率特性を有するもの、例えばルチル型二酸化チタ
ン(TiO2 )などを用いて製造される。
度のエバネセント成分の一部を所定位置の光検出器に受
光させ得る限り格別の制限はない。光検出器の受光面
は、プリズムの傾斜面に接触していてもよく、或は、近
接していてもよく、又は導光手段(例えばミラー及びレ
ンズ等)により連結されていてもよい。
板上に接触していてもよいし、或は、光学接着剤により
接着されていてもよい。
実施態様においては、エバネセント成分検出器は、光導
波路出力部に直接配置されているものであるが、本発明
のさらに他の実施態様において、光導波路出力部の一
部、例えば2つの分岐部の収斂結合部の近傍にタップカ
プラを配置して分波導波路を形成し、この分波導波路の
近傍に光検出器を配置して、前記分波導波路を伝播する
導波光のエバネセント成分の一部を受光しモニターする
ようにしてもよい。
b,2cの結合部10にカプラを配置することによりこ
の分波導波路2eの近傍に光検出器3を配置し、導波路
2eに、出力導波路2dの相補的な出力を得ることがで
きる。分波導波路2eを伝播する導波光のエバネセント
成分の一部を受光し、モニターする。これにより、出力
導波路2dの導波光を、受光器を設置したことによる損
失等の影響なしにモニターすることが可能になる。この
分波導波路2eと光検出器3とは、直接連通していても
よいし、それらの間に図3に示されているエバネセント
成分導入層が設けられてもよいし、或は、図4に示され
ているように、プリズムが配置されていてもよい。前記
エバネセント検出器を光導波路の入力部の近傍に直接、
又は前記入力部から分岐した分波導波路の近傍に、前記
と同様にして配置することにより、入力光をモニタする
ことができる。
られるカプラは、対称、または非対称方向性結合器、ク
ロスカプラなどから形成又は選択することができる。
タ手段を、光導波路素子チップ上に実装することがで
き、或は素子チップを収容する筐体内に内蔵することが
できる。また、モニタ手段の配置位置を、光導波路出力
部の近傍に自由に選択することができ、その取り付け作
業が容易であり、かつ光導波路自体に加工を施す必要も
ない。このため、モニタ付光素子を小型化することが可
能になり、実用上、高い効用を有するものである。
を示す平面説明図。
要部を示す斜視説明図。
出力端部の要部を示す断面説明図。
一例の出力端部の要部を示す正面説明図。
一例の要部の平面説明図。
Claims (6)
- 【請求項1】 誘電体基板と、その上に形成された光導
波路とを有する光素子、及びこの光導波路の近傍に配置
され、前記光導波路の出力部を伝播する導波光のエバネ
セント成分の一部を受光し、これをモニタする光検出器
とを有するモニタ付光導波路型素子。 - 【請求項2】 前記光導波路と、前記光検出器との間
に、前記誘電体基板の屈折率より高い屈折率を有するエ
バネセント成分導入層が配置されている、請求項1に記
載のモニタ付光導波路素子。 - 【請求項3】 前記光導波路上にプリズムが配置され、
このプリズムを介して導波光のエバネセント成分の一部
が、前記光検出器に受光される請求項1又は請求項2に
記載のモニタ付光導波路素子。 - 【請求項4】 前記光導波路の出力部の近傍にカプラを
配置して、前記出力部に分波導波路を形成し、この分波
導波路の近傍に、前記分波導波路を伝播する導波光のエ
バネセント成分の一部を受光する光検出器が配置されて
いる、請求項1又は2に記載のモニタ付光導波路素子。 - 【請求項5】 前記光素子が、マッハツェンダ型光変調
器である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のモニタ
付光導波路型素子。 - 【請求項6】 前記誘電体基板がニオブ酸リチウムであ
ることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載
のモニタ付光導波路素子。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2000032789A JP2001215371A (ja) | 2000-02-04 | 2000-02-04 | モニタ付光導波路型素子 |
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Publications (1)
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Family Applications (1)
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JP2000032789A Pending JP2001215371A (ja) | 2000-02-04 | 2000-02-04 | モニタ付光導波路型素子 |
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- 2000-02-04 JP JP2000032789A patent/JP2001215371A/ja active Pending
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