TWI456267B - 用於微影投射曝光設備之照明系統 - Google Patents
用於微影投射曝光設備之照明系統 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI456267B TWI456267B TW096104997A TW96104997A TWI456267B TW I456267 B TWI456267 B TW I456267B TW 096104997 A TW096104997 A TW 096104997A TW 96104997 A TW96104997 A TW 96104997A TW I456267 B TWI456267 B TW I456267B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- illumination system
- light
- scattering structure
- elements
- illumination
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0911—Anamorphotic systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70083—Non-homogeneous intensity distribution in the mask plane
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
- G03F7/70158—Diffractive optical elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Claims (49)
- 一種用於微影投射曝光設備的照明系統,包括:一光源;一光學積分器,其設定致使當光線照射於其上時,產生複數個次級光源;一聚光器;及一散射結構,其包括複數個虛擬隨機地配置的次元件;其中,該等次元件之至少其一包括一微透鏡;各個次元件係設定致使當光線照射於其上時,各個次元件僅於一方向上增加光線的幾何光學通量;該散射結構係安排在該光學積分器的後面沿著光線在該系統中的傳播方向;該散射結構係安排在該光學積分器與該聚光器之間;及該聚光器係安排在該光學積分器與一場平面之間。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中該散射結構包括複數個第一虛擬隨機地配置的次元件及複數個第二虛擬隨機地配置的次元件,各個第一虛擬隨機地配置的次元件係設定僅於一第一方向上增加光線的幾何光學通量,及各個第二虛擬隨機地配置的次元件係設定僅於不同於第一方向的一第二方向上增加光線的幾何光學通量。
- 根據申請專利範圍第2項的照明系統,其中該第一方 向實質地垂直於該第二方向。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中該等次元件係配置成一非周期性的陣列。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中至少二個次元件在沿著至少一個方向中具有不同的尺寸。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中至少兩個次元件具有不同的內結構。
- 根據申請專利範圍第6項的照明系統,其中所述不同的內結構係由預定結構的相對平移而定義,該平移係垂直於該照明系統的光軸。
- 根據申請專利範圍第6項的照明系統,其中不同的內結構係由變更預定結構的尺度而加以定義。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中至少一次元件具有一間距,該間距係沿著至少一個方向變化。
- 根據申請專利範圍第9項的照明系統,其中該至少一方向是至少一次元件的縱向方向。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中該光學積分器包括複數個積分元件,以及在該照明系統中垂直一光軸的一方向上,該等積分元件具有一第一間距d1 且該等次元件具有一第二間距d2 。
- 根據申請專利範圍第11項的照明系統,其中該第一間 距d1 <1000微米。
- 根據申請專利範圍第11項的照明系統,其中該第一間距d1 <600微米。
- 根據申請專利範圍第11項的照明系統,其中該第二間距d2 <該第一間距d1 。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中該等次元件之至少其一係包括一繞射光學元件。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中該微透鏡具有一圓柱體形狀。
- 根據申請專利範圍第16項的照明系統,其中至少兩個相鄰的次元件各包括一微透鏡,該至少兩個相鄰的次元件的微透鏡係由平面區域分開,該些區域具有恆定或是變化的寬度並且產生源自於繞射效應的角分佈。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中該些微透鏡具有環面形狀。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中每一個次元件係產生一個實質上矩形的角光線分佈。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中該散射結構係產生一個近場照度分佈,其具有最大對比,該最大對比與由斑點產生的對比高出一個低於5%的值。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中該光學積 分器包括複數個積分元件具有由第一邊界所定義的形狀,該等次元件具有由第二邊界所定義的形狀,並且其中該等第一邊界以及第二邊界係形成一個角度α,其中α為介於0.1°<α<89.9°的角度。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中該散射結構與該光學積分器一起在一遮罩平面裡沿著至少一方向產生一照度分佈,其中該照度分佈在零照度水準以及最高照度水準之間具有複數個過渡區,並且該等過渡區在沿著該至少一方向上具有超過1毫米的尺寸。
- 根據申請專利範圍第22項的照明系統,其中該等過渡區在沿著該至少一方向上具有超過2.5毫米的尺寸。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中該等次元件在沿著一方向上產生一角光線分佈,其在零水準以及恆定之最高水準之間有複數個平滑的過渡區。
- 根據申請專利範圍第24項的照明系統,其中該等過渡區實質上具有一高斯斜率形狀。
- 根據申請專利範圍第25項的照明系統,其中一高斯角分佈係由複數個實質上不同寬度之矩形角分佈來近似。
