JP4851710B2 - 付加架橋性シリコーン樹脂組成物、これからなる成形体および前記組成物の使用 - Google Patents

付加架橋性シリコーン樹脂組成物、これからなる成形体および前記組成物の使用 Download PDF

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Description

本発明は付加架橋性シリコーン樹脂組成物に関する。
付加架橋性シロキサンは、例えばRTV−2ゴム、液体ゴム、付加架橋性熱ゴムとしてエラストマーの分野でかなり前から知られている。これらの材料は特徴的にショアA範囲もしくはショアD20未満の範囲の硬化した硬度を有する。
相当する架橋可能な材料はそれぞれ架橋官能基Si−HもしくはSi−ビニルを別々に含有する少なくとも2つの成分からなる組成物である。
硬化したシリコーン樹脂が60より大きいショアD範囲の硬度を有する付加架橋性フェニルシリコーン樹脂組成物は記載されている(特許文献1参照)。しかし長い硬化時間を避けるために、200℃の硬化温度が必要である。従って有機ポリマー材料からなる電子部品または注入型のような温度に敏感な部品と一緒の使用が不可能である。
発光装置、いわゆるLEDの注型のための50〜90の範囲のショアA硬度を有するシリコーン樹脂の使用が公知である(特許文献2参照)。その際90の範囲のショアA硬度は40の範囲のショアD硬度にほぼ相当する。
米国特許(US−A1)第2002/0161140号 欧州特許(EP−A2)第1249873号
本発明の課題は、前記欠点を回避し、従来より低い温度で長い硬化時間なしに硬化することができ、40より大きい範囲のショアD硬度を有する硬化したシリコーン樹脂が得られ、有機ポリマー材料からなる電子部品または注入型のような温度に敏感な部品と一緒に使用することができる、付加架橋性シリコーン樹脂組成物を提供することである。
前記課題は本発明により解決される。
本発明の対象は、
(1)一般式
SiO(4−a−b−c)/2 (I)
(式中、
は基1個当たり6〜16個の炭素原子を有する、一価の芳香族の、置換されたまたは置換されていない炭化水素基を表し、
は基1個当たり2〜10個の炭素原子を有する一価のアルケニル基を表し、
はC〜C18−アルキル基、ヒドロキシ基またはC〜C−アルコキシ基からなる群から選択される一価の基を表し、
a、bおよびcは(シロキサン単位に関して)0、1、2または3であり、但し(シロキサン単位に関して)a+b+cの合計は3以下であり、
a、bおよびcは平均的実験式(I)に関して平均的に
0.3≦a≦1.0、有利に0.4≦a≦0.7、
0.1≦b<0.3、有利に0.1≦b<0.25、
0.5≦c≦1.5、有利に0.9≦c≦1.4であり、
その際a+cの合計は平均的に1.0≦a+c≦2.0、有利に1.4≦a+c≦1.8であり、但し分子1個当たり少なくとも2個のアルケニル基R、少なくとも1個の芳香族基Rおよび少なくとも1個の式RSiO3/2の単位(式中、Rは基R、RまたはRを表す)またはSiOが含まれている)で表されるポリオルガノシロキサン100質量部、
(2)一般式
SiO(4−d−e−f)/2 (II)
(式中、
およびRはこれに関してすでに記載された意味を表し
d、eおよびfは(シロキサン単位に関して)0,1、2および3であり、
但しd+e+fの合計は(シロキサン単位に関して)3以下であり、
d、eおよびfは平均的実験式(II)に関して平均的に
0.3≦d≦1.0、有利に0.4≦d≦0.7、
0.1≦e<0.4、有利に0.1≦e≦0.25、
0.5≦f≦1.5、有利に0.9≦f≦1.4であり、
その際d+fの合計は平均的に1.0≦d+f≦2.0、有利に1.4≦d+f≦1.8であり、ただし分子1個当たり少なくとも2個のSi結合した水素原子および少なくとも1個の芳香族基Rが含まれている)で表されるポリオルガノシロキサン50〜200質量部、有利に80〜150質量部、または
成分(1)および(2)の代わりに
(3)一般式
SiO(4−g−h−i−k)/2 (III)
(式中、
、RおよびRはこれに関してすでに記載されたものを表し、
g、h、iおよびkは(シロキサン単位に関して)0、1,2および3であり、
ただしg+h+i+kの合計は(シロキサン単位に関して)3以下であり、
g、h、iおよびkは平均的実験式(III)に関して平均的に
0.3≦g≦1.0,有利に0.4≦g≦0.7、
0.1≦h<0.3,有利に0.1≦h≦0.2、
0.5≦i≦1.5,有利に0.9≦i≦1.4、
0.1≦k<0.4,有利に0.1≦k≦0.2であり、
その際g+iの合計は平均的に
1.0≦g+i≦2.0、有利に1.4≦g+i≦1.8であり、
hとkの比は平均的に
0.7≦h/k≦1.3、有利に0.8≦h/k≦1.1であり、
ただし分子1個当たり少なくとも2個のアルケニル基R、少なくとも2個のSi結合した水素原子、少なくとも1個の芳香族基Rおよび式RSiO3/2の少なくとも1個の単位(式中、Rは基R,RまたはRを表す)またはSiOが含まれている)で表されるポリオルガノシロキサン200質量部、
(4)一般式
SiO(4−l−m−n)/2 (IV)
(式中、
、RおよびRはこれに関して記載されたものを表し、
l、mおよびnは(シロキサン単位に関して)0、1、2および3であり、
ただしl+m+nの合計は(シロキサン単位に関して)3以下であり、
l、mおよびnは平均的実験式(IV)に関して平均的に
0≦l≦0.5,有利に0≦l≦0.3,
0.6≦m≦1.0,有利に0.8≦m≦1.0、
0.5≦n≦2、有利に0.8≦n≦1.5であり、
その際l+m+nの合計は平均的に
1.0≦l+m+n≦2.5,有利に1.5≦l+m+n≦2.1であり、
ただし分子1個当たり少なくとも2個のアルケニル基Rが含まれている)で表されるアルケニル富化ポリオルガノシロキサン1〜100質量部、有利に10〜30質量部、
および付加的にまたは成分(4)の代わりに
(5)一般式
SiO(4−o−p−q)/2 (V)
(式中、
およびRはこれに関してすでに記載されたものを表し、
o、pおよびqは(シロキサン単位に関して)0,1、2および3を表し、
ただしo+p+qの合計は(シロキサン単位に関して)3以下であり、
o、pおよびqは平均的実験式(V)に関して平均的に
0≦o≦0.5,有利に0≦o≦0.3、
0.6≦p≦1.0,有利に0.8≦p≦1.0、
0.5≦q≦2、有利に0.8≦q≦1.2であり、
その際o+p+qの合計は平均的に
1.0≦o+p+q≦2.5、有利に1.5≦o+p+q≦2.1であり、
ただし分子1個当たり少なくとも2個のSi結合した水素原子が含まれている)で表される水素富化ポリオルガノシロキサン1〜100質量部、有利に5〜30質量部、
および
(6)脂肪族二重結合へのSi結合した水素の付加を促進する十分な量の触媒
を含有する付加架橋性シリコーン樹脂組成物である。
成分(1)および(2)または(1)および(2)の代わりに成分(3)は指数bまたはhにより表現されるアルケニル基の低い密度または指数eまたはkにより表現されるSi結合した水素原子の低い密度を有するベースポリマーである。これに対して成分(4)は指数mに関する明らかに高い値により表現されるアルケニル基が多く、指数は最大m=1であってもよく、すなわちそれぞれのSi原子に最も多くアルケニル基が結合していてもよい。成分(5)は指数pに関する明らかに高い値により表現されるSi結合した水素原子が多く、指数は最大p=1であってもよく、すなわちそれぞれのSi原子に最も多く水素原子が結合していてもよい。
基Rの例はアリール基、例えばフェニル基、ナフチル基、アントリル基およびフェナントリル基、アルカリール基、例えばo−、m−、p−トリル基、キシリル基およびエチルフェニル基およびアラルキル基、例えばベンジル基、α−およびβ−フェニルエチル基である。有利にフェニル基およびナフチル基であり、その際フェニル基が特に有利である。
アルケニル基Rの例はビニル基、5−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、1−プロペニル基、アリル基、3−ブテニル基および4−ペンチル基であり、その際ビニル基が有利である。
基Rの例はアルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、1−n−ブチル基、2−n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル基、ヘキシル基、例えばn−ヘキシル基、ヘプチル基、例えばn−ヘプチル基、オクチル基、例えばn−オクチル基およびイソオクチル基、例えば2,2,4−トリメチルペンチル基、ノニル基、例えばn−ノニル基、デシル基、例えばn−デシル基、ドデシル基、例えばn−ドデシル基、およびオクタデシル基、例えばn−オクタデシル基、およびシクロアルキル基、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基およびメチルシクロヘキシル基であり、その際C〜C−アルキル基が有利であり、メチル基が特に有利である。
アルコキシ基Rの例はメトキシ基およびエトキシ基であり、その際エトキシ基が有利である。有利な基Rはメチル基、ヒドロキシ基、メトキシ基およびエトキシ基である。
ベースポリマー(1)は式(I)のシロキサン単位を有するポリオルガノシロキサンであり、式中、シロキサン単位に関して指数a、bおよびcは0、1、2または3であり、ただしシロキサン単位1個当たりa+b+cの合計は3以下でなければならない。指数a、bおよびcに関する平均値はポリオルガノシロキサン(1)のすべてのシロキサン単位に関する平均を表し、これから平均的実験式(I)が得られる。ベースポリマー(1)および指数a、bおよびcについて述べたことは指数d、eおよびfを有するベースポリマー(2)、指数g、h、iおよびkを有するベースポリマー(3)、指数l、mおよびnを有するアルケニル富化ポリオルガノシロキサン(4)および指数o、pおよびqを有する水素富化ポリオルガノシロキサンに該当する。
ベースポリマー(1)はRSiO3/2単位(T単位)有利に0〜80モル%、特に30〜60モル%を含有し、式中、Rはこれに関してすでに記載されたものを表し、有利にR(有利にフェニル基)またはR(有利にメチル基)である。ベースポリマー(1)はR SiO1/2単位(M単位)およびSiO単位(Q単位)からなるMQ樹脂を含有してもよい。ベースポリマーはD単位、例えばRSiO単位、およびR SiO1/2単位およびR SiO1/2を含有してもよく、式中、Rは有利にフェニル基であり、Rは有利にメチル基である。
ポリオルガノシロキサン(1)は有利に25℃で200〜10000mPa・s、特に25℃で700〜3000mPa・sの平均的粘度を有する。
ポリオルガノシロキサン(2)は有利に25℃で200〜10000mPa・s、特に25℃で700〜3000mPa・sの平均的粘度を有する。
有利にベースポリマーとして成分(1)および(2)の代わりに成分(3)を使用する。ベースポリマー(3)は有利に以下のシロキサン単位を含有する。
Q単位:SiO単位、有利に0〜60モル%、特に0モル%、
T単位:RSiO3/2単位、有利に0〜80モル%、特に30〜80モル%、式中、Rは基R(有利にフェニル基)またはR(有利にメチル基)を表す、
D単位:R′SiO単位、有利に10〜80モル%、特に10〜50モル%、式中、R′は基R(有利にビニル基)、基R(有利にメチル基、ヒドロキシ基またはアルコキシ基)または水素原子を表す、特に有利にMeViSiO単位およびMeHSiO単位(Me=メチル基、Vi=ビニル基)それぞれ10〜20モル%、および
M単位:R′SiO1/2単位、有利に5〜40モル%、式中、R′は基R(有利にビニル基)、基R(有利にメチル基、ヒドロキシ基またはアルコキシ基)または水素原子を表す。
ポリオルガノシロキサン(3)は有利に25℃で200〜10000mPa・s、特に25℃で700〜3000mPa・sの平均的粘度を有する。
ポリオルガノシロキサン(3)は米国特許第4260726号に記載されている。
アルケニル富化成分(4)は有利にアルケニル基が有利にD単位、例えばRSiO単位中に存在し、式中アルケニル基Rが有利にビニル基であり、基Rが有利にメチル基である線状ポリオルガノシロキサンである。
アルケニル富化ポリオルガノシロキサン(4)の有利な例は以下の一般式
SiO(RSiO)(R SiO)SiR (VI)
(式中、
はこれに関してすでに記載されたものを表し、
は1〜18個の炭素原子を有するアルキル基を表し、
は基Rまたはヒドロキシ基またはC〜C−アルコキシ基を表し、
xは3〜500の整数であり、
yは0または1〜250の整数、有利に0である)のものである。
アルケニル富化ポリオルガノシロキサン(4)は有利に分子1個当たり5〜50個のアルケニル基R、有利にビニル基を含有する。
ポリオルガノシロキサン(4)は有利に25℃で5〜200mPa・s、特に25℃で10〜50mPa・sの平均的粘度を有する。
水素富化成分(5)は有利にSi結合水素原子が有利にD単位、例えばHSiO単位中に存在し、式中、基Rが有利にメチル基である線状または環状ポリオルガノシロキサンである。
水素富化成分(5)として一般式
(HRSiO) (VII)および
3−rSiO(HRSiO)(R SiO)SiR 3−r (VI)
(式中、
はこれに関してすでに記載されたものを表し、
zは3〜7の整数であり、
rは0または1であり、
sは3〜50の整数であり、
tは0または1〜20の整数である)のポリオルガノシロキサンが有利である。
水素富化ポリオルガノシロキサン(5)は有利に分子1個当たり4〜50個の水素原子を含有する。
ポリオルガノシロキサン(5)は有利に25℃で2〜500mPa・s、特に25℃で5〜20mPa・sの平均的粘度を有する。
本発明の組成物において有利に成分(4)および(5)を一緒に使用する。
ベースポリマー(2)または(3)および水素富化ポリオルガノシロキサン(5)中のSi結合水素はベースポリマー(1)または(3)およびアルケニル富化ポリオルガノシロキサン(4)中のアルケニル基R1モル当たりSi結合水素、有利に0.5〜1.2グラム原子、特に0.6〜1.1グラム原子の量で使用する。
脂肪族二重結合へのSi結合水素の付加を促進する触媒として本発明の組成物においても従来脂肪族二重結合へのSi結合水素の付加を促進するために使用できたと同じ触媒を使用することができる。触媒は有利に白金金属の群からの金属または白金金属の群からの化合物または錯体である。これらの触媒の例は金属で微粒子の白金であり、この白金は二酸化珪素、酸化アルミニウム又は活性炭のような担体上に存在してもよく、または白金ハロゲン化物のような白金の化合物または錯体、例えばPtCl,HPtCl・6HO、NaPtCl・4HO、白金−オレフィン錯体、白金−アルコール錯体、白金−アルコラート錯体、白金−エーテル錯体、白金−アルデヒド錯体、白金−ケトン錯体であり、HPtCl・6HOおよびシクロヘキサノンの反応生成物を含み、白金−ビニルシロキサン錯体、例えば検出可能な無機結合ハロゲンを含有するかまたは含有しない白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体、ビス−(γ−ピコリン)白金二塩化物、トリメチレンジピリジン白金二塩化物、ジシクロペンタジエン白金二塩化物、ジメチルスルホキシドチレン白金(II)二塩化物、シクロオクタジエン白金二塩化物、ノルボルナジエン白金二塩化物、γ−ピコリン−白金二塩化物、シクロペンタジエン白金二塩化物、および四塩化白金とオレフィンおよび第一級アミンまたは第二級アミンまたは第一級アミンおよび第二級アミンとの反応生成物、例えば1−オクテンに溶解した四塩化白金と第二級ブチルアミンの反応生成物またはアンモニウム白金錯体である。
触媒は本発明の組成物において、それぞれ元素の白金として計算して、ポリオルガノシロキサン(1)、(2)もしくは(3)、(4)および(5)の全質量に対して有利に20〜2000質量ppm(100万質量部当たりの質量部)、有利に50〜500質量ppmの量で使用する。
成分(1)、(2)もしくは(3)および(4)および/または(5)からなる本発明の組成物は有利に25℃で200〜10000mPa・s、特に25℃で200〜3000mPa・s、特に有利に25℃で700〜2000mPa・sの平均的粘度を有する。
本発明の組成物は抑制剤を含有することができる。室温で脂肪族二重結合へのSi結合水素の付加を遅らせる物質、いわゆる抑制剤として、本発明の組成物においても同じ目的に従来使用できたと同じ抑制剤を使用できる。
抑制剤の例は1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ベンゾトリアゾール、ジアルキルホルムアミド、アルキルチオ尿素、チウラムモノスルフィドおよびジスルフィド、メチルエチルケトキシム、1012ミリバール(絶対圧力)で最低25℃の沸点および少なくとも1個の脂肪族三重結合を有する有機化合物または有機珪素化合物、例えば1−エチニルシクロヘキサン−1−オール、2−メチル−3−ブチン−2−オール、3−メチル−1−ペンチン−3−オール、2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール、および3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3,7−ジメチル−オクト−1−イン−6−エン−3−オール、ジアリルマレイネートおよび酢酸ビニルの混合物、マレイン酸モノエステルおよび商標名Dehydrolinalool、BASF社で入手できる、式:HC=C−C(CH)(OH)−CH−CH−CH=C(CHの化合物のような抑制剤である。
抑制剤は本発明の組成物の全質量に対して有利に0.001〜0.5質量%、特に0.01〜0.1質量%の量で使用する。
本発明の組成物に使用できる他の成分の例は強化充填剤および非強化充填剤のような充填剤、可塑剤、付着助剤、可溶性染料、無機および有機顔料、蛍光顔料、溶剤、殺菌剤、香料、分散助剤、レオロジー添加剤、腐食防止剤、酸化防止剤、遮光剤、熱安定剤、防炎剤、電気特性を調節する物質、および熱伝導性を改良する物質である。
成分(1)および(2)もしくは(3)(成分(1)および(2)の代わりに)および(4)および/または(5)および(6)および場合により他の成分を混合する際の順序は重要でないが、しかし実際には成分(6)、すなわち触媒を他の成分の混合物に最後に添加することが有利である。
本発明の組成物の架橋は有利に70〜170℃、特に100〜150℃で行う。加熱による架橋のエネルギー源として有利に炉、例えば空気循環乾燥炉、加熱路、熱ローラー、熱板または赤外線領域の熱放射器を使用する。架橋時間は有利に0.5〜5時間、有利に1〜3時間である。
本発明の対象は更に本発明による組成物の架橋により製造される成形体である。
前記成形体は他の添加物を混合しない場合はガラスのように透明であり、1.47〜1.60の屈折率を有する。
本発明の組成物は、例えば充填剤または可塑剤のような他の添加物を使用せずに完全に硬化した後に有利に40より大きい、特に40〜70の範囲、特に有利に50〜60の範囲のショアD硬度を有する。ショアD硬度はDIN(ドイツ工業規格)第53505号(もしくはASTMD2240またはISO868)により決定される。この規格においてショアDスケールはショアAによる硬度に対比している。
本発明の組成物は従来より低い硬化温度で40より大きいショアDの最終硬度を有するシリコーン樹脂が得られ、このために長い硬化時間を甘受しなくてよいという利点を有する。
特にLEDのような電気部品または電子部品の注型材料および埋め込み材料の場合に低い硬化温度が必要である。更に本発明の組成物のかなり低い粘度は他の材料、例えばガラス織物、紙、ガラス−雲母リボン等と結合して、例えばモーター、トランスおよびケーブルにおける電気絶縁系の含浸用樹脂としての使用を可能にする。
本発明のシリコーン樹脂組成物は、例えば電気絶縁材の分野に使用されるような、多孔質物質(例えばガラス織物、雲母)の含浸のために、注型材料および埋め込み材料のような成形体の製造のために適している。本発明の組成物は公知のシリコーン樹脂に比べてより温和な硬化条件により特に温度に敏感な部品(例えば電子部品、注入型)と一緒に処理する場合に利点を有する。
低い粘度および気泡のない硬化は本発明の組成物を、例えばトラクションモーターに使用されるような大きい電気的絶縁系の含浸にきわめて適したものにする。硬化した樹脂の高い熱安定性は200℃より高い作業温度での使用を可能にする。
本発明の組成物はLED(発光ダイオード)の注入に特に適している。熱安定性およびUV安定性により硬化した材料は短い波長(380〜450nm)の光もしくは白色光を放射するHB−LED(ハイブライトネスLED)およびLEDにおいて40000時間の作業時間の後に光透過性の低下を示さない。チップの被覆を必要とするLEDの全部の構造に本発明の材料を使用することができる。
100〜150℃の温和な硬化条件はLEDの安価な速い製造を可能にする。更に低い硬化温度により温度変化の負荷により亀裂を生じることがある熱応力を減少する。
例1
組成(PhSiO3/20.43(MeViSiO)0.14(MeHSiO)0.18(MeSiO1/20.25を有するポリシロキサン100部を、組成(MeViSiO)0.9(MeSiOH)0.1を有するポリシロキサン20部、組成(MeHSiO)を有するポリシロキサン6部およびヒドロシリル化触媒として白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体、白金に対して0.04部と混合する。25℃で520cStの粘度を有する混合物が得られ、混合物を型内で150℃で1時間経過して硬化する。その際ショアD64の硬度を有するガラスのように透明な成形体が生じる。
比較例1
組成(PhSiO3/20.43(MeViSiO)0.14(MeHSiO)0.18(MeSiO1/20.25を有するポリシロキサン100部を、ヒドロシリル化触媒として白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体、白金に対して0.04部と混合する。25℃で1000cStの粘度を有する混合物が得られ、混合物を型内で150℃で1時間経過して硬化する。しかしその際ゲル状材料のみが得られ、この材料は離型できず、測定可能な表面硬度を有しない。
例2
組成(PhSiO3/20.43(MeViSiO)0.14(MeHSiO)0.18(MeSiO1/20.25を有するポリシロキサン100部を、組成(MeViSiO)0.9(MeSiOH)0.1を有するポリシロキサン30部、組成(MeHSiO)を有するポリシロキサン6部およびヒドロシリル化触媒として白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体、白金に対して0.04部と混合する。25℃で450cStの粘度を有する混合物が得られ、混合物を型内で150℃で1時間経過して硬化する。その際ショアD52の硬度を有するガラスのように透明な成形体が生じる。
例3
組成(PhSiO3/20.43(MeViSiO)0.14(MeHSiO)0.18(MeSiO1/20.25を有するポリシロキサン100部を、組成(MeViSiO)0.9(MeSiOH)0.1を有するポリシロキサン36部、組成(MeHSiO)を有するポリシロキサン6部およびヒドロシリル化触媒として白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体、白金に対して0.04部と混合する。25℃で390cStの粘度を有する混合物が得られ、混合物を型内で150℃で1時間経過して硬化する。その際ショアD40の硬度を有するガラスのように透明な成形体が生じる。
例4
組成(PhSiO3/20.43(MeViSiO)0.14(MeHSiO)0.18(MeSiO1/20.25を有するポリシロキサン100部を、組成(MeViSiO)0.9(MeSiOH)0.1を有するポリシロキサン40部、組成(MeHSiO)を有するポリシロキサン46部およびヒドロシリル化触媒として白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体、白金に対して0.02部と混合する。混合物を5分間で100℃に加熱し、その際ショアD55の硬度を有するガラスのように透明な成形体が生じる。
例5
組成(PhSiO3/20.43(MeViSiO)0.14(MeHSiO)0.18(MeSiO1/20.25を有するポリシロキサン100部を、組成(MeViSiO)0.9(MeSiOH)0.1を有するポリシロキサン24部、組成(MeHSiO)を有するポリシロキサン24部およびヒドロシリル化触媒として白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体、白金に対して0.04部と混合する。混合物を5分間で120℃に加熱し、その際ショアD40〜45の硬度を有するガラスのように透明な成形体が生じる。

Claims (6)

  1. 3)一般式
    1 g2 h3 ikSiO(4-g-h-i-k)/2 (III)
    (式中、
    1 は基1個当たり6〜16個の炭素原子を有する、一価の芳香族の、置換されたまたは置換されていない炭化水素基を表し、
    2 は基1個当たり2〜10個の炭素原子を有する一価のアルケニル基を表し、
    3 はC 1 〜C 18 −アルキル基、ヒドロキシ基またはC 1 〜C 6 −アルコキシ基からなる群から選択される一価の基を表し
    g+h+i+kの合計は(シロキサン単位に関して)3以下であり、
    g、h、iおよびkは平均的実験式(III)に関して平均的に
    0.3≦g≦1.0、
    0.1≦h<0.3、
    0.5≦i≦1.5、
    0.1≦k<0.4であり、
    その際g+iの合計は平均的に
    1.0≦g+i≦2.0であり、
    hとkの比は平均的に
    0.7≦h/k≦1.3であり、
    ただし分子1個当たり少なくとも2個のアルケニル基R2、少なくとも2個のSi結合した水素原子、少なくとも1個の芳香族基R1および少なくとも1個の式RSiO3/2の単位(式中、Rは基R1,R2またはR3を表す)またはSiO2が含まれている)で表されるポリオルガノシロキサン200質量部、
    (4)一般式
    1 l2 m3 nSiO(4-l-m-n)/2 (IV)
    (式中、
    1、R2およびR3はこれに関して記載されたものを表し、
    l+m+nの合計は(シロキサン単位に関して)3以下であり、
    l、mおよびnは平均的実験式(IV)に関して平均的に
    0≦l≦0.5,
    0.8≦m≦1.0、
    0.5≦n≦2であり、
    その際l+m+nの合計は平均的に
    1.0≦l+m+n≦2.5であり、
    ただし分子1個当たり少なくとも2個のアルケニル基Rが含まれている)で表されるアルケニル富化ポリオルガノシロキサン1〜100質量部、
    および付加的に
    (5)一般式
    1 op3 qSiO(4-o-p-q)/2 (V)
    (式中、
    1およびR3はこれに関してすでに記載されたものを表し、
    o+p+qの合計は(シロキサン単位に関して)3以下であり、
    o、pおよびqは平均的実験式(V)に関して平均的に
    0≦o≦0.5、
    0.8≦p≦1.0、
    0.5≦q≦2であり、
    その際o+p+qの合計は平均的に
    1.0≦o+p+q≦2.5であり、
    ただし分子1個当たり少なくとも2個のSi結合した水素原子が含まれている)で表される水素富化ポリオルガノシロキサン1〜100質量部、
    および
    (6)脂肪族二重結合へのSi結合した水素の付加を促進する十分な量の触媒
    を含有する、40より大きいショアD硬度を有する成形体を製造するための付加架橋性シリコーン樹脂組成物。
  2. がフェニル基であり、Rがビニル基である請求項1記載の付加架橋性シリコーン樹脂組成物。
  3. 式(III)においてhが平均的に0.1≦h≦0.2であり、kが平均的に0.1≦k≦0.2であり、g+iの合計が平均的に1.4≦g+i≦1.8であり、hとkの比が平均的に0.8≦h/k≦1.1である請求項1又は2記載の付加架橋性シリコーン樹脂組成物。
  4. 請求項1からまでのいずれか1項記載の組成物の架橋により製造される成形体。
  5. 電気部品または電子部品の注型材料および埋め込み材料としての請求項1からまでのいずれか1項記載の組成物の使用。
  6. LED(発光装置)の注型材料および埋め込み材料としての請求項1からまでのいずれか1項記載の組成物の使用。
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