JP2002179749A - ノボラック樹脂の製造方法 - Google Patents
ノボラック樹脂の製造方法Info
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Abstract
ック樹脂を、収率良く、かつ工業的に有利に製造する方
法を提供する。 【解決手段】フェノール類とアルデヒド類とを蓚酸触媒
を用い、110〜160℃、加圧下に反応させることを特徴と
するフェノール類ノボラック樹脂の製造方法。
Description
ラック樹脂の製造方法に関し、詳しくは、フェノール類
とアルデヒド類とを蓚酸触媒を用い、110〜160℃、加圧
下に反応させることを特徴とするフェノール類ノボラッ
ク樹脂の製造方法に関するものである。
料、エポキシ樹脂硬化剤、フォトレジスト用樹脂、エポ
キシ樹脂原料等幅広い分野に用いられている。そして、
その原料であるアルデヒド類に由来するメチレン結合の
うちのオルソ位の比率すなわちオルソ率により、その特
性、特に反応性が変わってくることは良く知られている
(「フェノール樹脂」:48〜52頁、1987年、(株)プラス
チックス・エージ発行)。例えば、オルソ率が大きくな
ると、アミン化合物による硬化性が速くなることが知ら
れており、また、フェノール類ノボラック樹脂をエポキ
シ化したノボラックエポキシ樹脂の場合にも、同様に硬
化性が速くなることが知られている。このことから、そ
の用途に応じて、種々のオルソ率を持つノボラック樹脂
が製造されている。
応において、触媒として、p-トルエンスルホン酸を用い
ることにより、オルソ率が20%前後のものを製造でき、
蓚酸を用いることにより、オルソ率が40%前後のものを
製造できることが知られている。また、酢酸亜鉛を用い
ることにより、ハイオルソノボラックといわれるオルソ
率が60%超えるものが製造できることも知られている。
またオルソ率が40%前後のフェノール類ノボラック樹脂
を製造する場合、オルソ率が20%前後のものを製造する
場合に比べ、使用する触媒が弱酸のため、長時間反応さ
せたり、温度を上げ、脱水を行う等の反応率を向上させ
る方法も試みられている(特開昭62-275121号公報)。
応率を向上させる方法でも収率が低いという問題、更に
は、留出水、分液水等の排水に多量の原料フェノール類
を含むという工業上の問題があった。したがって、本発
明は、収率良く、かつ工業的に有利にオルソ率30〜60
%、好適にはオルソ率30〜55%のフェノール類ノボラッ
ク樹脂を製造することを目的とする。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、蓚酸触媒下におけ
るフェノール類とアルデヒド類との反応を、110〜160
℃、加圧下という特定の条件下で実施することにより、
収率良く、目的とするフェノール類ノボラック樹脂が得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。すな
わち本発明は、フェノール類とアルデヒド類とを蓚酸触
媒を用い、110〜160℃、加圧下に反応させることを特徴
とする工業的に優れたフェノール類ノボラック樹脂の製
造方法を提供するものである。
本発明において用いられるフェノール類としては、特に
限定は無いが、例えば、フェノール、炭素数1〜9のアル
キル基、ハロゲン、芳香族基等の置換基を有する置換フ
ェノール等が挙げられる。ここで置換基を有するフェノ
ール類の場合、その置換基の数は、通常1〜3であり、3
ヵ所の反応位(フェノール性水酸基に対し、パラ位と2
個のオルソ位)の内、少なくとも2個は未置換である置
換フェノールが好ましく使用される。特に、反応性など
の面から、オルソクレゾール等の二官能のフェノール類
が好ましい。
ド類としては、例えばホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキ
シベンズアルデヒド、アクロレイン、グリオキザール等
が挙げられる。特に、ホルムアルデヒドの場合は、ホル
マリン、パラホルム、トリオキサン等も使用できる。な
かでも取り扱い性などの面でホルマリンが好ましい。ア
ルデヒド類の使用量は、目的とするフェノール類ノボラ
ック樹脂の分子量によって異なるが、フェノール類に対
し、通常0.5〜0.99モル倍使用される。
和物の結晶が用いられるが、水溶液として使用しても良
い。蓚酸の使用量は、通常、フェノール類に対し0.001
〜0.1モル倍である。また、必要に応じて、反応途中で
追加する追加触媒として、硫酸、塩酸、トルエンスルホ
ン酸などの強酸を少量使用しても良い。この場合の使用
量は、フェノール類に対し通常0.0001〜0.01モル倍であ
る。
ルデヒド類、蓚酸触媒を用い、110〜160℃、加圧下に反
応させることを特徴とするものであるが、温度が低すぎ
ると反応速度が遅くなり、また、高すぎると蓚酸の分解
などの副反応が起こり好ましくない。好ましくは、120
〜150℃である。また、反応温度を変えることにより、
オルソ率をコントロール出来る。すなわち、オルソ率
は、高い温度で反応させれば高くなり、低い温度で反応
させれば低くなる。オルソ率は、ガスクロマトグラフに
よる二核体の分析より求めることができる。また反応に
おける圧力は、通常0.01〜0.15Mpa程度、好ましくは0.0
5〜0.1Mpa程度である。
ことができる。温度計、攪拌機を取り付けた耐食性オー
トクレーブにフェノール類、蓚酸を仕込み、窒素置換
後、密閉し、昇温する。次いで、所定の温度でアルデヒ
ド類を連続または不連続に添加し、反応完結まで保温す
る。その後、必要に応じアルカリで中和、水洗を行い、
減圧脱水、ストリッピングを行い、フェノール類ノボラ
ック樹脂を得る。
目的とするフェノール類ノボラック樹脂を得ることがで
きる。また、排水(留出水及び/または分液水)中のフ
ェノール類の量を低減し得るという工業上の利点も有す
る。
が、本発明は実施例に限定されるものではない。なお、
実施例中の測定方法等は以下のとおりである。 オルソ率:ガスクロマトグラフで、二核体の三種の異性
体(オルソ-オルソ体、オルソ-パラ体、パラ-パラ体)
比を測定し、オルソ率(%)=オルソ-オルソ体(%)+オ
ルソ-パラ体(%)/2で求めた。 軟化点:リング&ボール法で測定した。 収 率:(フェノール類の重量+ホルムアルデヒドの重
量×12÷30)を100%として計算した。
応容器中にオルソクレゾール 324gと、蓚酸(二水和物)
3.78gを仕込み溶解させた後、窒素置換し、密閉して昇
温した。130℃で保持しながら、37%ホルマリン194.6gを
2時間で注入し、さらに同温度で4時間保温攪拌した。こ
の反応中の圧力は、最大0.33MPaであった。その後、85
℃まで冷却、常圧に戻した後、10%水酸化ナトリウム溶
液で中和した。水洗した後、水及び未反応モノマーを減圧蒸
留により除去し、さらに、残存オルソクレゾールが1000
ppm以下になるまでストリッピングを行い、オルソクレ
ゾールノボラック樹脂350g(収率99.2%)を得た。オル
ソ率は、40%、軟化点は96℃であった。また、全排水中
のオルソクレゾール量は、仕込み量の0.8%であった。
後、4時間保温に代えて、1時間保温後、50%パラトルエ
ンスルホン酸(一水塩)水溶液5.7gを添加し、さらに1
時間保温した以外は、実施例1と同様に行い、オルソク
レゾールノボラック樹脂351.2g(収率99.5%)を得た。
オルソ率は、40%、軟化点は97℃、全排水中のオルソク
レゾール量は、仕込み量の0.5%であった。
し、オルソクレゾールノボラック樹脂351.5g(収率99.6
%)を得た。オルソ率は、33%、軟化点は96℃、全排水中
のオルソクレゾール量は、仕込み量の0.4%であった。
し、オルソクレゾールノボラック樹脂351.0g(収率99.5
%)を得た。オルソ率は、45%、軟化点は96℃、全排水中
のオルソクレゾール量は、仕込み量の0.5%であった。
に実施し、オルソクレゾールノボラック樹脂352.1g(収
率99.8%)を得た。オルソ率は、40%、軟化点は110℃、
全排水中のオルソクレゾール量は、仕込み量の0.2%であ
った。
に実施し、オルソクレゾールノボラック樹脂355.6g(収
率99.9%)を得た。オルソ率は、40%、軟化点は124℃、
全排水中のオルソクレゾール量は、仕込み量の0.1%であ
った。
丸底フラスコに、オルソクレゾール 324gと、蓚酸(二水
和物)3.78gを仕込み溶解させた。窒素置換後、90℃まで
昇温した。90℃で保持しながら、94%パラホルムアルデ
ヒド75.6gを4分割し、2時間で添加し、2時間保温した。
さらに10%パラトルエンスルホン酸(一水塩)水溶液5.7
1gを発熱に注意しながら、2時間かけて徐々に滴下し
た。その後、約6時間かけて昇温しながら脱水を行い、
130℃に達した後、2時間保持した。その後、メチルイ
ソブチルケトンに溶解し、水酸化ナトリウム溶液で中和
し、水洗した後、水及び未反応モノマーを減圧蒸留によ
り除去し、さらに、残存オルソクレゾールが、1000ppm
以下になるまでストリッピングを行い、オルソクレゾー
ルノボラック樹脂335.5(収率95.1%)を得た。オルソ率
は39%、軟化点は94℃、全排水中のオルソクレゾール量
は、仕込み量の4.7%であった。
パラトルエンスルホン酸(一水塩)5.71gを仕込み溶解
させた。窒素置換後、昇温し、還流下、37%ホルマリン1
94.6gを2時間かけて滴下し、2時間保温した。その後、
10%水酸化ナトリウム溶液で中和し、水洗した後、水及
び未反応モノマーを減圧蒸留により除去し、さらに、残存オ
ルソクレゾールが、1000ppm以下になるまでストリッピ
ングを行い、オルソクレゾールノボラック樹脂351.7g
(収率99.7%)を得た。オルソ率は、19%、軟化点は96
℃、全排水中のオルソクレゾール量は、仕込み量の0.3%
であった。
Claims (4)
- 【請求項1】フェノール類とアルデヒド類とを蓚酸触媒
を用い、110〜160℃、加圧下に反応させることを特徴と
するフェノール類ノボラック樹脂の製造方法。 - 【請求項2】アルデヒド類がホルマリンである請求項1
の製造方法。 - 【請求項3】フェノール類がオルソクレゾールである請
求項1または2の製造方法。 - 【請求項4】フェノール類ノボラック樹脂におけるオル
ソ率が30〜60%である請求項1〜3いずれかに記載の製
造方法。
Priority Applications (4)
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004020492A1 (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-11 | Asahi Organic Chemicals Industry Co., Ltd. | ノボラック型フェノール樹脂の製造方法 |
JP2006518004A (ja) * | 2003-02-18 | 2006-08-03 | インドスペク ケミカル コーポレーション | 改質レゾルシノール樹脂、及びその用途 |
JP2008058601A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Dainippon Ink & Chem Inc | アルカリ現像型感光性樹脂組成物、レジストインキ、及びプリント配線基板 |
WO2009150983A1 (ja) | 2008-06-12 | 2009-12-17 | 日立化成工業株式会社 | フェノール類ノボラック樹脂の製造方法及びフェノール類ノボラック樹脂を用いたレジンコーテットサンド |
CN111978499A (zh) * | 2020-09-23 | 2020-11-24 | 山东德源环氧科技有限公司 | 一种酚醛树脂的合成工艺 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60260611A (ja) * | 1984-06-08 | 1985-12-23 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 高分子量クレゾ−ルノボラツク樹脂の製造方法 |
JPH04356515A (ja) * | 1991-03-05 | 1992-12-10 | Hitachi Chem Co Ltd | フェノール樹脂の製造方法 |
JPH10316730A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-12-02 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ノボラック型フェノール樹脂の製造方法 |
JP2000264941A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-26 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | フォトレジスト用ノボラック樹脂の製造方法 |
-
2000
- 2000-12-12 JP JP2000377258A patent/JP2002179749A/ja active Pending
-
2001
- 2001-12-11 ZA ZA200110172A patent/ZA200110172B/xx unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60260611A (ja) * | 1984-06-08 | 1985-12-23 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 高分子量クレゾ−ルノボラツク樹脂の製造方法 |
JPH04356515A (ja) * | 1991-03-05 | 1992-12-10 | Hitachi Chem Co Ltd | フェノール樹脂の製造方法 |
JPH10316730A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-12-02 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ノボラック型フェノール樹脂の製造方法 |
JP2000264941A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-26 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | フォトレジスト用ノボラック樹脂の製造方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004020492A1 (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-11 | Asahi Organic Chemicals Industry Co., Ltd. | ノボラック型フェノール樹脂の製造方法 |
US7683155B2 (en) | 2002-08-30 | 2010-03-23 | Asahi Organic Chemicals Industry Col., Ltd. | Process for producing phenolic novolak |
JP2006518004A (ja) * | 2003-02-18 | 2006-08-03 | インドスペク ケミカル コーポレーション | 改質レゾルシノール樹脂、及びその用途 |
JP2008058601A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Dainippon Ink & Chem Inc | アルカリ現像型感光性樹脂組成物、レジストインキ、及びプリント配線基板 |
WO2009150983A1 (ja) | 2008-06-12 | 2009-12-17 | 日立化成工業株式会社 | フェノール類ノボラック樹脂の製造方法及びフェノール類ノボラック樹脂を用いたレジンコーテットサンド |
KR20110028277A (ko) | 2008-06-12 | 2011-03-17 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 페놀류 노볼락 수지의 제조 방법 및 페놀류 노볼락 수지를 이용한 레진코티드샌드 |
CN111978499A (zh) * | 2020-09-23 | 2020-11-24 | 山东德源环氧科技有限公司 | 一种酚醛树脂的合成工艺 |
CN111978499B (zh) * | 2020-09-23 | 2023-03-21 | 山东德源环氧科技有限公司 | 一种酚醛树脂的合成工艺 |
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