JP4848273B2 - 感光性重合体の印刷版をディジタル的に処理するための高反射性基板 - Google Patents

感光性重合体の印刷版をディジタル的に処理するための高反射性基板 Download PDF

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Description

本発明は、レーザーおよび他の化学放射線のディジタル光源に露光した際の直接硬化による画像生成の速度が増加している、改善されたディジタル的に画像を生成し得る凸版印刷要素に関する。
フレキソ印刷は新聞の製作および包装媒体の装飾用印刷に広く使用されている。フレキソ印刷においては、鋼、アルミニウム、または合成重合体の薄いシートのような可撓性の基板上に可撓性の印刷媒体の層を沈積させ、印刷用の版、即ち印刷用のスリーブをつくる。印刷媒体の中に印刷すべきネガの画像に対応する凸版のパターンが形成される。次いでこの版を印刷機の上に載せ、印刷を開始する。
フレキソ印刷版を製作する場合、基板の上に感光性の印刷材料を被覆し、印刷用の版、即ち印刷スリーブをつくる。被覆された側を光に露出し、印刷すべき画像のネガを作り、印刷媒体の露光された部分を光重合させ、次いでこれを物理的に硬化させ、溶媒で除去されることに対する抵抗性をもたせる。印刷媒体の露光されていない部分、従って硬化していない部分を溶媒で洗滌して除去し、印刷すべき画像の凸版パターンを残す。印刷用のこの版を印刷機に取り付け、印刷を開始する。
非フレキソ印刷の版、例えば活版印刷の版も新聞、宣伝用ミニコミ紙、および書籍の印刷に使用されている。フレキソ印刷用途に対して上に述べたのと同じ理由で非フレキソ印刷の用途にも感光性樹脂組成物が使用されてきた。活版印刷用の版を製作するための感光性印刷媒体の使用法はフレキソ印刷に対する応用の場合と実質的に同じである。
直接硬化法は、版(または他の印刷要素)の感光性重合体に若干の化学放射線を吸収させて感光性重合体を重合させ(即ち硬化させ)、これを洗滌用の溶媒に対して不溶にする画像作成法を意味する。コヒーレントなエネルギー、即ち化学放射線は所望のパターンをなして感光性マトリックスの表面上に当てられる。
レーザーまたは他の化学放射線のディジタル光源に露出させた際、フレキソ印刷および活版印刷要素において直接硬化による画像生成の速度を向上させるために種々の方法が提案されてきた。例えばもっと高い反応性をもった感光性樹脂を開発する努力がなされてきた。このような材料は、所望の画像を感光性樹脂の上で走査してゆく際、短時間レーザーを露出した場合でも、光反応(例えば交叉結合、交叉結合の消滅、転位など)を一層完全に起こすことが期待される。このような一つの感光性樹脂系は特許文献1に記載されている。この特許は全文が引用により本明細書に包含される。
また、主要な画像を生成させるために感光性材料を露光する(即ち画像に従った露光の)前に、露光過程の中で画像を生成しない部分(即ちバックスキャン・ビームの露光の間)において、感光性材料に対して電磁波エネルギーを用いる比較的低いエネルギーを露出させる装置を使用し、感光性材料の画像に従った露光を強化させることに関して他の努力が集中されてきた。この概念は特許文献2に記載されている。この特許の主題は引用により本明細書に包含される。しかしこの方法は二つの露光段階を必要とし、従って感光性材料を処理するのに要する時間が増大する。
本発明においては、感光性樹脂層の下方にある高い反射性をもった層を用いると、光重合体の凸版印刷の版の画像生成速度を著しく向上させると同時に、化学放射線のディジタ
ル光源を用い画像に従って露光させた場合、良好な解像度を保持できることが見出だされた。化学放射線の光子は反射層によって吸収されずに反射されて光重合体の中へ戻され、ここで印刷要素の硬化速度を増加させる。
従来、反射層をフレキソ印刷または活版印刷の凸版印刷画像の印刷要素に使用することが考えられたことはないが、他の方法に使用することは示唆されている。
例えば受像要素の製作に高反射性基板を使用することが提案されている。特許文献3には支持体を具備した受像要素が記載されており、この場合該支持体は透明な、不透明な、または半透明な材料を含んで成り、画像データを不透明な背景に対して見る証明文書の場合には反射性の支持体(不透明)が好適である。この特許は全文が引用により本明細書に包含される。特許文献3には、反射性の支持体が凸版印刷画像の版の製作に使用できることは示唆されていない。
同様に、特許文献4および5には、文書を不正に変更するのを防ぐための透明な上敷きとして使用される反射器の反射材が記載されている。この特許は全文が引用により本明細書に包含される。この場合も反射性の支持体が凸版印刷画像の版の製作に使用できることは示唆されていない。
特許文献6には、赤外線を赤外感光性の層の中へ反射して戻し、正味のエネルギーの吸収を増加させ、レーザー出力の必要量を減少させるための、該赤外感光性の層の下方にある表面層が記載されている。この特許は全文が引用により本明細書に包含される。しかし該特許文献の発明は平版印刷の版を目的としており、赤外線を赤外感光性の層の中に反射する方法であって、本発明によって意図されたような化学放射線に関するものではない。
