JP4848273B2 - 感光性重合体の印刷版をディジタル的に処理するための高反射性基板 - Google Patents
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Description
ル光源を用い画像に従って露光させた場合、良好な解像度を保持できることが見出だされた。化学放射線の光子は反射層によって吸収されずに反射されて光重合体の中へ戻され、ここで印刷要素の硬化速度を増加させる。
本発明においては、高度の反射性をもった基板を使用すると、感光性の凸版印刷要素の画像生成速度を著しく増加させ得ると同時に、化学放射線のディジタル光源を用いて画像に従って露光した場合の解像力を良好に保持し得ることが見出だされた。化学放射線の光子は反射層に吸収されずに反射されて感光性の層の中に戻り、この中で印刷要素の硬化速度を増加させる。
ポリウレタン水性分散物(Zeneca Resins Inc)、25.00部のQW18−1 ポリウレタン樹脂(K.J.Quinn & Co)、0.50部のSilwet L−7600 ポリジメチルシロキサン(Osi Specialties Inc)、0.25部のSilquest A−187 シラン(Osi Specialties Inc)、7.75部の脱イオン水、および0.50部のNopco DSX−1550(Henkel Corp)を加え15分間混合する。16.00部のBiFlair 83S ビスマス顔料(EM Industries)を加え、さらに15分間混合した。
Nの水酸化ナトリウム水溶液および脱イオン水により予備処理し、次いで高温の空気中で乾燥した。この洗浄した鋼にロール被覆法で下塗り剤組成物を湿った状態の厚さが25〜40μになるまで被覆した。このシートを400°Fで75秒間乾燥した。被覆した基板の平均反射率(%)は、ISR−260積分用球体を装着したShimadzu UV−2102 PC UV/Vis分光光度計で測定して340〜390nmの範囲の波長に亙り66%であった。
300 アルゴンイオン紫外線レーザー(Coherent Inc)を用い、ハーフトーンのスクリーン1インチ当たり100本のライン上に3%のハイライトのドットが保持されるのに必要な露光レベルにおいて版に対し画像に従って露光を行った。画像生成ビームは約25μの版表面の表面の所で1/e2のスポットの直径をもち、全角度のビームの発散は約10ミリ・ラジアンであった。
UV/Vis分光光度計で測定して340〜390nmの範囲の波長に亙り73%であった。
下塗り剤の混合: 実施例3に示したのと同じ下塗り剤および方法を用いた。
340〜390nm 100ライン/インチスクリーンに
における平均反射率 おいて3%ドットを保持する
(%) ための露光量(mj/cm2)
実施例1 66 42
実施例2 73 35
実施例3 75 35
実施例4 34 70
Claims (28)
- ディジタル的に画像を生成し得る凸版印刷要素において、
a)支持体、
b)支持体の反射層であって、アルミニウム、雲母、ビスマス、またはこれらの混合物から選択される顔料を含み、顔料は下塗り被膜に分散され、下塗り被膜が支持体上に被覆されている反射層、
c)該反射層の上部にある少なくとも一つの光硬化性の層、および
d)該少なくとも一つの光硬化性の層の上部に随時存在する取り外し可能なカバーシートを具備し、該印刷要素は化学放射線の光源を用いて画像がつけられることを特徴とする印刷要素。 - 光硬化性の層は感光性重合体および光反応開始剤を含んで成っていることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
- 反射層は、該放射線源から放出される波長の所で少なくとも40%の反射率をもっていることを特徴とする請求項2記載の印刷要素。
- 反射層は、該放射線源から放出される波長の所で少なくとも60%の反射率をもっていることを特徴とする請求項3記載の印刷要素。
- 化学放射線の光源はレーザーであることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
- 該レーザーはイオンガスレーザー、固相レーザー、半導体ダイオードレーザー、分子状ガスレーザー、およびこれらの組み合わせから成る群から選ばれることを特徴とする請求項5記載の印刷要素。
- 該化学放射線源はプラズマランプ、キセノンランプ、水銀ランプ、および炭素アークランプから成る群から選ばれることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
- 該放射線源は約250〜約500nmの間の波長をもち、光硬化性の層は該放射線に露出すると重合し得ることを特徴とする請求項5記載の印刷要素。
- 該放射線源は約320〜約420nmの間の波長をもち、光硬化性の層は該放射線に露出すると重合し得ることを特徴とする請求項8記載の印刷要素。
- 支持体は金属およびプラスティックスの支持体から成る群から選ばれることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
- 該印刷要素の反射性は鏡面的であることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
- 該印刷要素の反射性は拡散的であることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
- 該印刷要素はフレキソ印刷要素およびオフセット印刷要素から成る群から選ばれることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
- 画像がつけられた凸版印刷要素を直接硬化させる方法において、該方法が
(a)
i )支持体、
ii )支持体の反射層であって、アルミニウム、雲母、ビスマス、またはこれらの混合物から選択される顔料を含み、顔料は下塗り被膜に分散され、下塗り被膜が支持体上に被覆されている反射層、
iii)該反射層の上部にある少なくとも一つの光硬化性の層、および
iv )該少なくとも一つの光硬化性の層の上部に随時存在する取り外し可能なカバーシート、
を具備した光硬化性の凸版印刷要素を用意し、そして
(b)該光硬化性の凸版印刷要素を化学放射線源に露出して該光硬化性の凸版印刷要素を直接硬化させる工程を含んで成ることを特徴とする方法。 - 光硬化性の層は感光性重合体および光反応開始剤を含んで成っていることを特徴とする請求項14記載の方法。
- 反射層は、該化学放射線源から放出される波長の所で少なくとも40%の反射率をもっていることを特徴とする請求項15記載の方法。
- 反射層は、該化学放射線源から放出される波長の所で少なくとも60%の反射率をもっていることを特徴とする請求項16記載の方法。
- 化学放射線の光源がレーザーであることを特徴とする請求項14記載の方法。
- 該レーザーがイオンガスレーザー、固相レーザー、半導体ダイオードレーザー、分子状ガスレーザー、およびこれらの組み合わせから成る群から選ばれることを特徴とする請求項18記載の方法。
- 該化学放射線源はプラズマランプ、キセノンランプ、水銀ランプ、および炭素アークランプから成る群から選ばれることを特徴とする請求項18記載の方法。
- 該化学放射線源は約250〜約500nmの間の波長をもっていることを特徴とする請求項18記載の方法。
- 該化学放射線源は約320〜約420nmの間の波長をもっていることを特徴とする請求項21記載の方法。
- 支持体は金属およびプラスティックスの支持体から成る群から選ばれることを特徴とする請求項14記載の方法。
- 該印刷要素の反射性は鏡面的であることを特徴とする請求項17記載の方法。
- 該印刷要素の反射性は拡散的であることを特徴とする請求項17記載の方法。