- 根據申請專利範圍第26項的照明系統,其中該等次元件是具有不同線寬的圓柱體微透鏡。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,更包括複數個第二次元件,其中各個第二次元件係設定致使當光線照射 於其上時,各個次元件僅於不同於該一方向的一第二方向上增加光線的幾何光學通量。
- 根據申請專利範圍第28項的照明系統,其中該等第一及第二次元件係在不同的支架上配置,其建構為彼此可以相對於一旋轉軸旋轉,該旋轉軸實質上平行於該照明系統的一光軸。
- 根據申請專利範圍第28項的照明系統,其中該一方向及該第二方向不是正交的。
- 根據申請專利範圍第28項的照明系統,其中該一方向及該第二方向二者皆不平行於該投射曝光設備的一掃描方向。
- 根據申請專利範圍第31項的照明系統,更包括一操縱器以共同地改變該一方向及該第二方向。
- 根據申請專利範圍第31項的照明系統,更包括一操縱器以獨立地改變該一方向及另一方向。
- 根據申請專利範圍第1項的照明系統,其中該散射結構係設定以一方式修改角分佈,該方式係於缺乏該散射結構的情況下,透過該等次級光源的放大而使它們鄰接或疊加而獲得。
- 一種微影投射曝光設備,包括:一投影物鏡;以及如申請專利範圍第1項所述之照明系統。
- 一種使用一微影投射曝光設備以製造一微結構化裝置的方法,其中該微影投射曝光設備包括如申請專利範圍第1項所述之照明系統。
- 一種照明系統,包括:一光學積分器;及至少一散射結構,包括複數個次元件,該等次元件係設定致使當光線照射於其上時,該等次元件產生具有不同角寬度的矩形角光分佈;其中:該照明系統係設定使用於一微影投射曝光設備;該散射結構係安排在該光學積分器的後面沿著光線在該系統中的傳播方向;該散射結構係安排在該光學積分器與一聚光器之間;及該聚光器係安排在該光學積分器與一場平面之間。
- 一種微影投射曝光設備,包括:一投影物鏡;以及如申請專利範圍第37項所述之照明系統。
- 一種使用一微影投射曝光設備以製造一微結構化裝置的方法,其中該微影投射曝光設備包括如申請專利範圍第37項所述之照明系統。
- 一種照明系統,包括:一光學積分器,其設定致使當光線照射於其上時,產 生複數個次級光源;至少一散射結構,包括複數個虛擬隨機地配置的次元件;及一聚光器;其中:各個次元件係設定致使當光線照射於其上時,各個次元件僅於一方向上增加光線的幾何光學通量;至少一次元件具有一間距,該間距沿著至少一方向變化;該照明系統係設定使用於一微影投射曝光設備;該散射結構係安排在該光學積分器的後面沿著光線在該系統中的傳播方向;該散射結構係安排在該光學積分器與一聚光器之間;及該聚光器係安排在該光學積分器與一場平面之間。
- 根據申請專利範圍第40項的照明系統,其中該至少一方向為該至少一次元件的一縱軸方向。
- 一種照明系統,包括:一光學積分器,其設定致使當光線照射於其上時,產生複數個次級光源;至少一散射結構,包括複數個虛擬隨機地配置的次元件;及一聚光器; 其中:各個次元件係設定致使當光線照射於其上時,各個次元件僅於一方向上增加光線的幾何光學通量;至少一次元件具有一間距,該間距沿著至少一方向變化;該照明系統係設定使用於一微影投射曝光設備;該散射結構係安排在該光學積分器的後面沿著光線在該系統中的傳播方向;該散射結構係安排在該光學積分器與一聚光器之間;該聚光器係安排在該光學積分器與一場平面之間;及該光學積分器包括複數個積分元件具有由第一邊界所定義的形狀,該等次元件具有由第二邊界所定義的形狀,並且其中該等第一邊界以及第二邊界係形成一個角度α,其中α為介於0.1°<α<89.9°的角度。
- 一種照明系統,包括:一光學積分器,其設定致使當光線照射於其上時,產生複數個次級光源;至少一散射結構,包括複數個虛擬隨機地配置的次元件;及一聚光器;其中:各個次元件係設定致使當光線照射於其上時,各個次元件僅於一方向上增加光線的幾何光學通量; 該等次元件在沿著一方向上產生一角光線分佈,其在零水準以及恆定之最高水準之間有複數個平滑的過渡區;該等過渡區實質上具有一高斯斜率形狀;一高斯角分佈係由複數個實質上不同寬度之矩形角分佈來近似;該照明系統係設定使用於一微影投射曝光設備;該散射結構係安排在該光學積分器的後面沿著光線在該系統中的傳播方向;該散射結構係安排在該光學積分器與一聚光器之間;及該聚光器係安排在該光學積分器與一場平面之間。
- 根據申請專利範圍第43項的照明系統,其中該等次元件係配置成一非周期性的陣列。
- 根據申請專利範圍第43項的照明系統,其中至少二個次元件在沿著至少一個方向中具有不同的尺寸。
- 根據申請專利範圍第43項的照明系統,其中該散射結構係產生一個近場照度分佈,其具有最大對比,該最大對比與由斑點產生的對比高出一個低於5%的值。
- 根據申請專利範圍第43項的照明系統,其中該散射結構與該光學積分器一起在一遮罩平面裡沿著至少一方向產生一照度分佈,其中該照度分佈在零照度水準以及最高照度水準之間具有複數個過渡區,並且該等過渡區在沿著該至少一方向上具有超過1毫米的尺寸。
- 根據申請專利範圍第43項的照明系統,其中一高斯角分佈係由複數個實質上不同寬度之矩形角分佈來近似。
- 根據申請專利範圍第43項的照明系統,其中該散射結構係設定以一方式修改角分佈,該方式係於缺乏該散射結構的情況下,透過該等次級光源的放大而使它們鄰接或疊加而獲得。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US77485006P | 2006-02-17 | 2006-02-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200732702A TW200732702A (en) | 2007-09-01 |
TWI456267B true TWI456267B (zh) | 2014-10-11 |
Family
ID=38042621
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW103101973A TWI545352B (zh) | 2006-02-17 | 2007-02-12 | 用於微影投射曝光設備之照明系統 |
TW096104997A TWI456267B (zh) | 2006-02-17 | 2007-02-12 | 用於微影投射曝光設備之照明系統 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW103101973A TWI545352B (zh) | 2006-02-17 | 2007-02-12 | 用於微影投射曝光設備之照明系統 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US8395756B2 (zh) |
EP (1) | EP1984787B1 (zh) |
JP (2) | JP4852617B2 (zh) |
KR (1) | KR101276927B1 (zh) |
CN (4) | CN102799079B (zh) |
TW (2) | TWI545352B (zh) |
WO (1) | WO2007093396A1 (zh) |
Families Citing this family (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007072639A1 (ja) * | 2005-12-21 | 2007-06-28 | Nikon Corporation | オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、およびデバイスの製造方法 |
TWI545352B (zh) | 2006-02-17 | 2016-08-11 | 卡爾蔡司Smt有限公司 | 用於微影投射曝光設備之照明系統 |
EP1984788B1 (en) | 2006-02-17 | 2011-09-21 | Carl Zeiss SMT GmbH | Optical integrator for an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus |
JP2008124149A (ja) * | 2006-11-09 | 2008-05-29 | Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd | 光学装置および結晶化装置 |
DE102008006637A1 (de) | 2007-01-25 | 2008-07-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Optischer Integrator für ein Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
JP5035747B2 (ja) | 2007-03-16 | 2012-09-26 | 株式会社ニコン | オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
WO2009026947A1 (en) | 2007-08-30 | 2009-03-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic projection exposure apparatus |
DE102009011207A1 (de) | 2008-03-26 | 2009-10-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren und Beleuchtungssystem zum Beleuchten einer Maske in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
EP2146248B1 (en) | 2008-07-16 | 2012-08-29 | Carl Zeiss SMT GmbH | Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus |
EP2317386B1 (en) * | 2008-12-23 | 2012-07-11 | Carl Zeiss SMT GmbH | Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus |
DE102009006685A1 (de) | 2009-01-29 | 2010-08-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie |
KR101624009B1 (ko) * | 2009-07-31 | 2016-05-24 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 광학 빔 편향 소자 및 조정 방법 |
EP2354853B1 (en) * | 2010-02-09 | 2013-01-02 | Carl Zeiss SMT GmbH | Optical raster element, optical integrator and illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus |
EP2407826A1 (en) * | 2010-07-08 | 2012-01-18 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Projection system comprising a solid state light source and a luminescent material. |
KR101714005B1 (ko) * | 2010-07-13 | 2017-03-09 | 삼성전자 주식회사 | 광학 소자 및 이를 포함하는 노광 장치 |
DE102010035111A1 (de) * | 2010-08-23 | 2012-02-23 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Beleuchtungseinheit und Vorrichtung zur lithografischen Belichtung |
US8525973B2 (en) * | 2010-10-13 | 2013-09-03 | Eulitha A.G. | Method and apparatus for printing periodic patterns |
WO2012152294A1 (en) * | 2011-05-06 | 2012-11-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus |
CN102495536B (zh) * | 2011-12-30 | 2015-08-05 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 光刻机 |
FR2996016B1 (fr) * | 2012-09-25 | 2014-09-19 | Sagem Defense Securite | Illuminateur de photolithographie telecentrique selon deux directions |
CN102937778B (zh) * | 2012-11-20 | 2015-04-22 | 北京理工大学 | 一种确定光刻照明系统中各元件之间匹配关系的方法 |
JP6135904B2 (ja) * | 2012-12-19 | 2017-05-31 | カシオ計算機株式会社 | 光源装置及びプロジェクタ |
US20140168971A1 (en) * | 2012-12-19 | 2014-06-19 | Casio Computer Co., Ltd. | Light source unit able to emit light which is less influenced by interference fringes |
JP5682692B2 (ja) | 2012-12-21 | 2015-03-11 | 株式会社リコー | 画像表示装置 |
EP2876499B1 (en) * | 2013-11-22 | 2017-05-24 | Carl Zeiss SMT GmbH | Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus |
CN104808352A (zh) * | 2014-01-23 | 2015-07-29 | 中能激光显示技术(上海)有限公司 | 一种散斑抑制方法及其装置 |
DE102014203040A1 (de) | 2014-02-19 | 2015-08-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen |
JP6715241B2 (ja) * | 2014-06-06 | 2020-07-01 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 |
CN104090400A (zh) * | 2014-06-16 | 2014-10-08 | 南京大学 | 可调马赫-曾德尔干涉仪阵列的制备方法 |
CN104865801B (zh) * | 2015-06-01 | 2017-03-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 曝光装置 |
JP6422828B2 (ja) * | 2015-06-19 | 2018-11-14 | 矢崎総業株式会社 | レンズアレイ及び画像表示装置 |
US10534173B2 (en) | 2015-08-03 | 2020-01-14 | Facebook Technologies, Llc | Display with a tunable mask for augmented reality |
US10297180B2 (en) | 2015-08-03 | 2019-05-21 | Facebook Technologies, Llc | Compensation of chromatic dispersion in a tunable beam steering device for improved display |
US10459305B2 (en) | 2015-08-03 | 2019-10-29 | Facebook Technologies, Llc | Time-domain adjustment of phase retardation in a liquid crystal grating for a color display |
US10552676B2 (en) | 2015-08-03 | 2020-02-04 | Facebook Technologies, Llc | Methods and devices for eye tracking based on depth sensing |
US10338451B2 (en) | 2015-08-03 | 2019-07-02 | Facebook Technologies, Llc | Devices and methods for removing zeroth order leakage in beam steering devices |
US10416454B2 (en) | 2015-10-25 | 2019-09-17 | Facebook Technologies, Llc | Combination prism array for focusing light |
US10247858B2 (en) | 2015-10-25 | 2019-04-02 | Facebook Technologies, Llc | Liquid crystal half-wave plate lens |
CN105467750B (zh) * | 2015-12-11 | 2019-12-31 | 四川云盾光电科技有限公司 | 一种基于微棱镜阵列的微结构成形方法 |
US10203566B2 (en) | 2015-12-21 | 2019-02-12 | Facebook Technologies, Llc | Enhanced spatial resolution using a segmented electrode array |
CN105589300A (zh) * | 2016-01-07 | 2016-05-18 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 一种光刻照明系统 |
CN106647179A (zh) * | 2016-11-25 | 2017-05-10 | 天津津芯微电子科技有限公司 | 复眼匀光系统、光学引擎及光源优化装置 |
JP6598833B2 (ja) * | 2017-09-11 | 2019-10-30 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
DE102018201009A1 (de) * | 2018-01-23 | 2019-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie |
DE102018202637B4 (de) * | 2018-02-21 | 2021-09-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Bestimmung einer Fokuslage einer Lithographie-Maske und Metrologiesystem zur Durchführung eines derartigen Verfahrens |
CN108303859A (zh) * | 2018-03-19 | 2018-07-20 | 合肥芯碁微电子装备有限公司 | 一种直写光刻机中高利用率高均匀度的led照明系统 |
KR102467826B1 (ko) * | 2018-04-19 | 2022-11-18 | 유리타 아. 게. | 노광 필드를 중첩함으로써 큰 주기적 패턴을 인쇄하기 위한 방법 및 시스템 |
JP6923016B2 (ja) * | 2018-05-24 | 2021-08-18 | 日本精機株式会社 | 光学素子およびプロジェクタ |
US20200133012A1 (en) * | 2018-10-26 | 2020-04-30 | Viavi Solutions Inc. | Optical element and optical system |
JP7208787B2 (ja) * | 2018-12-26 | 2023-01-19 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
JP7511575B2 (ja) | 2019-04-12 | 2024-07-05 | ピーシーエムエス ホールディングス インコーポレイテッド | 光ステアリング層および周期的光学層を有するライトフィールドディスプレイのための光学的方法およびシステム |
DE102019111638A1 (de) * | 2019-05-06 | 2020-11-12 | Jenoptik Optical Systems Gmbh | Optikeinheit und Verfahren zum Betreiben einer Optikeinheit |
EP3855219A1 (en) * | 2020-01-21 | 2021-07-28 | Focuslight Technologies Inc. | Diffuser device |
CN113189780B (zh) * | 2021-04-21 | 2023-03-24 | 吉林省长光瑞思激光技术有限公司 | 一种可实现激光圆方光斑变化的光路整形系统 |
CN114279689B (zh) * | 2021-12-24 | 2022-09-20 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 孔径光阑的衍射效应的检测装置及其方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040036977A1 (en) * | 2002-05-27 | 2004-02-26 | Nikon Corporation | Optical illumination device, exposure device and exposure method |
WO2005078522A2 (en) * | 2004-02-17 | 2005-08-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus |
TWI247189B (en) * | 2003-10-10 | 2006-01-11 | Canon Kk | Illumination optical system and exposure apparatus having the same |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60232552A (ja) | 1984-05-02 | 1985-11-19 | Canon Inc | 照明光学系 |
US5523193A (en) * | 1988-05-31 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for patterning and imaging member |
US5119235A (en) * | 1989-12-21 | 1992-06-02 | Nikon Corporation | Focusing screen and method of manufacturing same |
EP0527166B1 (de) * | 1990-05-02 | 1995-06-14 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Belichtungsvorrichtung |
DE4023904A1 (de) | 1990-07-27 | 1992-01-30 | Zeiss Carl Fa | Spiegel zur veraenderung der geometrischen gestalt eines lichtbuendels |
US5229872A (en) * | 1992-01-21 | 1993-07-20 | Hughes Aircraft Company | Exposure device including an electrically aligned electronic mask for micropatterning |
JP2946950B2 (ja) | 1992-06-25 | 1999-09-13 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた露光装置 |
JP3208863B2 (ja) * | 1992-09-04 | 2001-09-17 | 株式会社ニコン | 照明方法及び装置、露光方法、並びに半導体素子の製造方法 |
US5815248A (en) * | 1993-04-22 | 1998-09-29 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and method having a wavefront splitter and an optical integrator |
JP3339593B2 (ja) * | 1993-04-22 | 2002-10-28 | 株式会社ニコン | 投影露光装置、及び該装置を用いた素子製造方法 |
JP3278277B2 (ja) * | 1994-01-26 | 2002-04-30 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法 |
DE19610881B4 (de) * | 1995-12-07 | 2008-01-10 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Mikrosystembaustein |
US5963305A (en) * | 1996-09-12 | 1999-10-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination system and exposure apparatus |
JPH11237503A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-08-31 | Canon Inc | 回折光学素子及びそれを有する光学系 |
EP0952491A3 (en) | 1998-04-21 | 2001-05-09 | Asm Lithography B.V. | Lithography apparatus |
DE19855106A1 (de) * | 1998-11-30 | 2000-05-31 | Zeiss Carl Fa | Beleuchtungssystem für die VUV-Mikrolithographie |
US6583937B1 (en) * | 1998-11-30 | 2003-06-24 | Carl-Zeiss Stiftung | Illuminating system of a microlithographic projection exposure arrangement |
DE10040898A1 (de) * | 2000-08-18 | 2002-02-28 | Zeiss Carl | Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie |
US6259561B1 (en) * | 1999-03-26 | 2001-07-10 | The University Of Rochester | Optical system for diffusing light |
JP3919419B2 (ja) * | 2000-03-30 | 2007-05-23 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを有する露光装置 |
TW498408B (en) * | 2000-07-05 | 2002-08-11 | Asm Lithography Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
JP2004526331A (ja) * | 2001-05-15 | 2004-08-26 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ |
JP3605047B2 (ja) * | 2001-05-22 | 2004-12-22 | キヤノン株式会社 | 照明装置、露光装置、デバイス製造方法及びデバイス |
NL1018943C2 (nl) | 2001-09-13 | 2003-03-14 | Tno | Werkwijze en inrichting voor het polijsten van een werkstukoppervlak. |
JP4859311B2 (ja) * | 2001-09-17 | 2012-01-25 | 株式会社リコー | レーザ照明光学系、該光学系を用いた露光装置、レーザ加工機、及び投射装置 |
KR100431883B1 (ko) * | 2001-11-05 | 2004-05-17 | 삼성전자주식회사 | 노광방법 및 투영 노광 장치 |
TW200307179A (en) * | 2002-05-27 | 2003-12-01 | Nikon Corp | Lighting device, exposing device and exposing method |
DE10327733C5 (de) * | 2003-06-18 | 2012-04-19 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Formung eines Lichtstrahls |
US7106517B2 (en) * | 2003-12-31 | 2006-09-12 | General Electric Company | Display optical films |
WO2005076083A1 (en) * | 2004-02-07 | 2005-08-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus |
CN2725938Y (zh) * | 2004-07-19 | 2005-09-14 | 颖台科技股份有限公司 | 高均匀度发光的直下式背光模组结构 |
US20070081138A1 (en) * | 2005-10-11 | 2007-04-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus, device manufacturing methods and mask for use in a device manufacturing method |
WO2007093433A1 (de) | 2006-02-17 | 2007-08-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem für die mikro-lithographie, projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen beleuchtungssystem |
EP1984788B1 (en) * | 2006-02-17 | 2011-09-21 | Carl Zeiss SMT GmbH | Optical integrator for an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus |
TWI545352B (zh) | 2006-02-17 | 2016-08-11 | 卡爾蔡司Smt有限公司 | 用於微影投射曝光設備之照明系統 |
DE102006012034A1 (de) * | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System, insbesondere in einer Beleuchtungseinrichtung einer Projektionsbelichtungsanlage |
-
2007
- 2007-02-12 TW TW103101973A patent/TWI545352B/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-02-12 TW TW096104997A patent/TWI456267B/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-02-14 CN CN201210319088.4A patent/CN102799079B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-02-14 JP JP2008554668A patent/JP4852617B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-02-14 CN CN2007800055426A patent/CN101384966B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-02-14 KR KR1020087022632A patent/KR101276927B1/ko active IP Right Grant
- 2007-02-14 WO PCT/EP2007/001267 patent/WO2007093396A1/en active Application Filing
- 2007-02-14 EP EP07703454.4A patent/EP1984787B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-02-16 CN CN2007800057718A patent/CN101384967B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-02-16 CN CN2007800135613A patent/CN101421674B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-08-12 US US12/190,308 patent/US8395756B2/en active Active
-
2011
- 2011-07-11 JP JP2011152698A patent/JP4933671B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-02-06 US US13/760,268 patent/US9217930B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-11-19 US US14/946,284 patent/US9575414B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040036977A1 (en) * | 2002-05-27 | 2004-02-26 | Nikon Corporation | Optical illumination device, exposure device and exposure method |
TWI247189B (en) * | 2003-10-10 | 2006-01-11 | Canon Kk | Illumination optical system and exposure apparatus having the same |
WO2005078522A2 (en) * | 2004-02-17 | 2005-08-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9575414B2 (en) | 2017-02-21 |
WO2007093396A1 (en) | 2007-08-23 |
KR20080106264A (ko) | 2008-12-04 |
EP1984787A1 (en) | 2008-10-29 |
CN101421674A (zh) | 2009-04-29 |
JP4852617B2 (ja) | 2012-01-11 |
JP4933671B2 (ja) | 2012-05-16 |
US8395756B2 (en) | 2013-03-12 |
TW201421079A (zh) | 2014-06-01 |
TWI545352B (zh) | 2016-08-11 |
CN102799079B (zh) | 2015-09-30 |
CN101384967B (zh) | 2011-10-26 |
US20130148092A1 (en) | 2013-06-13 |
CN101384966B (zh) | 2012-10-10 |
US20160077446A1 (en) | 2016-03-17 |
JP2009527112A (ja) | 2009-07-23 |
CN101384967A (zh) | 2009-03-11 |
US20090021716A1 (en) | 2009-01-22 |
CN101384966A (zh) | 2009-03-11 |
CN102799079A (zh) | 2012-11-28 |
TW200732702A (en) | 2007-09-01 |
CN101421674B (zh) | 2013-06-12 |
US9217930B2 (en) | 2015-12-22 |
EP1984787B1 (en) | 2013-05-08 |
JP2012028767A (ja) | 2012-02-09 |
KR101276927B1 (ko) | 2013-06-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI456267B (zh) | 用於微影投射曝光設備之照明系統 | |
JP6778179B2 (ja) | 光拡散装置 | |
JP2007525027A5 (zh) | ||
JP6043229B2 (ja) | 拡散板およびこれを用いた光学機器 | |
TWI588514B (zh) | 光學元件,光學系統,成像裝置,光學儀器,及壓模 | |
CN1352761A (zh) | 带光不对称发散装置的背投屏幕 | |
JP2007525027A (ja) | マイクロリソグラフィ投射露光装置用照射システム | |
JP6501187B2 (ja) | 2つの方向においてテレセントリックであるフォトリソグラフィック照明器 | |
CN109031899A (zh) | 一种高分辨率高效率投影光刻成像系统及曝光方法 | |
CN112654492B (zh) | 立体印刷设备 | |
TW200809135A (en) | Optical diffusion module | |
TWI610088B (zh) | 截頂型鏡片,截頂型鏡片對及相應裝置的製造方法 | |
US11353639B2 (en) | Anti-glare, privacy screen for windows or electronic device displays | |
JP2008529290A5 (zh) | ||
JP2021507279A (ja) | 光学系 | |
US20210132262A1 (en) | Micro-lens array, projection type image display device, method for designing micro-lens array, and method for manufacturing micro-lens array | |
US20220214023A1 (en) | Light transmissive structures for redistribution of light and lighting systems including same | |
TW201403188A (zh) | 光配向曝光方法及光配向曝光裝置 | |
WO2022190490A1 (ja) | 照明ユニットおよび照明用レンズ | |
JP2012008427A (ja) | 露光装置 | |
WO2013097479A1 (zh) | 匀光元件及光源系统 | |
CN109154682B (zh) | 光学输出设备和设计方法 | |
JP2010192471A5 (zh) | ||
JP6832588B2 (ja) | 光学系装置 | |
JP2008182244A (ja) | マイクロリソグラフ投影露光装置の照明系用光インテグレータ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |