JP4846600B2 - マイクロリソグラフィ投射露光装置用照射システム - Google Patents
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Description
Claims (10)
- マイクロリソグラフィ投射露光走査ステップ式装置用照射システムであって、光伝播方向に沿って配列された以下の部品、すなわち、
a)光源(14)と、
b)第1光学ラスタ要素と、
c)第2光学ラスタ要素(166)と、
d)第3光学ラスタ要素(170)と、
e)第4光学ラスタ要素(174)とから構成され、
前記第1光学ラスタ要素(162)は、照射システム(10)の第1瞳面(28)内で、または、前記第1瞳面に非常に接近して広がり、前記投射露光装置のスキャン方向に少なくとも実質的に垂直である第1方向(Y)に沿って延びる平行で細長い第1マイクロレンズ(164)のアレイを有し、
前記第2光学ラスタ要素(166)は、前記第1瞳面(28)と必ずしも異なるわけではない照射システムの第2瞳面(28)内で、または前記第2瞳面に非常に接近して広がり、前記スキャン方向に実質的に平行な第2方向(X)に沿って延びる平行で細長い第2マイクロレンズ(168)のアレイを有し、
前記第3光学ラスタ要素(170)は、少なくとも実質的に前記第2マイクロレンズ(168)の焦点面内に配置され、平行で細長い第3マイクロレンズ(172)のアレイを有し、前記第2マイクロレンズ(168)と第3マイクロレンズ(172)は互いに面する湾曲面を有する第3光学ラスタ要素と、
第4光学ラスタ要素(174)は、少なくとも実質的に前記第1マイクロレンズ(164)の焦点面内に配置され、前記第1方向(Y)に沿って延びる平行で細長い第4マイクロレンズ(176)のアレイを有し、
前記第3のマイクロレンズ(172)は前記第2方向(X)に延び、前記第4のマイクロレンズ(176)は前記第1方向(Y)に延びることを特徴とする照射システム。 - 前記光学ラスタ要素(162、166、170、174)の前記マイクロレンズ(164、168、172、176)は、1mm未満の幅を有することを特徴とする請求項1に記載の照射システム。
- 前記第2光学ラスタ要素(166)と前記第3光学ラスタ要素(170)の間の距離は1mm未満であることを特徴とする請求項1または2に記載の照射システム。
- 前記第2光学ラスタ要素(166)と前記第3光学ラスタ要素(170)の間の距離は0.5mm未満であることを特徴とする請求項3に記載の照射システム。
- 前記マイクロレンズ(164、168、172、176)は円柱レンズであることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の照射システム。
- 前記第1光学ラスタ要素(162)は前記第2光学ラスタ要素(166)に取り付けられ、前記第3光学ラスタ要素(170)は前記第4光学ラスタ要素(174)に取り付けられることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の照射システム。
- 前記第1または第2瞳面(28)内、または前記第1または第2瞳面に非常に近く配列される散乱要素(180)を備えることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の照射システム。
- 隣接ブレードの2つの対向する列を有する絞りデバイス(38)を備え、前記隣接ブレードの2つの対向する列は、前記第2方向に平行に配列され、前記光源によって生成される投射光束内に選択的に挿入することができることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の照射システム。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の照射システムを備えることを特徴とする投射露光装置。
- 微細構造デバイスを作製するマイクロリソグラフィ法であって、
a)感光性層を支持する基板(52)を設けるステップと、
b)前記感光性層上に結像される構造を含むレチクル(40)を設けるステップと、
c)請求項1から8のいずれか一項に記載の照射システム(10)を設けるステップと、
d)投射レンズ(50)によって、前記感光性層上に前記レチクル(40)の少なくと
も一部を投射するステップとから構成されることを特徴とするマイクロリソグラフィ法。
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