- 該印刷要素はフレキソ印刷要素およびオフセット印刷要素から成る群から選ばれることを特徴とする請求項14記載の方法。
- 凸版印刷要素を化学放射線源により直接硬化させる方法において、該方法が
(a)
i )支持体の反射層であって、アルミニウム、雲母、ビスマス、またはこれらの混合物から選択される顔料を含み、顔料は下塗り被膜に分散され、下塗り被膜が支持体上に被覆されており、化学放射線源によって放射される波長の所において少なくとも40%の反射率を有する反射層、
ii) 該反射層の上部にある少なくとも一つの光硬化性の層、および
iii) 該少なくとも一つの光硬化性の層の上部に随時存在する取り外し可能なカバーシート、
を具備した光硬化性の凸版印刷要素を用意し、
(b)該光硬化性の凸版印刷要素を化学放射線源に露出して該光硬化性の凸版印刷要素を直接硬化させる工程を含んで成り、
こゝで該化学放射線源が、反射性の層に当たる化学放射の少なくとも40%が光硬化性層に反射して戻ってきて光硬化性層を硬化させるようなレーザーを含んでなる、
工程を含む方法。 - 反射性の層が化学放射線源により放射された波長において少なくとも60%の反射率を有し、そして反射性の層に当たる化学放射の少なくとも60%が光硬化性層に反射して戻ってくる事で光硬化性層を硬化させる請求項27記載の方法。
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---|---|---|---|---|
US7005232B2 (en) * | 2003-06-16 | 2006-02-28 | Napp Systems, Inc. | Highly reflective substrates for the digital processing of photopolymer printing plates |
CN101434155B (zh) * | 2007-11-14 | 2010-11-17 | 比亚迪股份有限公司 | 一种在板材上制作纹路图形的方法 |
US8795950B2 (en) | 2010-06-30 | 2014-08-05 | Jonghan Choi | Method of improving print performance in flexographic printing plates |
EP2466381B1 (en) * | 2010-12-16 | 2021-05-19 | Xeikon Prepress N.V. | A processing apparatus for processing a flexographic plate, a method and a computer program product |
JP7388004B2 (ja) * | 2019-05-30 | 2023-11-29 | 株式会社レゾナック | 半導体装置の製造方法 |
DE102020127230A1 (de) | 2020-10-15 | 2022-04-21 | Saertex Multicom Gmbh | Aushärtung von Linern mittels kohärenter elektromagnetischer Strahlung |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09114087A (ja) * | 1995-10-18 | 1997-05-02 | Konica Corp | 感光性平版印刷版及び感光性平版印刷版の製造方法 |
JP2002174907A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法 |
JP2003516564A (ja) * | 1999-12-07 | 2003-05-13 | クレオ アイエル.リミテッド | デジタル的に画像形成したオフセット印刷を行うための方法および版 |
JP2004078085A (ja) * | 2002-08-22 | 2004-03-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物、及びそれを用いたネガ型平版印刷版原版 |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1597748A1 (de) * | 1967-10-27 | 1970-08-27 | Basf Ag | Verfahren zum Herstellen von Reliefformen fuer Druckzwecke |
US3858510A (en) * | 1971-03-11 | 1975-01-07 | Asahi Chemical Ind | Relief structures prepared from photosensitive compositions |
US3836709A (en) * | 1972-04-12 | 1974-09-17 | Grace W R & Co | Process and apparatus for preparing printing plates using a photocured image |
US3783152A (en) | 1972-04-27 | 1974-01-01 | Grace W R & Co | N-arylene polycarbamate |
US4263392A (en) | 1979-06-01 | 1981-04-21 | Richardson Graphics Company | Ultra high speed presensitized lithographic plates |
US4423135A (en) * | 1981-01-28 | 1983-12-27 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Preparation of photosensitive block copolymer elements |
US4460675A (en) | 1982-01-21 | 1984-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate |
US4622088A (en) | 1984-12-18 | 1986-11-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing photopolymer flexographic element with melt extrusion coated elastomeric surface layer |
DE3736980A1 (de) * | 1987-10-31 | 1989-05-18 | Basf Ag | Mehrschichtiges, flaechenfoermiges, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial |
US5254390B1 (en) | 1990-11-15 | 1999-05-18 | Minnesota Mining & Mfg | Plano-convex base sheet for retroreflective articles |
US5348844A (en) | 1990-12-03 | 1994-09-20 | Napp Systems, Inc. | Photosensitive polymeric printing medium and water developable printing plates |
DE69127608T2 (de) * | 1990-12-27 | 1998-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerisierbare Zusammensetzung und trockene vorsensibilisierte Platte |
GB2273297B (en) | 1991-05-01 | 1995-11-22 | Allied Signal Inc | Stereolithography using vinyl ether-epoxide polymers |
AU674518B2 (en) * | 1992-07-20 | 1997-01-02 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
CA2110233C (en) * | 1992-12-02 | 1999-01-12 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Optical information recording medium and composition for optical information recording film |
JPH06214386A (ja) | 1993-01-20 | 1994-08-05 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
US5446073A (en) | 1993-03-31 | 1995-08-29 | Fusion Systems Corporation | Photopolymerization process employing a charge transfer complex without a photoinitiator |
US5440987A (en) | 1994-01-21 | 1995-08-15 | Presstek, Inc. | Laser imaged seamless lithographic printing members and method of making |
US5380695A (en) | 1994-04-22 | 1995-01-10 | Polaroid Corporation | Image-receiving element for thermal dye transfer method |
US5649486A (en) * | 1995-07-27 | 1997-07-22 | Presstek, Inc. | Thin-metal lithographic printing members with visible tracking layers |
US5976763A (en) | 1997-03-05 | 1999-11-02 | Roberts; David H. | Highly sensitive water-developable photoreactive resin compositions and printing plates prepared therefrom |
US6140017A (en) | 1997-03-11 | 2000-10-31 | Jsr Corporation | Water-developable photosensitive resin composition |
DE19715169A1 (de) | 1997-04-11 | 1998-10-15 | Basf Drucksysteme Gmbh | Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichungungsmaterial |
JP4159058B2 (ja) * | 1997-06-13 | 2008-10-01 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 画像形成材料及び画像形成方法 |
US6262825B1 (en) | 1999-08-24 | 2001-07-17 | Napp Systems, Inc. | Apparatus and method for the enhanced imagewise exposure of a photosensitive material |
US6824946B2 (en) * | 2000-10-03 | 2004-11-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
US6387595B1 (en) * | 2000-10-30 | 2002-05-14 | Gary Ganghui Teng | On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat |
EP1211096A1 (en) * | 2000-12-01 | 2002-06-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Base material for lithographic printing plate and lithographic printing plate using the same |
JP2002254592A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷方法および平版印刷装置 |
JP2002367227A (ja) * | 2001-06-04 | 2002-12-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光情報記録媒体 |
JP2003084432A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
US7005232B2 (en) * | 2003-06-16 | 2006-02-28 | Napp Systems, Inc. | Highly reflective substrates for the digital processing of photopolymer printing plates |
-
2003
- 2003-06-16 US US10/462,977 patent/US7005232B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
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-
2005
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09114087A (ja) * | 1995-10-18 | 1997-05-02 | Konica Corp | 感光性平版印刷版及び感光性平版印刷版の製造方法 |
JP2003516564A (ja) * | 1999-12-07 | 2003-05-13 | クレオ アイエル.リミテッド | デジタル的に画像形成したオフセット印刷を行うための方法および版 |
JP2002174907A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法 |
JP2004078085A (ja) * | 2002-08-22 | 2004-03-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物、及びそれを用いたネガ型平版印刷版原版 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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