本発明においては、化学放射線が実質的にコヒーレントであるような、即ち「高い明度」をもっているディジタル光源を用いて版の画像をつくる場合、高い反射率をもった基板が特に有利であることが見出だされた。コヒーレントでない化学放射線の光源を有する従来の露光システムは、反射された放射線が画像のない区域の中に実質的に散乱するために、実際には高い反射率をもった基板により損傷を被る可能性がある。基板の高い反射率の有害な効果は特許文献7で論じられている。この特許は引用により全文が本明細書に包含される。特許文献7には、高い反射性の支持体を使用した場合、画像を生じる透明な部分の明瞭な区域を通る斜め方向からの光線が90°以外の角度で基質の表面に衝突し、反射した後画像のない区域で重合を起こさせることが記載されている。特許文献7によれば、光重合体の層を放射線を反射する支持体の上に置き、入射光の反射量が35%より少なくなるほど十分に化学放射線を吸収する層を介在させることによってこの欠点を克服できるとされている。化学放射線を実質的に吸収する微粉末の染料または顔料を樹脂または重合体の溶液または水性分散物中に分散させ、これを支持体および光で不溶化させた画像の両方に接着させ、これを支持体に被覆して固定層をつくって乾燥させることにより、反射された放射線を吸収する層、または非放射的な散乱層、或いはハレーション防止層をつくることができる。この概念は特許文献8および特許文献9に記載されている。これらの特許は全文が引用により本明細書に包含される。
さらに特許文献10には、基板として高反射性のパネルまたはシートを使用する場合、これらの反射性パネルまたはシートが適当なハレーション防止剤、例えばカーボンブラックまたは酸化マンガンを含んでいる感光性の記録材料が記載されている。この特許は全文が引用により本明細書に包含される。別法としてハレーション防止剤を別の層として基板に被覆するか、またはハレーション防止剤を接着促進層または光重合体層の中に存在させることもできる。
このように当業界においては、感光性材料の「画像に従った(imagewise)」露光の感度を増加させ、これによって光による画像生成をできるだけ迅速に行うことができ、感光性材料を仕上げられた製品に迅速に変えることができる方法が必要とされていることは明らかである。さらに、化学放射線のコヒーレントな光源に露出させた場合、直接硬化法による画像生成の速度を向上させることができる、ディジタル的に画像を生成させ得るフレキソ印刷用の凸版印刷要素もなお必要とされている。
Roberts等に対する米国特許第5,976,763号明細書。 Mueller等に対する米国特許第6,262,825号明細書。 Chiang等に対する米国特許第5,380,695号明細書。 Luに対する米国特許第5,468,540号明細書。 Luに対する米国特許第5,670,096号明細書。 Williams等に対する米国特許第5,636,572号明細書。 Minに対する米国特許第4,622,088号明細書。 Gruetzmacher等に対する米国特許第4,460,675号明細書。 Chen等に対する同第4,423,135号明細書。 Telser等に対する米国特許第6,037,101号明細書。
本発明においては、レーザーおよび他の化学放射線のディジタル光源に露光した際の直接硬化による画像生成速度が増加している、改善されたディジタル的に画像を生成し得る凸版印刷要素であって、反射層、該反射層の上部にある少なくとも一つの光硬化性の層、および該少なくとも一つの光硬化性の層の上部に随時存在する取り外し可能なカバーシートを具備し、化学放射線のディジタル光源を用いて画像がつくられるような印刷要素が提案される。
また本発明においては、ディジタル的に画像を生成し得る凸版印刷要素の直接硬化による画像生成の速度を増加させる方法であって、反射層、該反射層の上部にある少なくとも一つの光硬化性の層、および該少なくとも一つの光硬化性の層の上部に随時存在する取り外し得るカバーシートを具備した光硬化性の凸版印刷要素をつくり、該光硬化性の凸版印刷要素を化学放射線の光源に露出し、光硬化性の凸版印刷要素を直接硬化させる工程を含んで成る方法に関する。
本発明の印刷要素は、化学放射線の光子は反射層によって吸収されずに反射されて感光性の層の中に戻り、これによって印刷要素の硬化速度を向上させるような、感光性の樹脂層の下方にある反射層を具備している。
本発明の好適具体化例の詳細な説明
本発明においては、高度の反射性をもった基板を使用すると、感光性の凸版印刷要素の画像生成速度を著しく増加させ得ると同時に、化学放射線のディジタル光源を用いて画像に従って露光した場合の解像力を良好に保持し得ることが見出だされた。化学放射線の光子は反射層に吸収されずに反射されて感光性の層の中に戻り、この中で印刷要素の硬化速度を増加させる。
直接硬化とは、印刷要素の中の光重合体が若干の化学放射線を吸収して光重合体を重合させ、即ち硬化させ、その後で用いられる洗滌用の溶媒に対してこれを不溶性にすることを意味する。コヒーレントなエネルギー、即ち化学放射線は所望のパターンをなして感光性マトリックスの表面上に当てられる。
本発明を実施する際に使用されることが意図されている感光性材料には、活版印刷版、フレキソ印刷版等が含まれる。印刷要素は、新聞、差込み広告、ディレクター(director)、包装品、予稿集の裏地、標識およびラベル等を含む多様な印刷用途に有用である。
光重合体樹脂の化学的種類には任意のタイプのもの、例えば(メタ)アクリレートをベースにした樹脂(例えば米国特許第5,348,844号明細書参照)、チオレーンをベースにした樹脂(例えば米国特許第3,783,152号明細書参照)、ビニルエーテルをベースにした樹脂(例えば米国特許第5,446,073号明細書参照)、陽イオン性樹脂をベースにした樹脂(例えば米国特許第 5,437,964号明細書参照)、ジアゾニウムをベースにした樹脂(例えば米国特許第4,263,392号明細書参照)等の樹脂、並びにこれらの2種またはそれ以上の適当な組み合わせが含まれる。これらの特許は全文が引用により本明細書に包含される。
