JP4873238B2 - アルカリ現像型感光性樹脂組成物、レジストインキ、及びプリント配線基板 - Google Patents
アルカリ現像型感光性樹脂組成物、レジストインキ、及びプリント配線基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4873238B2 JP4873238B2 JP2006235448A JP2006235448A JP4873238B2 JP 4873238 B2 JP4873238 B2 JP 4873238B2 JP 2006235448 A JP2006235448 A JP 2006235448A JP 2006235448 A JP2006235448 A JP 2006235448A JP 4873238 B2 JP4873238 B2 JP 4873238B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- para
- alkali
- resin composition
- photosensitive resin
- ortho
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
本発明は、更に、前記アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたレジストインキに関する。
本発明は、更に、前記レジストインキを用いて回路形成されたプリント配線基板に関する。
[1]エポキシ当量:JIS K−7236に準じた方法で測定した。
[2]軟化点:JIS K−7234に準じた方法で測定した。
[3]グリシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がグリシジル基に対してパラ位−パラ位結合となっている比率:日本電子製NMRを用い、NOE消去によるH1完全デカップリング法(SGNNEモード)にてC13−NMRを測定し、オルソ位−オルソ位結合のメチレン炭素(29〜32ppmに存在するピーク合計)とオルソ位−パラ位結合のメチレン炭素(34〜37ppmに存在するピーク合計)およびパラ位−パラ位結合のメチレン炭素(39〜42ppmに存在するピーク合計)のそれぞれの積分値の比率より算出した。溶媒は重クロロホルム、測定濃度は30質量%、パルス幅は45°、遅延時間は2秒、積算回数は4千回とした。
[4]1,2−ジオール基含有量:試料をクロロホルムに溶解し、過ヨウ素酸をジオール機に反応させ、未反応の過ヨウ素酸をヨウ化カリで還元した後、生じたヨウ素をチオ硫酸ナトリウムで滴定した。
攪拌装置、冷却管および温度計を備えた2Lの反応装置にクレゾール108質量部、蓚酸5質量部を仕込み、常圧で内温110℃まで昇温した後、脱水配管に切り替え生成した水を除去しながら37質量%ホルマリン44質量部(モル比F/P=0.54)を30分間かけて添加した。更に120℃で30分間反応を行った後、冷却管に切り替え37質量%ホルマリン44質量部(モル比F/P=0.54)を30分間かけて添加した。更に120℃で1時間還流反応を行った後、140℃まで昇温した。次いで、釜内を5000Paまで徐々に減圧にしながら内温を250℃まで上げ、水分等を除去し、クレゾールノボラック樹脂(a)116質量部を得た。得られた樹脂の水酸基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、水酸基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して25モル%であった。
攪拌装置、冷却管および温度計を備えた2Lの反応装置にクレゾール108質量部、蓚酸5質量部を仕込み、常圧で内温120℃まで昇温した後、脱水配管に切り替え生成した水を除去しながら37質量%ホルマリン88質量部(モル比F/P=1.08)を1時間かけて添加した。更に120℃で1時間還流反応を行った後、140℃まで昇温した。次いで、釜内を5000Paまで徐々に減圧にしながら内温を250℃まで上げ、水分等を除去し、クレゾールノボラック樹脂(b)115質量部を得た。得られた樹脂の水酸基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、水酸基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して22モル%であった。
合成例1において、蓚酸5質量部を酢酸亜鉛5質量部に変更した以外は合成例1と同様の方法で、クレゾールノボラック樹脂(c)116質量部を得た。得られた樹脂の水酸基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、水酸基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して20モル%であった。
攪拌装置、冷却管および温度計を備えた2Lの反応装置にクレゾール108質量部、蓚酸5質量部を仕込み、常圧で内温95℃まで昇温した後、37質量%ホルマリン88質量部(モル比F/P=1.08)を1時間かけて添加した。更に98〜100℃で1時間還流反応を行った後、脱水配管に切り替え生成した水を除去しながら140℃まで昇温した。次いで、釜内を5000Paまで徐々に減圧にしながら内温を250℃まで上げ、水分等を除去し、クレゾールノボラック樹脂(d)116質量部を得た。得られた樹脂の水酸基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、水酸基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して30モル%であった。
合成例1において、蓚酸5質量部を硫酸0.1質量部に変更した以外は合成例1と同様の方法で、クレゾールノボラック樹脂(e)111質量部を得た。得られた樹脂の水酸基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、水酸基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して32モル%であった。
合成例1において、37質量%ホルマリン88質量部を37質量%ホルマリン105質量部(モル比F/P=1.31)に変更した以外は合成例1と同様の方法で、クレゾールノボラック樹脂(f)117質量部を得た。得られた樹脂の水酸基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、水酸基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して27モル%であった。
合成例1において、37質量%ホルマリン88質量部を37質量%ホルマリン69質量部(モル比F/P=0.85)に変更した以外は合成例1と同様の方法で、クレゾールノボラック樹脂(g)115質量部を得た。得られた樹脂の水酸基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、水酸基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して25モル%であった。
合成例1において、37質量%ホルマリン88質量部を37質量%ホルマリン75質量部(モル比F/P=0.92)に変更した以外は合成例1と同様の方法で、クレゾールノボラック樹脂(h)116質量部を得た。得られた樹脂の水酸基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、水酸基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して25モル%であった。
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のEPICLON N−695(大日本インキ化学工業(株)製、エポキシ当量=214)214gを撹拌機及び還流冷却器の付いた四つ口フラスコに入れ、カルビトールアセテート206gを加えて加熱溶解した。次に、重合禁止剤としてハイドロキノン0.1gと、反応触媒としてトリフェニルホスフィン2.0gを加えた。この混合物を95〜105℃に加熱し、アクリル酸72gを徐々に滴下し、16時間反応させた。得られた反応生成物を80〜90℃まで冷却し、テトラヒドロフタル酸無水物91.2gを加えて8時間反応させ、冷却後、取り出した。このようにして得られたカルボキシル基含有光重合性不飽和化合物は、不揮発分65質量%、固形物の酸価87.5mgKOH/gであった。以下、この反応生成物の溶液をAワニスと称す。
温度計、滴下ロート、冷却管、撹拌機を取り付けたフラスコに、窒素ガスパージを施しながら、クレゾールノボラック樹脂(a)120g、エピクロルヒドリン463g(5.0モル)、n−ブタノール139g、テトラエチルベンジルアンモニウムクロライド2gを仕込み溶解させた。65℃に昇温した後、共沸する圧力まで減圧して、49質量%水酸化ナトリウム水溶液90g(1.1モル)を5時間かけて滴下した。その後、同条件で0.5時間撹拌を続けた。この間、共沸によって留出してきた留出分をディーンスタークトラップで分離し、水層を除去し、油層を反応系内に戻しながら、反応を行った。その後、未反応のエピクロルヒドリンを減圧蒸留によって留去させた。それで得られた粗エポキシ樹脂にメチルイソブチルケトン590gとn−ブタノール177gとを加え溶解した。更にこの溶液に10質量%水酸化ナトリウム水溶液10gを添加して80℃で2時間反応させた後に洗浄液のPHが中性となるまで水150gで水洗を3回繰り返した。次いで共沸によって系内を脱水し、精密濾過を経た後に、溶媒を減圧下で留去して、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(A)171gを得た。得られたエポキシ樹脂のグルシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、グリシジル基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して25モル%、軟化点は105℃、エポキシ当量は209g/eq、ジオール基は0.01meq/gであった。
合成例10において、クレゾールノボラック樹脂(a)120g、エピクロルヒドリン463g(5.0モル)、n−ブタノール139g、テトラエチルベンジルアンモニウムクロライド2gに加えてグリシドール1gを仕込んだ以外は合成例10と同様の方法で、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(B)172gを得た。得られたエポキシ樹脂のグルシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、グリシジル基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して25モル%、軟化点は105℃、エポキシ当量は212g/eq、ジオール基は0.06meq/gであった。
合成例10において、クレゾールノボラック樹脂(a)120g、エピクロルヒドリン463g(5.0モル)、n−ブタノール139g、テトラエチルベンジルアンモニウムクロライド2gに加えてグリシドール0.5gを仕込んだ以外は合成例10と同様の方法で、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(C)172gを得た。得られたエポキシ樹脂のグルシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、グリシジル基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して25モル%、軟化点は105℃、エポキシ当量は212g/eq、ジオール基は0.03meq/gであった。
合成例11において、クレゾールノボラック樹脂(a)を、クレゾールノボラック樹脂(b)に変更した以外は合成例11と同様の方法で、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(D)171gを得た。得られたエポキシ樹脂のグルシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、グリシジル基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して22モル%、軟化点は106℃、エポキシ当量は212g/eq、ジオール基は0.07meq/gであった。
合成例11において、クレゾールノボラック樹脂(a)を、クレゾールノボラック樹脂(c)に変更した以外は合成例11と同様の方法で、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(E)170gを得た。得られたエポキシ樹脂のグルシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、グリシジル基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して20モル%、軟化点は106℃、エポキシ当量は212g/eq、ジオール基は0.06meq/gであった。
合成例11において、クレゾールノボラック樹脂(a)を、クレゾールノボラック樹脂(d)に変更した以外は合成例11と同様の方法で、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(F)172gを得た。得られたエポキシ樹脂のグルシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、グリシジル基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して30モル%、軟化点は104℃、エポキシ当量は212g/eq、ジオール基は0.06meq/gであった。
合成例11において、クレゾールノボラック樹脂(a)を、クレゾールノボラック樹脂(e)に変更した以外は合成例11と同様の方法で、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(G)171gを得た。得られたエポキシ樹脂のグルシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、グリシジル基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して32モル%、軟化点は104℃、エポキシ当量は212g/eq、ジオール基は0.06meq/gであった。
合成例11において、クレゾールノボラック樹脂(a)を、クレゾールノボラック樹脂(f)に変更した以外は合成例11と同様の方法で、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(H)172gを得た。得られたエポキシ樹脂のグルシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、グリシジル基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して27モル%、軟化点は126℃、エポキシ当量は220g/eq、ジオール基は0.06meq/gであった。
合成例11において、クレゾールノボラック樹脂(a)を、クレゾールノボラック樹脂(g)に変更した以外は合成例11と同様の方法で、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(I)170gを得た。得られたエポキシ樹脂のグルシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、グリシジル基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して25モル%、軟化点は78℃、エポキシ当量は209g/eq、ジオール基は0.06meq/gであった。
合成例11において、クレゾールノボラック樹脂(a)を、クレゾールノボラック樹脂(h)に変更した以外は合成例11と同様の方法で、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(J)171gを得た。得られたエポキシ樹脂のグルシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、グリシジル基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して25モル%、軟化点は83℃、エポキシ当量は209g/eq、ジオール基は0.06meq/gであった。
合成例17において、エピクロルヒドリン463g(5.0モル)を、エピクロルヒドリン231g(2.5モル)に変更した以外は合成例17と同様の方法で、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(K)170gを得た。得られたエポキシ樹脂のグルシジル基を有する芳香環間のメチレン結合の結合位置がパラ位−パラ位となっているものの含有率は、グリシジル基に対してパラ位−パラ位およびオルソ位−パラ位およびオルソ位−オルソ位の合計に対して27モル%、軟化点は133℃、エポキシ当量は241g/eq、ジオール基は0.06meq/gであった。
合成例9で得られたAワニス100gに、上記合成例13で得たクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(D)33g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート8g、2‐メチル‐1‐[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン5g、2,4‐ジエチルチオキサントン1g、シリカ10g、硫酸バリウム13g、フタロシアニングリーン1gを3本ロールで混合分散させて、アルカリ現像型感光性樹脂組成物(1)を調製した。得られた組成物の仮乾燥後の塗膜のタック性およびドレープ性、ポストキュアー後の各種塗膜性能を評価した。結果を表1に示す。
合成例9で得られたAワニス100gに、上記合成例11で得たクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(B)33g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート8g、2‐メチル‐1‐[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン5g、2,4‐ジエチルチオキサントン1g、シリカ10g、硫酸バリウム13g、フタロシアニングリーン1gを3本ロールで混合分散させて、アルカリ現像型感光性樹脂組成物(2)を調製した。得られた組成物の仮乾燥後の塗膜のタック性およびドレープ性、ポストキュアー後の各種塗膜性能を評価した。結果を表1に示す。
合成例9で得られたAワニス100gに、上記合成例17で得たクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(H)33g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート8g、2‐メチル‐1‐[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン5g、2,4‐ジエチルチオキサントン1g、シリカ10g、硫酸バリウム13g、フタロシアニングリーン1gを3本ロールで混合分散させて、アルカリ現像型感光性樹脂組成物(3)を調製した。得られた組成物の仮乾燥後の塗膜のタック性およびドレープ性、ポストキュアー後の各種塗膜性能を評価した。結果を表1に示す。
合成例9で得られたAワニス100gに、上記合成例12で得たクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(C)33g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート8g、2‐メチル‐1‐[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン5g、2,4‐ジエチルチオキサントン1g、シリカ10g、硫酸バリウム13g、フタロシアニングリーン1gを3本ロールで混合分散させて、アルカリ現像型感光性樹脂組成物(4)を調製した。得られた組成物の仮乾燥後の塗膜のタック性およびドレープ性、ポストキュアー後の各種塗膜性能を評価した。結果を表1に示す。
合成例9で得られたAワニス100gに、上記合成例10で得たクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(A)32g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート8g、2‐メチル‐1‐[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン5g、2,4‐ジエチルチオキサントン1g、シリカ10g、硫酸バリウム13g、フタロシアニングリーン1gを3本ロールで混合分散させて、アルカリ現像型感光性樹脂組成物(9)を調製した。得られた組成物の仮乾燥後の塗膜のタック性およびドレープ性、ポストキュアー後の各種塗膜性能を評価した。結果を表1に示す。
合成例9で得られたAワニス100gに、上記合成例14で得たクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(E)33g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート8g、2‐メチル‐1‐[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン5g、2,4‐ジエチルチオキサントン1g、シリカ10g、硫酸バリウム13g、フタロシアニングリーン1gを3本ロールで混合分散させて、アルカリ現像型感光性樹脂組成物(5)を調製した。得られた組成物の仮乾燥後の塗膜のタック性およびドレープ性、ポストキュアー後の各種塗膜性能を評価した。結果を表2に示す。
合成例9で得られたAワニス100gに、上記合成例16で得たクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(G)33g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート8g、2‐メチル‐1‐[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン5g、2,4‐ジエチルチオキサントン1g、シリカ10g、硫酸バリウム13g、フタロシアニングリーン1gを3本ロールで混合分散させて、アルカリ現像型感光性樹脂組成物(6)を調製した。得られた組成物の仮乾燥後の塗膜のタック性およびドレープ性、ポストキュアー後の各種塗膜性能を評価した。結果を表2に示す。
合成例9で得られたAワニス100gに、上記合成例18で得たクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(I)32g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート8g、2‐メチル‐1‐[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン5g、2,4‐ジエチルチオキサントン1g、シリカ10g、硫酸バリウム13g、フタロシアニングリーン1gを3本ロールで混合分散させて、アルカリ現像型感光性樹脂組成物(7)を調製した。得られた組成物の仮乾燥後の塗膜のタック性およびドレープ性、ポストキュアー後の各種塗膜性能を評価した。結果を表2に示す。
合成例9で得られたAワニス100gに、上記合成例20で得たクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(K)36g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート8g、2‐メチル‐1‐[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン5g、2,4‐ジエチルチオキサントン1g、シリカ10g、硫酸バリウム13g、フタロシアニングリーン1gを3本ロールで混合分散させて、アルカリ現像型感光性樹脂組成物(8)を調製した。得られた組成物の仮乾燥後の塗膜のタック性およびドレープ性、ポストキュアー後の各種塗膜性能を評価した。結果を表2に示す。
合成例9で得られたAワニス100gに、上記合成例15で得たクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(F)33g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート8g、2‐メチル‐1‐[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン5g、2,4‐ジエチルチオキサントン1g、シリカ10g、硫酸バリウム13g、フタロシアニングリーン1gを3本ロールで混合分散させて、アルカリ現像型感光性樹脂組成物(10)を調製した。得られた組成物の仮乾燥後の塗膜のタック性およびドレープ性、ポストキュアー後の各種塗膜性能を評価した。結果を表2に示す。
合成例9で得られたAワニス100gに、上記合成例19で得たクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(J)32g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート8g、2‐メチル‐1‐[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン5g、2,4‐ジエチルチオキサントン1g、シリカ10g、硫酸バリウム13g、フタロシアニングリーン1gを3本ロールで混合分散させて、アルカリ現像型感光性樹脂組成物(11)を調製した。得られた組成物の仮乾燥後の塗膜のタック性およびドレープ性、ポストキュアー後の各種塗膜性能を評価した。結果を表2に示す。
(1)仮乾燥後のタック性
実施例1〜5及び比較例1〜6で得られた各アルカリ現像型感光性樹脂組成物を、パターン形成された銅箔基板上にスクリーン印刷で全面塗布し、80℃で20分間、乾燥させた基板を作成し、その塗膜表面の指触乾燥性を評価した。
○ : 全くベタ付きのないもの
△ : ほんの僅かにベタ付きのあるもの
× : ベタ付きのあるもの
実施例1〜5及び比較例1〜6で得られた各アルカリ現像型感光性樹脂組成物を、幅50mm、長さ300mmのパターン形成された銅箔基板を水平面に置き、この上にスクリーン印刷で全面塗布し、80℃で20分間、乾燥させた基板を作成した。この基板の片端から10mmの塗布面に直径10mmのSUS304の球を置き、球を置いた方の片端を水平面に対して1分間に1度の角度で上昇させ、球が動きだした時の角度(転がり角度)を指触乾燥性の指標とした。
実施例1〜5及び比較例1〜6で得られた各アルカリ現像型感光性樹脂組成物を、幅25mm、長さ500mm、厚み18μmの銅箔上にスクリーン印刷で全面塗布し、80℃で20分間、乾燥させた銅箔を、片端から100mmを架台に固定し、もう一方の片端から400mmを垂下させた。10分後、垂下させた基板の先端までの架台固定部からの垂直距離Aと架台固定部端100mmの位置から基板の先端までの水平距離Bを計測し、次式より垂れ角度θ(゜)を求め、ドレープ性の指標とした。垂れ角度θ(゜)=tan-1(A/B)
実施例1〜5及び比較例1〜6で得られた各アルカリ現像型感光性樹脂組成物を、脱脂洗浄された0.318mmピッチ櫛型電極状にパターン形成されたプリント配線基板に15〜20μmの厚みになるように全面にスクリーン印刷し、次いで80℃で20分間乾燥させ、その塗膜にレジストパターンを有するネガフィルムを密着させ、積算光度500mJ/cm2の紫外線を照射露光した。次に液温30℃の1質量%炭酸ナトリウム水溶液を用いて30秒間、及び60秒間、2.0kg/cm2のスプレー圧で現像し、目視により未露光部分を下記の基準で評価した。
○ : 完全にインキが除去され残査なし。
△ : 僅かに残査がある。
× : 現像されない部分がある。
実施例1〜5及び比較例1〜6で得られた各アルカリ現像型感光性樹脂組成物を、脱脂洗浄された0.318mmピッチ櫛型電極状にパターン形成されたプリント配線基板に15〜20μmの厚みになるように全面にスクリーン印刷し、次いで80℃で20分間乾燥させ、その塗膜にレジストパターンを有するネガフィルムを密着させ、積算光度500mJ/cm2の紫外線を照射露光した。次に液温30℃の1質量%炭酸ナトリウム水溶液を用いて30秒間、及び60秒間、2.0kg/cm2のスプレー圧で現像後、さらにこの基板を150℃で60分間熱硬化して評価基板を作製した。この評価基板にロジン系フラックスを塗布し、予め260℃に設定したはんだ槽に30秒間浸漬し、トリクロロエタンでフラックスを洗浄した後、目視によるレジスト膜の膨れ・剥がれ・変色について評価した。
◎ : 全く変化が認められないもの。
○ : ほんの僅か変色のみしたもの。
△ : ほんの僅か膨れ・剥がれ・変色したもの。
× : レジスト膜に膨れ、剥がれがあるもの。
Claims (8)
- カルボキシル基含有光重合性不飽和化合物(A)、ノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル(X)、及び光重合開始剤(C)を必須成分とするアルカリ現像型感光性樹脂組成物であって、前記ノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル(X)が、その軟化点が90〜130℃の範囲にあるものであり、かつ、グリシジルオキシ基に対してパラ位−パラ位となっているメチレン結合の含有率が、パラ位−パラ位となっているメチレン結合、オルソ位−パラ位となっているメチレン結合、およびオルソ位−オルソ位となっているメチレン結合の合計モル数に対して22〜28モル%の範囲であることを特徴とするアルカリ現像型感光性樹脂組成物。
- ノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル(X)が、エピハロヒドリンおよびβ−メチルエピハロヒドリンから選択されるエピハロヒドリン類と、ノボラック樹脂(Y)との反応物である請求項1記載のアルカリ現像型感光性樹脂組成物。
- ノボラック樹脂(Y)がフェノールノボラック樹脂又はクレゾールノボラック樹脂である請求項2に記載のアルカリ現像型感光性樹脂組成物。
- ノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル(X)のエポキシ当量が200〜300g/eq.の範囲である請求項1〜3の何れか1つに記載のアルカリ現像型感光性樹脂組成物。
- ノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル(X)が1,2−ジオール基を0.02〜0.10meq/gとなる範囲で含有するものである請求項1〜3の何れかに記載のアルカリ現像型感光性樹脂組成物。
- カルボキシル基含有光重合性不飽和化合物(A)、ノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル(X)、及び光重合開始剤(C)に加え、さらに、その他のエチレン結合を有する光重合性不飽和化合物(D)を含有することを特徴とする請求項1〜5の何れか1つに記載のアルカリ現像型感光性樹脂組成物。
- 請求項1〜6記載の何れか1つに記載のアルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたレジストインキ。
- 請求項7記載のレジストインキを基板上に塗工、次いで乾燥させた後、所望のマスクパターンを塗膜表面上に置き、活性エネルギー線を照射して予備硬化させ、次いで、アルカリ現像してパターンを形成し、次いで、該塗膜を硬化させて得られるプリント配線基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006235448A JP4873238B2 (ja) | 2006-08-31 | 2006-08-31 | アルカリ現像型感光性樹脂組成物、レジストインキ、及びプリント配線基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006235448A JP4873238B2 (ja) | 2006-08-31 | 2006-08-31 | アルカリ現像型感光性樹脂組成物、レジストインキ、及びプリント配線基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008058601A JP2008058601A (ja) | 2008-03-13 |
JP4873238B2 true JP4873238B2 (ja) | 2012-02-08 |
Family
ID=39241409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006235448A Expired - Fee Related JP4873238B2 (ja) | 2006-08-31 | 2006-08-31 | アルカリ現像型感光性樹脂組成物、レジストインキ、及びプリント配線基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4873238B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6557155B2 (ja) * | 2015-02-02 | 2019-08-07 | 株式会社日本触媒 | 硬化性樹脂およびその製造方法 |
JP6383764B2 (ja) * | 2016-01-12 | 2018-08-29 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02113021A (ja) * | 1988-10-22 | 1990-04-25 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
JP3439654B2 (ja) * | 1997-04-15 | 2003-08-25 | 住友ベークライト株式会社 | 高分子量ハイオルソノボラック型フェノール樹脂 |
JPH10330592A (ja) * | 1997-06-04 | 1998-12-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
JP2981218B1 (ja) * | 1998-10-28 | 1999-11-22 | 日華化学株式会社 | ソルダーフォトレジストインキ組成物 |
JP2000264941A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-26 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | フォトレジスト用ノボラック樹脂の製造方法 |
JP2002179749A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | ノボラック樹脂の製造方法 |
JP4571344B2 (ja) * | 2001-07-19 | 2010-10-27 | 互応化学工業株式会社 | 紫外線硬化性樹脂組成物及びドライフィルム |
JP2004263142A (ja) * | 2003-03-04 | 2004-09-24 | Goo Chemical Co Ltd | ポリエステル樹脂、紫外線硬化性樹脂組成物、その硬化物及びプリント配線板 |
JP2005300785A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びその硬化塗膜 |
JP4548058B2 (ja) * | 2004-09-16 | 2010-09-22 | Dic株式会社 | アルカリ現像型感光性樹脂組成物、レジストインキ及びプリント配線基板。 |
JP2006178444A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-07-06 | Showa Denko Kk | 感光性ドライフィルムの保存安定性の改良方法 |
JP2006235101A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 |
-
2006
- 2006-08-31 JP JP2006235448A patent/JP4873238B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008058601A (ja) | 2008-03-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101169618B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 그리고 그 경화물 | |
WO2001073510A1 (fr) | Composition de resine photodurcissante/thermodurcissante, couche seche photosensible preparee au moyen de cette resine et procede de creation de configurations | |
JP4548155B2 (ja) | アルカリ現像型感光性樹脂組成物及びプリント配線基板。 | |
TWI535775B (zh) | 鹼性顯影型樹脂,使用該樹脂的感光性樹脂組成物 | |
JP2007326933A (ja) | エポキシビニルエステル樹脂、その製造法、感光性樹脂組成物、その硬化物、酸ペンダント型エポキシビニルエステル樹脂、アルカリ現像性感光性樹脂組成物、及びその硬化物 | |
JP2001042525A (ja) | アルカリ現像型感光性樹脂組成物 | |
JP3953854B2 (ja) | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物 | |
JP5875519B2 (ja) | 感光性樹脂及び該感光性樹脂を含む感光性樹脂組成物の製造方法 | |
JP4873238B2 (ja) | アルカリ現像型感光性樹脂組成物、レジストインキ、及びプリント配線基板 | |
JP3953852B2 (ja) | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物 | |
JP2004099635A (ja) | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物とその成形物、及びそれらの硬化物 | |
JP3953851B2 (ja) | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物 | |
JP4219641B2 (ja) | アルカリ現像型感光性樹脂組成物 | |
JP2003167331A (ja) | 樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP2001290268A (ja) | 感光性樹脂組成物、及びこれを用いた感光性フイルム | |
JP5103912B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物、及びその硬化物 | |
WO2007077837A1 (ja) | アルカリ現像可能な硬化性組成物及びその硬化物 | |
JP4738259B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、並びにその硬化物 | |
JP4175837B2 (ja) | 画像形成用感光性樹脂組成物 | |
JP4387207B2 (ja) | アルカリ現像型感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP4548058B2 (ja) | アルカリ現像型感光性樹脂組成物、レジストインキ及びプリント配線基板。 | |
JP3953853B2 (ja) | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物 | |
JP4803417B2 (ja) | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物およびアルカリ現像型感光性樹脂組成物 | |
JP3351556B2 (ja) | 樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 | |
JPH1143533A (ja) | 樹脂組成物、永久レジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090714 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110518 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110602 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110728 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111027 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111109 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |