JP4862903B2 - 基板処理装置、濾材の再生方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
流体を加熱して乾燥用のガスを得るための乾燥ガス発生部と、
この乾燥ガス発生部で得られた乾燥用のガスに含まれるパーティクルを除去するための濾材と、
この濾材を加熱する濾材加熱部と、
前記濾材を通流した乾燥用のガスを用いて前記乾燥処理を行う処理部と、
前記濾材の再生処理時に、この濾材に付着した付着物の気化物を排出するために当該濾材にパージガスを供給すると共に、当該パージガスの温度調整部を備えたパージガス供給部と、
乾燥処理時には、前記処理部へ供給される乾燥ガスの温度を露点温度以上に維持するために前記濾材を第1の温度に加熱するように前記濾材加熱部を制御し、前記濾材の再生処理時には、濾材に付着した付着物を気化させて除去するために、前記パージガスを介して当該濾材を前記第1の温度よりも高い第2の温度に加熱するように前記温度調整部を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。
(a)前記濾材は、金属製またはセラミック製であること。
(b)前記濾材は濾材収納部に収納され、前記濾材加熱部はこの濾材収納部を加熱するヒーターを含み、前記制御部は、濾材の再生処理時における前記ヒーターの発熱量を乾燥処理時よりも大きくするように制御すること。
(c)前記乾燥ガス発生部は、乾燥用のガスの温度調整を行う温度調整部を備え、前記パージガス供給部の温度調整部は、この乾燥ガス発生部の温度調整部を共用していること。
(d)前記濾材と処理部との間に設けられた排気路と、前記濾材を通過したガスが流れる流路を、前記処理部側と当該排気路側との間で切り替える流路切替部とを備え、前記制御部は、前記濾材の再生処理時には、当該濾材を通過したパージガスの流出先を前記排気路側に切り替えること。
(e)前記乾燥用のガスは有機溶剤の蒸気と不活性ガスとの混合ガスであること。
(f)前記有機溶剤はイソプロピルアルコールであること。
ここでIPA蒸気を発生させる機器の構成は、ハロゲンランプ232とスパイラル管233とを備えた上述の蒸気発生部23の例に限定されるものではなく、例えば液体IPAに窒素ガスをバブリングして発生させたIPAと窒素ガスとの混合気体を加熱することなどによりIPA蒸気を発生させてもよい。
実際に稼動しているウエハ洗浄装置のIPA蒸気発生ユニットにおける使用済みのメタルフィルター31、及び実験用のIPA蒸気発生ユニット内にてIPA蒸気を通流させたメタルフィルター31を各々採取して、各メタルフィルター31に付着している物質を分析した。分析にあたっては、ダイナミックヘッドスペース法式のGC-MS(Gas Chromatography-Mass Spectrometer;Agilent Technology社製6890-5973N)を利用した。
A.実験条件
(参考例) IPA蒸気を通流させていない新品のメタルフィルター31に付着している成分を分析した。
(実施例1) 実際に稼動しているウエハ洗浄装置における使用済みのIPA蒸気発生ユニット内のメタルフィルター31に付着している成分を分析した。
(実施例2) 実験用のIPA蒸気発生ユニット内にてIPA蒸気を約半年程度通流させた後、メタルフィルター31に付着している成分を分析した。
(参考例)の結果を図8(a)、(実施例1)の結果を図8(b)、(実施例2)の結果を図8(c)に各々示す。各図の横軸はガスクロマトグラフのリテンションタイムを示し、縦軸は各リテンションタイムにて検出された物質の存在度(abundance)を示している。
開閉バルブ
W ウエハ
1 ウエハ洗浄装置
11 搬入出部
第1のリフター
116 ストック領域
117 第2のリフター
12 インターフェース部
13 処理部
131 第1の処理ユニット
133 第2の処理ユニット
135 チャック洗浄ユニット
136 搬送アーム
2 IPA蒸気発生ユニット
23 蒸気発生部
3 フィルターユニット
31 メタルフィルター
311 濾材部
4 洗浄・乾燥ユニット
41 乾燥室
412 IPA蒸気供給ノズル
42 洗浄槽
5 制御部
8 FOUP
Claims (10)
- 液体の付着した基板に乾燥用のガスを接触させて、この基板を乾燥させる乾燥処理を行う基板処理装置において、
流体を加熱して乾燥用のガスを得るための乾燥ガス発生部と、
この乾燥ガス発生部で得られた乾燥用のガスに含まれるパーティクルを除去するための濾材と、
この濾材を加熱する濾材加熱部と、
前記濾材を通流した乾燥用のガスを用いて前記乾燥処理を行う処理部と、
前記濾材の再生処理時に、この濾材に付着した付着物の気化物を排出するために当該濾材にパージガスを供給すると共に、当該パージガスの温度調整部を備えたパージガス供給部と、
乾燥処理時には、前記処理部へ供給される乾燥ガスの温度を露点温度以上に維持するために前記濾材を第1の温度に加熱するように前記濾材加熱部を制御し、前記濾材の再生処理時には、濾材に付着した付着物を気化させて除去するために、前記パージガスを介して当該濾材を前記第1の温度よりも高い第2の温度に加熱するように前記温度調整部を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記濾材は、金属製またはセラミック製であることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記濾材は濾材収納部に収納され、
前記濾材加熱部はこの濾材収納部を加熱するヒーターを含み、
前記制御部は、濾材の再生処理時における前記ヒーターの発熱量を乾燥処理時よりも大きくするように制御することを特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装置。 - 前記乾燥ガス発生部は、乾燥用のガスの温度調整を行う温度調整部を備え、前記パージガス供給部の温度調整部は、この乾燥ガス発生部の温度調整部を共用していることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板処理装置。
- 前記濾材と処理部との間に設けられた排気路と、前記濾材を通過したガスが流れる流路を、前記処理部側と当該排気路側との間で切り替える流路切替部とを備え、前記制御部は、前記濾材の再生処理時には、当該濾材を通過したパージガスの流出先を前記排気路側に切り替えることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の基板処理装置。
- 前記乾燥用のガスは有機溶剤の蒸気と不活性ガスとの混合ガスであることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の基板処理装置。
- 前記有機溶剤はイソプロピルアルコールであることを特徴とする請求項6に記載の基板処理装置。
- 液体の付着した基板に有機物を含む乾燥用のガスを接触させて、この基板を乾燥させる乾燥処理を行う基板処理装置に設けられた濾材の再生方法において、
前記有機物を含む流体を加熱して乾燥用のガスを得る工程と、
この工程で得られた乾燥用のガスに含まれるパーティクルを濾材にて除去する工程と、
この濾材を通流した乾燥用のガスを基板の処理部に供給して乾燥処理を行う工程と、
乾燥処理時には、前記処理部へ供給される乾燥ガスの温度を露点温度以上に維持するために前記濾材を第1の温度に加熱する工程と、
前記濾材の再生処理時には、濾材に付着した付着物を気化させるために当該濾材を前記第1の温度よりも高い第2の温度に加熱する工程と、を含み、
前記基板処理装置は、前記濾材の再生処理時に濾材に付着した付着物の気化物を排出するために当該濾材にパージガスを供給する、当該パージガスの温度調整機能を備えたパージガス供給部を備え、前記濾材を第2の温度に加熱する加熱する工程においては、このパージガス供給部から供給されたパージガスを介して前記濾材を加熱することを特徴とする濾材の再生方法。 - 前記濾材は濾材収納部に収納され、この濾材収納部は、当該濾材収納部を加熱するヒーターを備え、前記濾材を第2の温度に加熱する加熱する工程においては、濾材の再生処理時における前記ヒーターの発熱量を乾燥処理時よりも大きくすることを特徴とする請求項8に記載の濾材の再生方法。
- 液体の付着した基板に有機物を含む乾燥用のガスを接触させて、この基板を乾燥させる乾燥処理を行う基板処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項8または9に記載された濾材の再生方法を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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