JP4836922B2 - 転写方法及び転写装置 - Google Patents

転写方法及び転写装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4836922B2
JP4836922B2 JP2007281043A JP2007281043A JP4836922B2 JP 4836922 B2 JP4836922 B2 JP 4836922B2 JP 2007281043 A JP2007281043 A JP 2007281043A JP 2007281043 A JP2007281043 A JP 2007281043A JP 4836922 B2 JP4836922 B2 JP 4836922B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transfer
resin
base film
mold
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007281043A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009107193A (ja
JP2009107193A5 (ja
Inventor
光明 芹澤
正幸 八木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2007281043A priority Critical patent/JP4836922B2/ja
Application filed by Toshiba Machine Co Ltd filed Critical Toshiba Machine Co Ltd
Priority to US12/740,816 priority patent/US20100229790A1/en
Priority to KR1020107009448A priority patent/KR101187162B1/ko
Priority to PCT/JP2008/069769 priority patent/WO2009057700A1/ja
Priority to TW097141775A priority patent/TW200940324A/zh
Priority to EP08843423.8A priority patent/EP2208608B1/en
Publication of JP2009107193A publication Critical patent/JP2009107193A/ja
Publication of JP2009107193A5 publication Critical patent/JP2009107193A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4836922B2 publication Critical patent/JP4836922B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • B29C59/04Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts
    • B29C59/046Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts for layered or coated substantially flat surfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • B29C59/026Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing of layered or coated substantially flat surfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2035Exposure; Apparatus therefor simultaneous coating and exposure; using a belt mask, e.g. endless
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/0805Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B29C2035/0827Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/263Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/265Apparatus for the mass production of optical record carriers, e.g. complete production stations, transport systems