本発明の感光性材料は、このような感光性材料に意図された最終用途に依存して変化する厚さをもっていることができる。例えば活版印刷の用途に対しては、感光性材料の厚さは約5〜約50ミルの範囲で変わることができ、好適な範囲は約10〜約30ミルである。フレキソ印刷の用途に対しては、感光性材料の厚さは約8〜約250ミルの範囲で変わることができ、好適な範囲は約100〜約120ミルである。
本発明の印刷要素は、高反射性の層の上部にある単一層または多重層の光で画像を生成し得る感光性樹脂を含んでいることができ、随時保護用のカバーシートを含んでいることができる。印刷要素はシートまたは円筒の形をしていることができ、押出し、積層化、または注型でつくることができる。これらの技術は当業界の専門家には容易に実施することができる。
本発明の印刷要素は一般に凸版の厚さが約0.5から最高約800μ、好ましくは300〜約500μであり、感光性樹脂系の化学的種類に依存して水、溶媒、または加熱吸取り法を用いて処理することができる。
本発明の凸版印刷版を製造するためには、感光性材料が反応するスペクトル範囲において電磁波エネルギーのコヒーレントなビームから感光性材料を反応させ得る画像生成ビームを発生させるのに十分な条件下において、該コヒーレントなビームを感光性樹脂材料に当てる。
高反射性の層(基板)を使用する利点は、化学放射線が実質的にコヒーレントである、即ち「高い明度」をもっているディジタル光源を用いて版の画像をつくる場合に特に得られる。コヒーレントでない化学放射線の光源を有する従来の露光システムでは、反射された放射線が画像のない区域の中に実質的に散乱するために、高い反射率をもった基板により実際には損傷を被る可能性がある。前述のように、従来の露光システムにおいては高反射性の層の有害な効果を防ぐためには、層を介在させるかまたは他の手段を使用しなければならない。
本発明においては、本発明を実施する場合、光反応開始剤が吸収する化学放射線源によって放射される波長の所において40%を越える反射率をもった基板を用いることにより有利な結果が得られることが見出だされた。好ましくは、光反応開始剤が吸収する化学放射線源によって放射される波長の所において60%を越える反射率をもった基板を使用する。基板の反射は拡散反射または鏡面反射(即ち鏡におけるような)であることができる。基板の反射はより一層鏡面反射的であることが好ましい。
種々の方法で反射層に対し高い反射率を賦与することができる。例えば支持体が固有の反射性をもっていることができ、この場合支持体はアルミニウム。亜鉛および/または錫からつくられる。高反射率を賦与する他の方法は、真空蒸着等の方法により支持体の表面に反射性の金属被膜を被覆する方法等である。この場合には、アルミニウム、錫、亜鉛および/または銀の層を金属またはプラスティックスの支持体の上に沈積させる。これらの方法の一つを使用して高反射率を賦与する場合、支持体を光重合可能な層に接着させる目的のため、或いは当業界の専門家に公知の他の理由で、随時反射性の基板または反射性の層の上部に透明な下塗り剤の層を用いることができる。
高反射率を賦与する他の方法はアルミニウム、雲母、および/またはビスマスのような高反射率の顔料を使用する方法である。これらの顔料は下塗り被膜の中に配合して、金属またはプラスティックスの支持体の上に被覆することができる。本発明に用いることが意図されている高反射性の下塗り剤は、水をベースにした、溶媒をベースにした、紫外線で硬化し得る、或いは粉末を被覆した下塗り剤であることができる。これらの下塗り剤はメイヤー・バー(Meyer bar)、ロール被覆、カーテン被覆、押出し、噴霧、またはスロット・ダイス型を用いて被覆することができる。当業界の専門家には他の方法も公知であろう。
化学放射線源はレーザー型または非レーザー型のいずれかであることができる。本発明に使用できる本発明を限定しないレーザーの例としては、電磁波エネルギーの反射または屈折により感光性材料の画像生成を促進するための適当なエネルギーをもったコヒーレントな電磁波エネルギーを与え得る線源、例えばイオンガスレーザー(例えばアルゴンイオンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム:カドミウムレーザー等)、固体レーザー(例えばNd:YAGレーザー、周波数を倍増したNd:YAGレーザー等)、半導体ダイオードレーザー、分子状ガスレーザー(例えば二酸化炭素レーザー等)並びにこれらの二つまたはそれ以上の適当な組み合わせが含まれる。このうようなレーザー光源は一般に感光性材料が反応するスペクトル範囲において電磁波エネルギーを放出することができる。さらに、レーザー光源によって放出される電磁波エネルギーは、画像生成ビームとして作用して感光性材料の上に直接画像データを書き込むことができる。非レーザー型の本発明を限定しない例には、プラズマランプ、キセノンランプ、水銀ランプ、および炭素アークランプが含まれる。
化学放射線源の好適な波長は250〜500nm、好ましくは320〜420nmである。好適な波長は使用される光反応開始剤のスペクトル感度に対応する波長である。
次に下記の本発明を限定しない実施例を参照して本発明の説明を行う。
下塗り剤の混合: 室温において次の順序で50.00部のNeoRez R−966
ポリウレタン水性分散物(Zeneca Resins Inc)、25.00部のQW18−1 ポリウレタン樹脂(K.J.Quinn & Co)、0.50部のSilwet L−7600 ポリジメチルシロキサン(Osi Specialties Inc)、0.25部のSilquest A−187 シラン(Osi Specialties Inc)、7.75部の脱イオン水、および0.50部のNopco DSX−1550(Henkel Corp)を加え15分間混合する。16.00部のBiFlair 83S ビスマス顔料(EM Industries)を加え、さらに15分間混合した。
基板の被覆: 厚さ0.0066インチの一定の長さの錫を含まない鋼を、順次0.1
Nの水酸化ナトリウム水溶液および脱イオン水により予備処理し、次いで高温の空気中で乾燥した。この洗浄した鋼にロール被覆法で下塗り剤組成物を湿った状態の厚さが25〜40μになるまで被覆した。このシートを400°Fで75秒間乾燥した。被覆した基板の平均反射率(%)は、ISR−260積分用球体を装着したShimadzu UV−2102 PC UV/Vis分光光度計で測定して340〜390nmの範囲の波長に亙り66%であった。
樹脂の混合: A部:7.63部のKraton Dl107 ブロック共重合体(Kraton Chemical Co)を6.36部のアクリル酸ラウリル(Sartomer Co)に45℃で1時間撹拌することにより溶解した。 B部:10.17部のポリオキシアルキレンモノフェニルエーテル(Dai−Ichi Kogyo Seiyaku Co. Ltd.)、5.92部のDabco XDM(Air Products Inc)、6.36部のポリエチレングリコールジアクリレート(SR−344 by Sartomer Co)および7.63部のエトキシル化されたトリメチロールプロパントリアクリレート(SR−499、Sartomer Co製)を一緒に配合した。次にこのB部の配合物に0.25部のブチル化したヒドロキシトルエン(Sherex Chemical Inc)、1.32部の1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(Irgacure 184、Ciba製)、0.26部のジフェニル(2,4,6−トリメチルベンジル)フォスフィンオキシド(Lucerin TPO、BASF Corporation製)、および0.20部の亜鉛ジアクリレート(SR−705、Sartomer Co製)を配合した。
53.90部のブタジエン/メタクリル酸/ジビニルベンゼン/メタクリレートから成る粒状の乳化重合体(TA906、JSR Corporation製、ヨーロッパ特許0 607 962 Al号明細書、米国特許第6,140,017号明細書参照)、13.99部のA部の配合物、および32.11部のB部の配合物をMoriyama Mixer(Model D3−7.5、Moriyama Mfg Works,Ltd.製)の中で80℃において混合した。B部の配合物は等量の7つの部分として混合機の中に導入した。均一になるまでこれらの樹脂を混合した。
版の製作: 上記の感光性樹脂を約80℃において単一スクリュー押出し機およびシート・ダイス型に通し、一定の長さの予備被覆した基板の上に15ミルの厚さで被覆した。
版の露光と処理: 全体的なバンプ(bump)露光により版全体に予め感光性を賦与した。使用したバンプ露光量は樹脂の組成に依存して変化するから、経験的に決定する。好適なバンプ露光量は、正常な条件下で処理された版の上に光重合体の残留物が出現する前までの可能な最大露光量の90%である。バンプ露光を行った後、Innova
300 アルゴンイオン紫外線レーザー(Coherent Inc)を用い、ハーフトーンのスクリーン1インチ当たり100本のライン上に3%のハイライトのドットが保持されるのに必要な露光レベルにおいて版に対し画像に従って露光を行った。画像生成ビームは約25μの版表面の表面の所で1/eのスポットの直径をもち、全角度のビームの発散は約10ミリ・ラジアンであった。
画像を生成した版を次にNAPPflex FP−II processor(NAPP Systems Inc.)の中で温度140°F、噴霧圧力850psi、コンベヤ速度28インチ/分において脱イオン水を用いて処理した。本発明の実施例1でつくられた版は、目標とする3%のハイライトのドットを保持するためには、画像生成のために42mj/cmの露光が必要であった。 表1参照。
下塗り剤の混合処理: 下記の順序で、50.00部のNeoRez R−966 ポリウレタン水性分散物(Zeneca Resins)、15.50部のMP4983R/40R 共重合体乳化物(Michelman Inc)、0.30部のNopco DSX−1550(Henkel Corp)、0.70部のSilwet L 7600 ポリジメチルシロキサン(Osi Specialties Inc)、および25.50部の脱イオン水を室温において15分間混合した。8.0部のAquavex 1752−207S アルミニウム顔料(Silberline)を加え、さらに15分間混合した。
基板の被覆: 実施例1に示したのと同じ方法を用いた。被覆した基板の平均反射率(%)は、ISR−260積分用球体を装着したShimadzu UV−2102 PC
UV/Vis分光光度計で測定して340〜390nmの範囲の波長に亙り73%であった。
版の製作: 実施例1に示したのと同じ方法を用いた。実施例2でつくられた版は、目標とする3%のハイライトのドットを保持するためには、画像生成のために42mj/cmの露光が必要であった。 表1参照。
下塗り剤の混合処理: 下記の順序で、45.00部のNeoRez R−966 ポリウレタン分散物(Zeneca Resins)、2.50部のAlcogum SL−76 アクリレート乳化物(National Starch & Chemical)、1.6部の水酸化ナトリウム、50.4部の脱イオン水、および0.50部のSurfynol 440 表面活性剤(Air Products & Chemical Inc)を室温において15分間混合した。
基板の被覆: 実施例1に示したのと同じ方法を用いたが、基板として厚さ10ミルのアルミニウムのシートを用いた。被覆した基板の平均反射率(%)は、ISR−260積分用球体を装着したShimadzu UV−2102 PC UV/Vis分光光度計で測定して340〜390nmの範囲の波長に亙り75%であった。
版の製作: 実施例1に示したのと同じ方法を用いた。実施例3でつくられた版は、目標とする3%のハイライトのドットを保持するためには、画像生成のために35mj/cmの露光が必要であった。表1参照。
(比較例)
下塗り剤の混合: 実施例3に示したのと同じ下塗り剤および方法を用いた。
基板の被覆: 実施例1に示したのと同じ金属および方法を用いた。被覆した基板の平均反射率(%)は、ISR−260積分用球体を装着したShimadzu UV−2102 PC UV/Vis分光光度計で測定して340〜390nmの範囲の波長に亙り34%であった。
版の製作: 実施例1に示したのと同じ方法を用いた。比較実施例4でつくられた版は、目標とする3%のハイライトのドットを保持するためには、画像生成のために70mj/cmの露光が必要であった。この版は、本発明の実施例における版とほぼ同じように迅速には画像を生成することができなかった。表1参照。
表1
340〜390nm 100ライン/インチスクリーンに
における平均反射率 おいて3%ドットを保持する
(%) ための露光量(mj/cm
実施例1 66 42
実施例2 73 35
実施例3 75 35
実施例4 34 70

Claims (28)

  1. ディジタル的に画像を生成し得る凸版印刷要素において、
    a)支持体、
    b)支持体の反射層であって、アルミニウム、雲母、ビスマス、またはこれらの混合物から選択される顔料を含み、顔料は下塗り被膜に分散され、下塗り被膜が支持体上に被覆されている反射層、
    c)該反射層の上部にある少なくとも一つの光硬化性の層、および
    d)該少なくとも一つの光硬化性の層の上部に随時存在する取り外し可能なカバーシートを具備し、該印刷要素は化学放射線の光源を用いて画像がつけられることを特徴とする印刷要素。
  2. 光硬化性の層は感光性重合体および光反応開始剤を含んで成っていることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
  3. 反射層は、該放射線源から放出される波長の所で少なくとも40%の反射率をもっていることを特徴とする請求項2記載の印刷要素。
  4. 反射層は、該放射線源から放出される波長の所で少なくとも60%の反射率をもっていることを特徴とする請求項3記載の印刷要素。
  5. 化学放射線の光源はレーザーであることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
  6. 該レーザーはイオンガスレーザー、固相レーザー、半導体ダイオードレーザー、分子状ガスレーザー、およびこれらの組み合わせから成る群から選ばれることを特徴とする請求項5記載の印刷要素。
  7. 該化学放射線源はプラズマランプ、キセノンランプ、水銀ランプ、および炭素アークランプから成る群から選ばれることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
  8. 該放射線源は約250〜約500nmの間の波長をもち、光硬化性の層は該放射線に露出すると重合し得ることを特徴とする請求項5記載の印刷要素。
  9. 該放射線源は約320〜約420nmの間の波長をもち、光硬化性の層は該放射線に露出すると重合し得ることを特徴とする請求項8記載の印刷要素。
  10. 支持体は金属およびプラスティックスの支持体から成る群から選ばれることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
  11. 該印刷要素の反射性は鏡面的であることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
  12. 該印刷要素の反射性は拡散的であることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
  13. 該印刷要素はフレキソ印刷要素およびオフセット印刷要素から成る群から選ばれることを特徴とする請求項1記載の印刷要素。
  14. 画像がつけられた凸版印刷要素を直接硬化させる方法において、該方法が
    (a)
    i )支持体、
    ii )支持体の反射層であって、アルミニウム、雲母、ビスマス、またはこれらの混合物から選択される顔料を含み、顔料は下塗り被膜に分散され、下塗り被膜が支持体上に被覆されている反射層、
    iii)該反射層の上部にある少なくとも一つの光硬化性の層、および
    iv )該少なくとも一つの光硬化性の層の上部に随時存在する取り外し可能なカバーシート、
    を具備した光硬化性の凸版印刷要素を用意し、そして
    (b)該光硬化性の凸版印刷要素を化学放射線源に露出して該光硬化性の凸版印刷要素を直接硬化させる工程を含んで成ることを特徴とする方法。
  15. 光硬化性の層は感光性重合体および光反応開始剤を含んで成っていることを特徴とする請求項14記載の方法。
  16. 反射層は、該化学放射線源から放出される波長の所で少なくとも40%の反射率をもっていることを特徴とする請求項15記載の方法。
  17. 反射層は、該化学放射線源から放出される波長の所で少なくとも60%の反射率をもっていることを特徴とする請求項16記載の方法。
  18. 化学放射線の光源がレーザーであることを特徴とする請求項14記載の方法。
  19. 該レーザーがイオンガスレーザー、固相レーザー、半導体ダイオードレーザー、分子状ガスレーザー、およびこれらの組み合わせから成る群から選ばれることを特徴とする請求項18記載の方法。
  20. 該化学放射線源はプラズマランプ、キセノンランプ、水銀ランプ、および炭素アークランプから成る群から選ばれることを特徴とする請求項18記載の方法。
  21. 該化学放射線源は約250〜約500nmの間の波長をもっていることを特徴とする請求項18記載の方法。
  22. 該化学放射線源は約320〜約420nmの間の波長をもっていることを特徴とする請求項21記載の方法。
  23. 支持体は金属およびプラスティックスの支持体から成る群から選ばれることを特徴とする請求項14記載の方法。
  24. 該印刷要素の反射性は鏡面的であることを特徴とする請求項17記載の方法。
  25. 該印刷要素の反射性は拡散的であることを特徴とする請求項17記載の方法。
  26. 該印刷要素はフレキソ印刷要素およびオフセット印刷要素から成る群から選ばれることを特徴とする請求項14記載の方法。
  27. 凸版印刷要素を化学放射線源により直接硬化させる方法において、該方法が
    (a)
    i )支持体の反射層であって、アルミニウム、雲母、ビスマス、またはこれらの混合物から選択される顔料を含み、顔料は下塗り被膜に分散され、下塗り被膜が支持体上に被覆されており、化学放射線源によって放射される波長の所において少なくとも40%の反射率を有する反射層、
    ii) 該反射層の上部にある少なくとも一つの光硬化性の層、および
    iii) 該少なくとも一つの光硬化性の層の上部に随時存在する取り外し可能なカバーシート、
    を具備した光硬化性の凸版印刷要素を用意し、
    (b)該光硬化性の凸版印刷要素を化学放射線源に露出して該光硬化性の凸版印刷要素を直接硬化させる工程を含んで成り、
    こゝで該化学放射線源が、反射性の層に当たる化学放射の少なくとも40%が光硬化性層に反射して戻ってきて光硬化性層を硬化させるようなレーザーを含んでなる、
    工程を含む方法。
  28. 反射性の層が化学放射線源により放射された波長において少なくとも60%の反射率を有し、そして反射性の層に当たる化学放射の少なくとも60%が光硬化性層に反射して戻ってくる事で光硬化性層を硬化させる請求項27記載の方法。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7005232B2 (en) * 2003-06-16 2006-02-28 Napp Systems, Inc. Highly reflective substrates for the digital processing of photopolymer printing plates
CN101434155B (zh) * 2007-11-14 2010-11-17 比亚迪股份有限公司 一种在板材上制作纹路图形的方法
US8795950B2 (en) 2010-06-30 2014-08-05 Jonghan Choi Method of improving print performance in flexographic printing plates
EP2466381B1 (en) * 2010-12-16 2021-05-19 Xeikon Prepress N.V. A processing apparatus for processing a flexographic plate, a method and a computer program product
JP7388004B2 (ja) * 2019-05-30 2023-11-29 株式会社レゾナック 半導体装置の製造方法
DE102020127230A1 (de) 2020-10-15 2022-04-21 Saertex Multicom Gmbh Aushärtung von Linern mittels kohärenter elektromagnetischer Strahlung

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09114087A (ja) * 1995-10-18 1997-05-02 Konica Corp 感光性平版印刷版及び感光性平版印刷版の製造方法
JP2002174907A (ja) * 2000-12-08 2002-06-21 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法
JP2003516564A (ja) * 1999-12-07 2003-05-13 クレオ アイエル.リミテッド デジタル的に画像形成したオフセット印刷を行うための方法および版
JP2004078085A (ja) * 2002-08-22 2004-03-11 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物、及びそれを用いたネガ型平版印刷版原版

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1597748A1 (de) * 1967-10-27 1970-08-27 Basf Ag Verfahren zum Herstellen von Reliefformen fuer Druckzwecke
US3858510A (en) * 1971-03-11 1975-01-07 Asahi Chemical Ind Relief structures prepared from photosensitive compositions
US3836709A (en) * 1972-04-12 1974-09-17 Grace W R & Co Process and apparatus for preparing printing plates using a photocured image
US3783152A (en) 1972-04-27 1974-01-01 Grace W R & Co N-arylene polycarbamate
US4263392A (en) 1979-06-01 1981-04-21 Richardson Graphics Company Ultra high speed presensitized lithographic plates
US4423135A (en) * 1981-01-28 1983-12-27 E. I. Du Pont De Nemours & Co. Preparation of photosensitive block copolymer elements
US4460675A (en) 1982-01-21 1984-07-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate
US4622088A (en) 1984-12-18 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing photopolymer flexographic element with melt extrusion coated elastomeric surface layer
DE3736980A1 (de) * 1987-10-31 1989-05-18 Basf Ag Mehrschichtiges, flaechenfoermiges, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
US5254390B1 (en) 1990-11-15 1999-05-18 Minnesota Mining & Mfg Plano-convex base sheet for retroreflective articles
US5348844A (en) 1990-12-03 1994-09-20 Napp Systems, Inc. Photosensitive polymeric printing medium and water developable printing plates
DE69127608T2 (de) * 1990-12-27 1998-01-22 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerisierbare Zusammensetzung und trockene vorsensibilisierte Platte
GB2273297B (en) 1991-05-01 1995-11-22 Allied Signal Inc Stereolithography using vinyl ether-epoxide polymers
AU674518B2 (en) * 1992-07-20 1997-01-02 Presstek, Inc. Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
CA2110233C (en) * 1992-12-02 1999-01-12 Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated Optical information recording medium and composition for optical information recording film
JPH06214386A (ja) 1993-01-20 1994-08-05 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感光性樹脂組成物
US5446073A (en) 1993-03-31 1995-08-29 Fusion Systems Corporation Photopolymerization process employing a charge transfer complex without a photoinitiator
US5440987A (en) 1994-01-21 1995-08-15 Presstek, Inc. Laser imaged seamless lithographic printing members and method of making
US5380695A (en) 1994-04-22 1995-01-10 Polaroid Corporation Image-receiving element for thermal dye transfer method
US5649486A (en) * 1995-07-27 1997-07-22 Presstek, Inc. Thin-metal lithographic printing members with visible tracking layers
US5976763A (en) 1997-03-05 1999-11-02 Roberts; David H. Highly sensitive water-developable photoreactive resin compositions and printing plates prepared therefrom
US6140017A (en) 1997-03-11 2000-10-31 Jsr Corporation Water-developable photosensitive resin composition
DE19715169A1 (de) 1997-04-11 1998-10-15 Basf Drucksysteme Gmbh Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichungungsmaterial
JP4159058B2 (ja) * 1997-06-13 2008-10-01 コニカミノルタホールディングス株式会社 画像形成材料及び画像形成方法
US6262825B1 (en) 1999-08-24 2001-07-17 Napp Systems, Inc. Apparatus and method for the enhanced imagewise exposure of a photosensitive material
US6824946B2 (en) * 2000-10-03 2004-11-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
US6387595B1 (en) * 2000-10-30 2002-05-14 Gary Ganghui Teng On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat
EP1211096A1 (en) * 2000-12-01 2002-06-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Base material for lithographic printing plate and lithographic printing plate using the same
JP2002254592A (ja) * 2001-03-01 2002-09-11 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷方法および平版印刷装置
JP2002367227A (ja) * 2001-06-04 2002-12-20 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体
JP2003084432A (ja) * 2001-09-10 2003-03-19 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
US7005232B2 (en) * 2003-06-16 2006-02-28 Napp Systems, Inc. Highly reflective substrates for the digital processing of photopolymer printing plates

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09114087A (ja) * 1995-10-18 1997-05-02 Konica Corp 感光性平版印刷版及び感光性平版印刷版の製造方法
JP2003516564A (ja) * 1999-12-07 2003-05-13 クレオ アイエル.リミテッド デジタル的に画像形成したオフセット印刷を行うための方法および版
JP2002174907A (ja) * 2000-12-08 2002-06-21 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法
JP2004078085A (ja) * 2002-08-22 2004-03-11 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物、及びそれを用いたネガ型平版印刷版原版

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