JP4848502B2 - 配線およびその製造方法ならびにそれらを用いた電子部品と電子機器 - Google Patents
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さらに、本発明に関してその要旨を説明する。
また、反応性官能基が熱反応性または光反応性、あるいは、ラジカル反応性またはイオン反応性官能基であるので、ペーストを熱固化あるいは、光硬化する上で都合がよい。
さらにまた、表面に共有結合した有機薄膜を単分子膜で構成しておくと、配線の導電性を向上する上で都合がよい。
その後、塩素系溶媒を添加して撹拌洗浄する(本実施例では、クロロホルムを用いた。)と、表面に反応性官能基、例えばエポキシ基あるいは、アミノ基を有する化学吸着単分子膜で被われた銀微粒子をそれぞれ作製できた。
なお、洗浄せずに空気中に取り出すと、反応性はほぼ変わらないが、溶媒が蒸発し銀微粒子表面に残った化学吸着剤が銀微粒子表面で空気中の水分と反応して、銀微粒子表面に前記化学吸着剤よりなる極薄のポリマー膜が形成された銀微粒子が得られた。
(1) (CH2OCH)CH2O(CH2)7Si(OCH3)3
(2) (CH2OCH)CH2O(CH2)11Si(OCH3)3
(3) (CH2CHOCH(CH2)2)CH(CH2)2Si(OCH3)3
(4) (CH2CHOCH(CH2)2)CH(CH2)4Si(OCH3)3
(5) (CH2CHOCH(CH2)2)CH(CH2)6Si(OCH3)3
(6) (CH 2 OCH)CH2O(CH2)7Si(OC2H5)3
(7) (CH2OCH)CH2O(CH2)11Si(OC2H5)3
(8) (CH2CHOCH(CH2)2)CH(CH2)2Si(OC2H5)3
(9) (CH2CHOCH(CH2)2)CH (CH2)4Si(OC2H5)3
(10) (CH2CHOCH(CH2)2)CH(CH2)6Si(OC2H5)3
(11) H2N(CH2)5Si(OCH3)3
(12) H2N(CH2)7Si(OCH3)3
(13) H2N(CH2)9Si(OCH3)3
(14) H2N(CH2)5Si(OC2H5)3
(15) H2N(CH2)7Si(OC2H5)3
(16) H2N(CH2)9Si(OC2H5)3
ここで、(CH2OCH)−基は、下記式(化6)で表される官能基を表し、(CH2CHOCH(CH2)2)CH−基は、下記式(化7)で表される官能基を表す。
(22) CH≡C−C≡C(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15SiCl3
(23) CH≡C−C≡C(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3
(24) CH3(CH2)3C≡C−C≡C(CH2)15SiCl3
(25) CH3(CH2)3C≡C−C≡C(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15SiCl3
(26) CH3(CH2)3C≡C−C≡C(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3
(27) (C6H5) (CH)2CO(C6H4)O(CH2)6OSi(OCH3)3
(28) (C6H5) (CH)2CO(C6H4)O(CH2)8OSi(OC2H5)3
(29) (C6H5) CO(CH)2(C6H4)O(CH2)6OSi(OCH3)3
ここで、(C6H5) (CH)2CO(C6H4) −および(C6H5) CO(CH)2(C6H4)−はカルコニル基を表す。
2 水酸基
3 エポキシ基を含む単分子膜
4 アミノ基を含む単分子膜
5 エポキシ基を含む単分子膜で被被された銀微粒子
6 アミノ基を含む単分子膜で被被された銀微粒子
11 基材
12 エポキシ基を含む単分子膜
13 電極配線
Claims (7)
- エポキシ基、イミノ基、およびカルコニル基からなる群より選択される第1の反応性官能基を一端に含み、他端でSi原子を介して表面に共有結合した第1の反応性有機薄膜で被われた第1の反応性金属微粒子と、前記第1の反応性官能基が、エポキシ、イミノ基、カルコニル基である場合、それぞれ、イミノ基、エポキシ基、およびカルコニル基である第2の反応性官能基を一端に含み、他端でSi原子を介して表面に共有結合した第2の反応性有機薄膜で被われた第2の反応性金属微粒子が混合され、前記第1の反応性官能基と前記第2の反応性官能基との反応により形成された共有結合を介して結合し、硬化成形されていることを特徴とする配線。
- 表面に共有結合した前記第1および第2の有機薄膜が単分子膜で構成されていることを特徴とする請求項1記載の配線。
- エポキシ基、イミノ基、およびカルコニル基からなる群より選択され、前記第1および第2の反応性官能基の一方または双方と反応する第3の反応性官能基を一端に含み、他端でSi原子を介して表面に共有結合した第3の反応性有機薄膜で被われた基材の表面に、混合された前記第1および第2の反応性金属微粒子の一方または双方が、前記第1および第2の反応性官能基の一方または双方と前記第3の反応性官能基との反応により形成された共有結合を介して結合し、硬化成形されていることを特徴とする請求項1または2記載の配線。
- 少なくとも、エポキシ基、イミノ基、およびカルコニル基からなる群より選択される第1の反応性官能基を含む第1のアルコキシシラン化合物とシラノール縮合触媒と非水系の有機溶媒を混合して作成した化学吸着液中に金属微粒子を分散させてアルコキシシラン化合物と金属微粒子表面を反応させ、一端に前記第1の反応性官能基を含み、他端でSi原子を介して表面に共有結合した第1の反応性有機薄膜で被われた第1の反応性金属微粒子を製造する工程と、
少なくとも、前記第1の反応性官能基が、エポキシ、イミノ基、カルコニル基である場合、それぞれ、イミノ基、エポキシ基、およびカルコニル基である第2の反応性官能基を含む第2のアルコキシシラン化合物とシラノール縮合触媒と非水系の有機溶媒を混合して作成した化学吸着液中に金属微粒子を分散させてアルコキシシラン化合物と金属微粒子表面を反応させ、一端に前記第2の反応性官能基を含み、他端でSi原子を介して表面に共有結合した第2の反応性有機薄膜で被われた第2の反応性金属微粒子を製造する工程と、
前記第1の反応性金属微粒子と、前記第2の反応性金属微粒子とを溶媒と混合してペースト化する工程と、
前記ペーストを基材表面に塗布し、前記第1および第2の反応性金属微粒子の塗膜を形成する工程と、
前記第1および第2の反応性官能基を反応させ、前記塗膜を硬化させる工程とを含むことを特徴とする配線の製造方法。 - あらかじめ、前記ペーストを塗布前の基材表面に、エポキシ基、イミノ基、およびカルコニル基からなる群より選択され、前記第1および第2の反応性官能基の一方または双方と反応する第3の反応性官能基を一端に含み、他端でSi原子を介して表面に共有結合した第3の反応性有機薄膜を結合形成しておくことを特徴とする請求項4記載の配線の製造方法。
- 請求項1から3のいずれか1項記載の配線のいずれか一方または双方を用いた電子部品。
- 請求項1から3のいずれか1項記載の配線のいずれか一方または双方を用いた電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006039271A JP4848502B2 (ja) | 2006-02-16 | 2006-02-16 | 配線およびその製造方法ならびにそれらを用いた電子部品と電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007220463A JP2007220463A (ja) | 2007-08-30 |
JP4848502B2 true JP4848502B2 (ja) | 2011-12-28 |
Family
ID=38497511
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006039271A Active JP4848502B2 (ja) | 2006-02-16 | 2006-02-16 | 配線およびその製造方法ならびにそれらを用いた電子部品と電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4848502B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5082057B2 (ja) * | 2007-07-31 | 2012-11-28 | 国立大学法人 香川大学 | 導電性ペーストとその製造方法、配線とその製造方法、並びにそれらを用いた電子部品及び電子機器 |
US8623500B2 (en) | 2007-08-16 | 2014-01-07 | Empire Technology Development Llc | Conductive paste and method for manufacturing the same, wiring using the conductive paste and method for manufacturing the same |
US8163205B2 (en) * | 2008-08-12 | 2012-04-24 | The Boeing Company | Durable transparent conductors on polymeric substrates |
JP5519956B2 (ja) * | 2009-05-20 | 2014-06-11 | 株式会社Nbcメッシュテック | 導電性部材及びその製造方法 |
JP5584877B2 (ja) * | 2009-10-29 | 2014-09-10 | 小川 一文 | 微粒子ペーストとその製造方法およびそれを用いた微粒子膜とその製造方法とそれらを用いた太陽電池、光熱センサー、tftアレイ、タッチパネル |
DE102019107633A1 (de) * | 2019-03-25 | 2020-10-29 | Sphera Technology Gmbh | Mehrkomponentensystem und Verfahren zur Herstellung eines Mehrkomponentensystems |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2638911B2 (ja) * | 1988-04-11 | 1997-08-06 | 東レ株式会社 | 透明導電性被膜 |
JP3130193B2 (ja) * | 1993-10-06 | 2001-01-31 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | シリコーンゴム用銀粉末、その製造方法、およびシリコーンゴム組成物 |
JPH08259847A (ja) * | 1995-03-17 | 1996-10-08 | Daiken Kagaku Kogyo Kk | 被覆無機粉体およびその製造方法 |
JP3597507B2 (ja) * | 2001-01-24 | 2004-12-08 | 松下電器産業株式会社 | 微粒子配列体とその製造方法及びこれを用いたデバイス |
-
2006
- 2006-02-16 JP JP2006039271A patent/JP4848502B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007220463A (ja) | 2007-08-30 |
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A621 | Written request for application examination |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110206 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
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|
A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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