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

この発明は、型を用いて樹脂の表面に微細な凹凸形状を賦形する転写方法及び転写装置に係り、特にベースフィルムに樹脂を塗工し、該樹脂に型を押付けて凹凸形状のパターンを転写する転写方法及び転写装置に関する。
従来、光学記録媒体等の微細な凹凸形状のパターンを形成する方法として、紫外線硬化性樹脂等の樹脂に型を押付けて該パターンを賦形する転写方法がある。この転写方法は、例えば特許文献1に開示されているように、巻出部から繰り出される樹脂シートにディスペンサ法やロール転写法により紫外線硬化性樹脂を塗布し、この塗布された紫外線硬化性樹脂に型であるスタンパーを押付けて賦形すると共に、賦形した紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射して該樹脂を硬化させるなどの方法である。
樹脂シートに樹脂を塗布する方法としては、上記ディスペンサ法やロール転写法のほか、塗工ダイから樹脂をフィルム状に吐出して樹脂シートに塗布するいわゆる塗工法もあるが、従来の塗布方法は、いずれも樹脂シートに樹脂を連続して塗布する方法であった。
しかしながら、賦形のための型は、上記特許文献1もそうであるように、樹脂シートの走行方向に連続したものではなく、例えばロールの円周面の一部にのみ取り付けられたものであり、型が存在しない部分があるのが一般的である。
この型のない部分は、パターンが転写されることなく樹脂が硬化するため、樹脂が無駄になり、また、樹脂が型の溝に入り込むことがないため、塗布量が多いと、樹脂が溢れて運転に支障をきたすことがあった。
ところで、上記塗工法には、特許文献2に開示されている間欠塗工方法がある。この間欠塗工方法は、シート状の基材に塗布剤を間欠的に塗布する方法であり、この間欠塗工方法をこの発明の対象である転写方法に取り入れれば、極めて好都合な転写が可能となる。
特開平11−345436号公報 特開2002−45762号公報
この発明は、上記間欠塗工方法を転写の分野に取り込むことにより、樹脂の無駄を防ぐと共に、型がない部分への樹脂の供給をなくして良好な転写を可能にすることのできる転写方法及び転写装置を提供することを目的としている。
上記目的を達成するためのこの発明による転写方法は、ベースフィルムに樹脂を塗工し、該樹脂に型を押付けて凹凸形状のパターンを転写する転写方法において、前記ベースフィルムに対し樹脂を塗工ダイから間欠的に吐出して該樹脂を前記ベースフィルムに間欠的に塗工すると共に、この間欠塗工と同期させて前記型を前記間欠的に塗工された樹脂に押付けて前記パターンを転写することを特徴としている。
なお、前記間欠塗工及び転写は、前記ベースフィルムの走行距離により同期されることが好ましく、また、前記ベースフィルムは連続走行し、連続回転するロールの周面に型を設けたロール式の型により転写する方法であってよく、さらにまた、前記ベースフィルムは間欠的に走行し、互いに対向して開閉されるプレス式の型により転写する方法であってもよい。
また、上記目的を達成するためのこの発明による転写装置は、ベースフィルムに樹脂を塗工し、該樹脂に型を押付けて凹凸形状のパターンを転写する転写装置において、前記ベースフィルムに対し樹脂を塗工ダイから間欠的に吐出して該樹脂を前記ベースフィルムに間欠的に塗工する間欠塗工部と、前記型を前記間欠的に塗工された樹脂に押付けて前記パターンを転写する転写部と、前記間欠塗工部と転写部を互いに同期して作動させる同期制御部とを備えてなることを特徴としている。
なお、前記同期制御部は、前記ベースフィルムの走行距離検出器を有し、前記ベースフィルムの走行距離により同期を取るように構成されていることが好ましく、また、前記型は、連続回転するロールの周面に型を設けたロール式の型又は、互いに対向して開閉されるプレス式の型のいずれであってもよい。
この発明は、上記のように前記ベースフィルムに対し樹脂を塗工ダイから間欠的に吐出して該樹脂を前記ベースフィルムに間欠的に塗工すると共に、この間欠塗工と同期させて前記型を前記間欠的に塗工された樹脂に押付けて凹凸形状のパターンを転写するため、樹脂の無駄を防ぐと共に、型がない部分への樹脂の供給をなくして良好な転写が可能となる効果を得ることができる。
以下、この発明の一実施形態例について図1ないし図3を参照して説明する。図1は、この発明による転写装置の概要構成図であり、10は後述する間欠塗工部であり、20は間欠塗工部10の一部を構成する塗工ダイである。
塗工ダイ20は、繰出部40から繰出されるベースフィルム41を巻き掛けて走行させるバックアップロール42の周面に対向配置され、ベースフィルム41に例えば紫外線硬化性樹脂からなる塗布膜43を後述するように間欠的に塗布すなわち塗工する。
44は転写部で、型45を周面に取り付けた型ロール46と、この型ロール46と対をなして近接配置された加圧ロール47とからなるいわゆるロール式の型のよるものであり、型ロール46に対向する紫外線照射装置48を有している。これらは一般的な転写装置と同様の構成であるため、詳細な説明は省略するが、型ロール46は、図2に示すように、型ロール46の周面の一部にのみ型45が取り付けられている。
転写部44で型45により塗布膜43に転写されたベースフィルム41は巻取部49に巻き取られる。
図3は、間欠塗工部10の一例を示すもので、上記特許文献2に記載されたものの1つである。この間欠塗工部10は、塗布ダイすなわち塗工ダイ20に塗布剤21を注入口22から導入し、マニホールド23へ一旦溜めた後、供給通路24を介してリップ25にある吐出口26からフィルム状に吐出して上方向に走行する基材すなわち図1に示したベースフィルム41の表面に塗布剤21を塗布する。
供給通路24の途中には通路の一部を構成するダイヤフラム28が設けてあり、このダイヤフラム28にはねじ軸29が連結され、このねじ軸29は、軸受32により回転のみ可能に取り付けられたボールナット33に螺合されている。ボールナット33はカップリング31を介してサーボモータ30に連結されている。
サーボモータ30は、コントローラ35、サーボドライバー36及びパルス発生器37により回転量及び回転速度を自動制御され、位置変位設定曲線34のように回転角度Θに対しダイヤフラム28が変位量Xとなるように該ダイヤフラム28を変位させるように構成されている。
しかして、ダイヤフラム28が上方へ変位して塗布剤引込み空間38の容積が増加するときには、注入口22から導入された塗布剤21はこの空間38内へ引込まれて蓄えられる。このためダイヤフラム28が上方へ変位するときには、吐出口26からの塗布剤21の吐出が停止する。
他方、ダイヤフラム28が下方へ変位して塗布剤引込み空間38の容積が減少するときには、塗布剤引込み空間38に蓄えられた塗布剤21は供給通路24へ吐出され、注入口22から導入された塗布剤21と合流して吐出口26から吐出される。これにより図3に示すように、ベースフィルム41に塗布膜43が間欠的に塗工される。
上記間欠塗工部10のコントローラ35には、図1に示すように、型ロール46に取り付けられてベースフィルム41の走行距離を検出する走行距離検出器50が接続されている。この走行距離検出器50は、間欠塗工部10と転写部44との同期を取るための同期制御部を構成するものであり、型ロール46の回転に同期、すなわちベースフィルム41の走行距離に同期して間欠塗工部10を作動させ、ベースフィルム41に塗工された塗布膜43が型ロール46上の型45に合致するように構成されている。
次いでこの装置の作用について説明する。繰出部40から繰出されたベースフィルム41には、間欠塗工部10の塗工ダイ20から間欠的に吐出される塗布剤21としての紫外線硬化性樹脂からなる塗布膜43が間欠的に塗工される。
ベースフィルム41上の塗布膜43は、ベースフィルム41の走行により転写部44へ搬送され、型ロール46の型45と加圧ロール47により転写が行われる。このとき、塗布膜43は、型45に対向する部分に限定された面積に形成されているため、塗布膜43を形成する紫外線硬化性樹脂の無駄がなくなると共に、型45及びその凹凸形状のパターンがない部分への該樹脂の供給はなく、このため該樹脂が溢れて運転に支障をきたすなどの不都合を生じることがなく、良好な転写が行われる。
上記転写が行われた塗布膜43は、紫外線照射装置48により硬化されて転写工程を終了し、ベースフィルム41と共に巻取部49に巻き取られる。
図4は、この発明の他の実施形態例を示す概要構成図である。図1に示した実施形態例では、連続回転する型ロール46からなるロール式の型45を用いてベースフィルム41を連続走行させる例を示したが、この図4に示す他の実施形態例は、互いに対向して開閉されるプレス式の型45Aを用いた転写部44Aとし、ベースフィルム41は、繰出部40から間欠的に繰出し、巻取部49へ間欠的に巻き取る間欠走行としたものである。
なお、51は型44Aを開閉及び押圧するための加圧装置、52は透明な受台であり、走行距離検出器50はバックアップロール42に取り付けられ、間欠塗工部10と転写部44Aをベースフィルム41の走行距離に同期して作動させるように構成されている。
この装置は、間欠的に走行するベースフィルム41に対して間欠塗工部10により間欠的に塗布膜43を塗工し、この塗布膜43を転写部44Aに対応する位置で停止させ、この停止中にプレス式の型45Aにより転写を行う。この装置においても図1に示した装置と同様の効果が得られる。
前述した実施形態例においては、間欠塗工部10の吐出口26から塗布剤21を間欠的に吐出させるための塗布剤引込み空間38を塗工ダイ20に設けた例を示したが、この発明はこれに限定されるものではなく、塗布剤引込み空間38は注入口22の上流側の塗布剤供給通路に設けてもよく、また、塗布剤引込み空間38の容積を増減させる手段としては、ダイヤフラム28に限らず、シリンダとピストンからなるものなど種々の間欠塗工装置を適用することができる。さらにまた、塗布膜43を形成する樹脂は、紫外線硬化性樹脂に限らず、熱硬化性樹脂等の他の硬化性樹脂であってもよいことは言うまでもない。
この発明は、ベースフィルムに樹脂を塗工し、該樹脂に間欠的に型を押付けて凹凸形状のパターンを転写する転写方法及び転写装置に適用される。
この発明による転写装置の一実施形態例を示す概要構成図。 図1の型及び型ロールを示す拡大図で、aは平面図、bは側面図。 図1の間欠塗工部の一例を示す概要構成図。 この発明による転写装置の他の実施形態例を示す概要構成図。
符号の説明
10 間欠塗工部
20 塗工ダイ
21 塗布剤
22 注入口
23 マニホールド
24 供給通路
25 リップ
26 吐出口
28 ダイヤフラム
29 ねじ軸
30 サーボモータ
31 カップリング
32 軸受
33 ボールナット
34 位置変位設定曲線
35 コントローラ
36 サーボドライバー
37 パルス発生器
38 塗布剤引込み空間
40 繰出部
41 ベースフィルム
42 バックアップロール
43 塗布膜
44、44A 転写部
45、45A 型
46 型ロール
47 加圧ロール
48 紫外線照射装置
49 巻取部
50 走行距離検出器(同期制御部)
51 加圧装置
52 受台

Claims (8)

  1. ベースフィルムに樹脂を塗工し、該樹脂に型を押付けて凹凸形状のパターンを転写する転写方法において、前記ベースフィルムに対し樹脂を塗工ダイから間欠的に吐出して該樹脂を前記ベースフィルムに間欠的に塗工すると共に、この間欠塗工と同期させて前記型を前記間欠的に塗工された樹脂に押付けて前記パターンを転写することを特徴とする転写方法。
  2. 前記間欠塗工及び転写は、前記ベースフィルムの走行距離により同期されることを特徴とする請求項1に記載の転写方法。
  3. 前記ベースフィルムは連続走行し、連続回転するロールの周面に型を設けたロール式の型により転写することを特徴とする請求項1又は2に記載の転写方法。
  4. 前記ベースフィルムは間欠的に走行し、互いに対向して開閉されるプレス式の型により転写することを特徴とする請求項1又は2に記載の転写方法。
  5. ベースフィルムに樹脂を塗工し、該樹脂に型を押付けて凹凸形状のパターンを転写する転写装置において、前記ベースフィルムに対し樹脂を塗工ダイから間欠的に吐出して該樹脂を前記ベースフィルムに間欠的に塗工する間欠塗工部と、前記型を前記間欠的に塗工された樹脂に押付けて前記パターンを転写する転写部と、前記間欠塗工部と転写部を互いに同期して作動させる同期制御部とを備えてなることを特徴とする転写装置。
  6. 前記同期制御部は、前記ベースフィルムの走行距離検出器を有し、前記ベースフィルムの走行距離により同期を取るように構成されていることを特徴とする請求項5に記載の転写装置。
  7. 前記型は、連続回転するロールの周面に型を設けたロール式の型であることを特徴とする請求項5又は6に記載の転写装置。
  8. 前記型は、互いに対向して開閉されるプレス式の型であることを特徴とする請求項5又は6に記載の転写装置。
JP2007281043A 2007-10-30 2007-10-30 転写方法及び転写装置 Active JP4836922B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007281043A JP4836922B2 (ja) 2007-10-30 2007-10-30 転写方法及び転写装置
KR1020107009448A KR101187162B1 (ko) 2007-10-30 2008-10-30 전사 방법 및 전사 장치
PCT/JP2008/069769 WO2009057700A1 (ja) 2007-10-30 2008-10-30 転写方法及び転写装置
TW097141775A TW200940324A (en) 2007-10-30 2008-10-30 Transfer method and transfer device
US12/740,816 US20100229790A1 (en) 2007-10-30 2008-10-30 Transfer method and transfer apparatus
EP08843423.8A EP2208608B1 (en) 2007-10-30 2008-10-30 Transfer method and transfer device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007281043A JP4836922B2 (ja) 2007-10-30 2007-10-30 転写方法及び転写装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009107193A JP2009107193A (ja) 2009-05-21
JP2009107193A5 JP2009107193A5 (ja) 2011-10-06
JP4836922B2 true JP4836922B2 (ja) 2011-12-14

Family

ID=40591084

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007281043A Active JP4836922B2 (ja) 2007-10-30 2007-10-30 転写方法及び転写装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20100229790A1 (ja)
EP (1) EP2208608B1 (ja)
JP (1) JP4836922B2 (ja)
KR (1) KR101187162B1 (ja)
TW (1) TW200940324A (ja)
WO (1) WO2009057700A1 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5483251B2 (ja) * 2009-07-10 2014-05-07 株式会社ニコン パターン形成装置、パターン形成方法、デバイス製造装置、及びデバイス製造方法
JP5962058B2 (ja) * 2012-02-28 2016-08-03 富士ゼロックス株式会社 レンズ製造装置
JP2015181981A (ja) * 2014-03-20 2015-10-22 Jx日鉱日石エネルギー株式会社 帯状のフィルム基材上に不連続なパターンを有する塗膜を形成するための塗布装置及び塗膜形成方法
JP2015085659A (ja) * 2013-11-01 2015-05-07 Jx日鉱日石エネルギー株式会社 凹凸パターンを有する帯状のフィルム部材の製造方法及び製造装置
JP6157391B2 (ja) * 2014-03-20 2017-07-05 Jxtgエネルギー株式会社 帯状のフィルム基材上に不連続な塗膜を形成するための塗布装置及び塗布方法
WO2015064685A1 (ja) * 2013-11-01 2015-05-07 Jx日鉱日石エネルギー株式会社 帯状のフィルム基材上に不連続なパターンを有する塗膜を形成するための塗布装置、及び凹凸パターンを有する帯状のフィルム部材の製造方法
JP2015181979A (ja) * 2014-03-20 2015-10-22 Jx日鉱日石エネルギー株式会社 帯状のフィルム基材の長手方向及び幅方向において不連続な塗膜を形成できる塗布装置及び塗膜形成方法
JP2017030188A (ja) 2015-07-30 2017-02-09 東芝機械株式会社 フィルムのパターン転写装置およびフィルムのパターン転写方法
US10073718B2 (en) * 2016-01-15 2018-09-11 Intel Corporation Systems, methods and devices for determining work placement on processor cores
JP6606449B2 (ja) * 2016-03-23 2019-11-13 東芝機械株式会社 転写装置および転写方法
JP6751602B2 (ja) * 2016-06-23 2020-09-09 洋治 杉山 転写加工方法、転写加工装置、及び転写加工製品
JP7217440B2 (ja) * 2019-05-15 2023-02-03 パナソニックIpマネジメント株式会社 フィルム構造体の製造方法および製造装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5318807A (en) * 1991-10-28 1994-06-07 Juan Grifoll Casanovas Process for preparing printed sheets with optical effects
US5330799A (en) * 1992-09-15 1994-07-19 The Phscologram Venture, Inc. Press polymerization of lenticular images
JP4596614B2 (ja) 2000-08-04 2010-12-08 東芝機械株式会社 基材表面に間欠的に塗布剤を塗布する装置
JP2003181918A (ja) * 2001-12-19 2003-07-03 Dainippon Printing Co Ltd 賦型用ローラ、賦型された表面を有する積層フィルムの製造方法、および賦型された積層フィルム
US7344665B2 (en) * 2002-10-23 2008-03-18 3M Innovative Properties Company Coating die with expansible chamber device
JP2005035119A (ja) * 2003-07-18 2005-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd エンボスロールの製法及び該エンボスロールを使用した転写シートの製法
US20050231809A1 (en) * 2003-09-09 2005-10-20 Carlson Daniel H Microreplicated polarizing article
JP4772465B2 (ja) * 2004-11-26 2011-09-14 パナソニック株式会社 薄膜の間欠塗工方法
US7611582B2 (en) * 2005-02-25 2009-11-03 The Procter & Gamble Company Apparatus and method for the transfer of a fluid to a moving web material
US7731348B2 (en) * 2005-04-25 2010-06-08 Konica Minolta Holdings, Inc. Inkjet recording apparatus
US20060263530A1 (en) * 2005-05-19 2006-11-23 General Electric Company Process for making non-continuous articles with microstructures
JP2007260485A (ja) * 2006-03-27 2007-10-11 Toray Ind Inc 塗布方法、塗布装置および液晶ディスプレイ用部材の製造方法
JP4970975B2 (ja) * 2007-02-14 2012-07-11 日立マクセル株式会社 光学シート用成形体の製造方法、光学シート用成形体の製造装置、及び光学シート用成形体

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100077185A (ko) 2010-07-07
JP2009107193A (ja) 2009-05-21
WO2009057700A1 (ja) 2009-05-07
TW200940324A (en) 2009-10-01
EP2208608A1 (en) 2010-07-21
KR101187162B1 (ko) 2012-09-28
EP2208608B1 (en) 2020-08-26
US20100229790A1 (en) 2010-09-16
EP2208608A4 (en) 2014-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4836922B2 (ja) 転写方法及び転写装置
CN108472980B (zh) 用于将薄膜的转印层施加到基质上的方法和施加设备
JP2020172110A (ja) フォイルを適用するための方法、適用装置及びプリント装置
EP3094478B1 (en) Additive manufacturing system for manufacturing a three dimensional object
DE102006021069B4 (de) Druckerpresse mit holographischer Endbearbeitungseinheit
RU2501658C2 (ru) Печатное устройство, в котором применяются термическое впечатывание роликом и пластина с нанесенным рисунком (варианты), устройство пленочного ламинирования для микрожидкостного датчика и способ печати
CN104608370A (zh) 基于卷对卷uv固化聚合物薄膜表面微结构加工系统及方法
JP2007532352A (ja) エンボス装置を有する印刷機
US8316764B1 (en) Apparatus and method for adding a registered image on a sheeted substrate
JP2011520650A (ja) 加工機内において枚葉紙材料にコールドフィルム材料を付着させる方法及び装置
CN103946034A (zh) 箔片压印方法以及用于该方法的装置
CN103660103A (zh) 基于带状模具的薄膜双面微结构卷对卷uv固化成型装置
JP2008279769A (ja) コールドフォイルエンボス法で用いるためのブランケット
CN110497688A (zh) 烫金机
JP3965590B2 (ja) 紫外線硬化型ホットメルト粘着剤の塗布方法
US20220024113A1 (en) Method and device for obtaining a raised pattern on a substrate
JP2014094562A (ja) 印刷機においてシートをフィルムでコーティングする方法
JP2000093880A (ja) ホットメルト接着剤の塗布方法
US20230398728A1 (en) Roll-to-roll-imprinting
JP2002225133A (ja) 凹凸フィルムの製造方法及びその製造装置
JP3015267B2 (ja) 紙面加工装置
JP2004090539A (ja) 光学物品の製造方法、光学物品、画像投影スクリーン及び画像投影装置
JP2004181906A (ja) エンボスシートの製造方法
JP2009018277A (ja) 塗布方法および塗布装置
CN105856936A (zh) 制造用于加工承印物的工具版的方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091014

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110823

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110913

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110927

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141007

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4836922

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350