JP4832691B2 - 3層の金属配線を用いたフラッシュメモリアーキテクチャ - Google Patents
3層の金属配線を用いたフラッシュメモリアーキテクチャ Download PDFInfo
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Description
【技術分野】
この発明は一般的に、不揮発性メモリデバイスに関し、より特定的には、フラッシュ電気消去可能プログラマブル読出し専用メモリ(EEPROM)デバイスにおけるワード線をデコードするための方法およびシステムに関する。
【0002】
【背景技術】
フラッシュメモリは、連続的な電力がない場合でも情報を記憶しかつ非常にコンパクトな形態で構成することが可能であることから普及しているメモリストレージデバイスである。フラッシュメモリは典型的に、シリコン基板に複数のフローティングゲートトランジスタを製造することによって構成される。フローティングゲートトランジスタは、フローティングゲートとして知られる別個のゲート電極上において、または制御ゲート電極の下にある誘電体層において電荷をストアすることが可能である。一般的に、データはフローティングゲートにおいて電荷を格納することによって不揮発性メモリデバイスに記憶される。
【0003】
フラッシュEEPROMデバイスにおいて、電子は、トンネル酸化物層として知られる薄い誘電体層を介してフローティングゲート電極へ移動し、トンネル酸化物層はフローティングゲート電極と下にある基板との間に位置する。典型的に、電子移動はチャネルホットエレクトロン(「CHE」)注入またはファウラー・ノルドハイムトンネルによって行なわれる。いずれの電子移動機構においても、電圧が制御ゲート電極によってフローティングゲート電極に結合される。制御ゲート電極は、制御ゲート電極に印加される電圧がフローティングゲート電極に結合される態様でフローティングゲート電極に容量結合される。あるタイプのデバイスにおいて、制御ゲート電極は多結晶シリコンゲート電極であり、フローティングゲート電極の上にありこれから誘電体層によって分離される。別のタイプのデバイスでは、フローティングゲート電極は半導体基板におけるドープされた領域である。
【0004】
フラッシュメモリデバイスは、フラッシュトランジスタの行および列により形成され、各々のトランジスタはセルと称される。ワード線デコーダはメモリデバイスの各セクタにおけるトランジスタの行に動作電圧を与え、典型的に、そのセクタにおける各トランジスタのゲートに接続される。ビット線デコーダは、トランジスタの列に動作電圧を与え、典型的に、各列におけるトランジスタのドレインに接続される。一般的に、トランジスタのソースは共通のソースラインに結合されており、ソースラインコントローラによって制御される。
【0005】
セルは典型的に、制御ゲートに予め定められた電圧を印加し、ドレインに第2の予め定められた電圧を印加し、ソースを接地することによってプログラムされる。このことによりチャネルホットエレクトロンがドレイン空乏領域からフローティングゲートの中へ注入されることになる。セルは典型的に、制御ゲートに予め定められた電圧を印加し、ドレインが接続されているビット線に第2の予め定められた電圧を印加し、ソースを接地し、次にビット線電流を感知することによって読まれる。セルがプログラムされ、かつしきい値電圧が比較的高い場合、ビット線電流はゼロになるか、または比較的低くなる。セルがプログラムされず、または消去された場合、しきい値電圧は比較的低くなり、制御ゲート電圧がチャネルをエンハンスし、ビット線電流は比較的高くなる。
【0006】
フラッシュメモリデバイスにおいてセルはいくつかの方法で消去できる。ある構成において、セルはソースに予め定められた電圧を印加し、制御ゲートを接地し、ドレインを浮遊させることによって消去される。このことにより、プログラミング中にフローティングゲートに注入された電子がファウラー・ノルドハイムトンネルによってフローティングゲートから薄いトンネル酸化物層を介してソースへと除去されるようにする。
【0007】
デコーディングアーキテクチャの公知の問題は、各セクタにおけるトランジスタの行を選択するデコーディングを行なうのに1つのワード線デコーダが用いられたり、時に2つのワード線デコーダが用いられることである。これらの先行技術のワード線デコーディングアーキテクチャでは、すべてのデコーディング論理がワード線デコーダにおいて各段に位置する。そのような場合、コア区域において部分的デコーディングはなく、このことはワード線デコーダのサイズが大きくなることにつながる。ワード線デコーダの物理的サイズが大きいため、シリコン基板上で空間が浪費されたり、または余分な空間が必要となり、このことによりメモリデバイスのサイズが大きくなる。
【0008】
公知の先行技術のメモリワード線デコーディングアーキテクチャでは、メモリデバイスにおいてワード線デコーダをセルと相互接続するために2つの金属の層が用いられる。トランジスタのサイズが非常に小さいため、トランジスタをデコーダと接続するのに用いられる金属線を歩留まり損失を被ることなく製造するのは非常に困難である。これは、さまざまな電気的構成要素を互いに接続する金属線が互いに非常に近接して堆積されるためであり、このことにより短絡およびノイズの問題につながる。
【0009】
これを受けて、基板上にさほど物理的空間を必要とせず、かつ製造において歩留まり損失が増大しない、メモリワード線をデコードするための改善された方法およびシステムを有するメモリデバイスが必要となる。
【0010】
【発明の概要】
この発明は、先行技術のワード線デコーダアーキテクチャに関連づけられる問題を克服するフラッシュメモリワード線デコーダアーキテクチャを開示する。この好ましいフラッシュメモリは、情報を記憶する複数のセクタを含み、各セクタは複数のハーフセクタに分割される。従来のメモリセクタと同様に、各ハーフセクタはフラッシュトランジスタアレイを作るフラッシュトランジスタの行および列で構成される。好ましいフラッシュメモリはさらに、少なくとも1つのグローバルx−デコーダと電気的に接続される複数の予めデコードされたアドレス線を含む。さらに、フラッシュメモリは、セクタのある行におけるそれぞれ対応のグローバルx−デコーダと電気的に接続される少なくとも1つの垂直x−デコーダおよび少なくとも1つのサブx−デコーダを含む。サブx−デコーダおよび垂直x−デコーダは、フラッシュメモリにおける各ハーフセクタの間に位置づけられる。
【0011】
動作において、グローバルx−デコーダは、予めデコードされたアドレス線に含まれる情報を部分的にデコードし、次に、サブx−デコーダおよび垂直x−デコーダを用いて、適当なセクタにおける予め定められたワード線を選択するデコーディング動作を完了する。フラッシュメモリにおける各グローバルx−デコーダは、少なくとも1つのグローバルワード線出力、少なくとも1つの第2のグローバルワード線出力および複数の垂直アドレス出力を含む。第1のグローバルワード線出力と第2のグローバルワード線出力とは、セクタのある特定の行に位置するそれぞれ対応のサブx−デコーダと電気的に接続される。グローバルx−デコーダの垂直アドレス出力は、セクタのある特定の行における各垂直x−デコーダと電気的に接続される。
【0012】
各サブx−デコーダは、ある特定のセクタに関連づけられる垂直x−デコーダおよびグローバルx−デコーダに電気的に接続される複数のワード線セレクタ回路を含む。特に、第1のグローバルワード線出力、第2のグローバルワード線出力および予め定められた垂直ワード線出力は、各々のそれぞれ対応のワード線セレクタ回路に電気的に接続される。ワード線セレクタ回路は、グローバルx−デコーダおよび垂直x−デコーダからの部分的にデコードされた情報を用いて、あるセクタにおける予め定められたワード線を選択する。この発明では、ワード線デコーダアーキテクチャのサイズを75%ほども減少することによって先行技術のワード線デコーディング方法およびシステムに対して利点をもたらす。
【0013】
この発明の好ましい実施例では、第1のグローバルワード線出力および第2のグローバルワード線出力は、フラッシュメモリ上の第3の金属層として堆積される。当該技術においては公知であるように、1つ以上の導電性金属の層が基板上に堆積されてデバイスの回路構成要素を互いに相互接続して電流経路を完成させる。このプロセスは一般的に、半導体産業においてメタライゼーションと称される。この発明では、第1の金属層および第2の金属層がフラッシュメモリのさまざまな構成要素を相互接続するのに用いられる。前述のように、第3の金属層を用いてグローバルx−デコーダの第1のグローバルワード線出力および第2のグローバルワード線出力をフラッシュメモリにおける各々のそれぞれ対応のサブx−デコーダと相互接続する。
【0014】
現在公知である先行技術のメモリデコーディングアーキテクチャでは、第1および第2の金属層を用いて、ワード線デコーダを各セクタと接続するなど、メモリデバイスのさまざまな構成要素を相互接続する。メモリセルアレイにおいて、ビット線は第1および第2の金属配線層を用いる。この発明では部分的デコーディングのために第1のグローバルワード線出力および第2のグローバルワード線出力を用いるため、セクタごとの予め定められた数のワード線に対して2本の金属線を有しているだけでよい。このことにより、いずれのワード線に対しても1つの金属線を必要とする先行技術の方法に対し、フラッシュメモリのコア区域における第3の金属層の金属線を間隔の広いものとし、好ましい実施例では少なくとも6μmとすることが可能となる。
【0015】
フラッシュメモリにおいて第3の金属層を用いることにより、製造において生じる金属短絡による歩留まり損失の点で不利益が生じることがない。先行技術のメモリデバイスでは、あるセクタにおいてワード線デコーダを各ワード線と接続する金属線は約0.7μmの間隔があけられている。当業者には容易に明らかになるように、製造の見地から、この発明は、各セクタにおいてワード線とワード線デコーダを接続するのに用いられる金属線における短絡により生じる製造における歩留まり損失を増大させないことによって、先行技術の方法に対して利益をもたらす。
【0016】
この発明のこれらおよび他の特徴および利点は、添付の図面と関連して見たこの発明の現在好ましい実施例の以下の詳細な説明を考慮することから明らかになるであろう。
【0017】
【発明を実施するための形態】
この発明の例示的な実施例は、特定の構成に関連して以下に呈示しており、当業者は、特許請求の範囲内に留まりながらその特定の構成にさまざまな変更および修正を行なうことができるのに気づくであろう。この発明はどんなタイプのメモリデバイスと併用してもよいが、この発明の好ましい実施例はフラッシュメモリに対して設計される。また、この発明は、フラッシュメモリにおけるセルの消去およびプログラミングに対しファウラー・ノルドハイム(F−N)およびチャネルホットエレクトロン(CHE)注入を用いるフラッシュメモリデバイスと併用してもよい。
【0018】
すべての電気的パラメータは例によって示されているだけであり、他の電気的パラメータを用いてさまざまなメモリデバイスと用いるように変更することができる。たとえば、好ましい実施例では、供給電圧(Vcc)は3.3Vであると考えられるが、代わりに5V、1.8Vまたは何らかの他の供給電圧であってもよい。異なる供給電圧を選ぶ場合、当該技術では公知であるように、その異なる供給電圧に適応するためさまざまな動作レベルが変更されることとなる。
【0019】
図1は、この発明の実施例を組み込んだ好ましいフラッシュメモリ10の一部を示す。フラッシュメモリ10は、情報を記憶する複数のセクタ12を含み、この発明の好ましい実施例では、セクタ12は複数のハーフセクタ14に分割される。従来のメモリセクタと同様に、各ハーフセクタ14は、フラッシュトランジスタアレイを作るフラッシュトランジスタの行および列で構成される。用いられるある特定のトランジスタアレイは、たとえばNOR、DINOR、NANDおよびAND構成などの、当該技術において公知であるいくつかのトランジスタ構成を用いて構成されてもよい。
【0020】
好ましいフラッシュメモリ10はさらに、少なくとも1つのグローバルx−デコーダ18に電気的に接続される複数の予めデコードされたアドレス線X0−Xn16を含む。さらに、フラッシュメモリ10は、少なくとも1つのサブx−デコーダ20および少なくとも1つの垂直x−デコーダ22を含み、これらはともにセクタ12の行におけるそれぞれ対応のグローバルx−デコーダ18に電気的に接続される。例示されるように、サブx−デコーダ20および垂直x−デコーダ22は、フラッシュメモリ10のセクタ12において各ハーフセクタ14の間に位置づけられる。動作時において、グローバルx−デコーダ18は予めデコードされたアドレス線X0−Xn16に含まれる情報を部分的にデコードし、次に予め定められたサブx−デコーダ20および垂直x−デコーダ22を用いて、適当なセクタ12における予め定められたワード線を選択するデコーディング動作を完了させる。
【0021】
当該技術では公知であるように、ワード線とは各セクタ12に含まれるトランジスタのアレイにおけるフラッシュトランジスタのある特定の行を指して言う。この発明の好ましい実施例では、各セクタ12において512のワード線があり、各ハーフセクタ14において512のビット線がある。動作時には、各グローバルx−デコーダ18は、サブx−デコーダ20によりセクタ12における16のワード線からなるグループをイネーブルできるが、他の実施例ではそれより多いワード線をイネーブルするように設計されてもよい。一旦グローバルx−デコーダ18が16のワード線からなるグループを選択すると、垂直x−デコーダ22を用いて、グローバルx−デコーダ18によってイネーブルされた16のワード線からなるグループのうちの特定のワード線を選択する。この発明のデコーダアーキテクチャは16メガビットフラッシュメモリチップに対して設計されたものであるが、64メガビットおよび128メガビットフラッシュメモリチップにも適応するように拡張されてもよい。当業者は、この発明をさまざまなサイズのメモリチップにおいて用いてもよいことに気づくであろう。
【0022】
図2は、この発明の一実施例を組み込んだ、図1に示されるフラッシュメモリ10の1つの行を示す。前述のように、予めデコードされたアドレス線X0−Xn16は、ある特定のセクタ12における予め定められたワード線に対応するグローバルx−デコーダ18へ複数の電気信号を与えるためにフラッシュメモリ10によって用いられる。グローバルx−デコーダ18が予めデコードされたアドレス線X0−Xn16から電気信号を受けた後、それぞれ対応のサブx−デコーダ20およびそれぞれ対応の垂直x−デコーダ22を用いて適当なワード線が選択される。
【0023】
フラッシュメモリ10における各グローバルx−デコーダ18は、少なくとも1つのグローバルワード線出力24、少なくとも1つの第2のグローバルワード線出力26および複数の垂直アドレス出力28を含む。第1のグローバルワード線出力24および第2のグローバルワード線出力26は、図2に例示されるように、セクタ12のある特定の行における各サブx−デコーダ20と電気的に接続される。垂直アドレス出力32は、セクタ12のある特定の行における各垂直x−デコーダ22と電気的に接続される。
【0024】
グローバルx−デコーダ18および垂直x−デコーダ22は、当該技術において公知であるデコーダアーキテクチャを用いて設計してもよい。当該技術において公知であるように、いずれのメモリデバイスでもその根本的な構成要素はデコーダ回路である。一般的に、デコーダ回路は、入力のすべてのビットが予め定められた1組の値に対応する場合に限って一意の信号を出力する。このため、メモリデバイスのためのデコーダ回路は、デコーダが接続される一連のメモリセルの予め定められたアドレスに入力メモリアドレスが一致する場合にメモリセルの行列におけるある特定のワード線をイネーブルするのに用いられる。この発明は、メモリセルコアアレイを通して異なる段において部分的デコーディングをもたらすことによって先行技術のデコーディングの方法に対して利点をもたらす。
【0025】
図3は、図1および図2に例示される2つのサブx−デコーダ20の好ましい実施例を示す。好ましい実施例では、各サブx−デコーダ20は、それぞれ対応のセクタ12と関連づけられる垂直x−デコーダ22およびグローバルx−デコーダ18に電気的に接続される複数のワード線セレクタ回路30を含む。特に、第1のグローバルワード線出力24、第2のグローバルワード線出力26および、垂直x−デコーダ22からの予め定められた垂直ワード線出力Vwl0−Vwln32は、各々のそれぞれ対応のワード線セレクタ回路30に電気的に接続される。ワード線セレクタ回路30は、グローバルx−デコーダ18および垂直x−デコーダ22からの部分的にデコードされた情報を用いてセクタ12における予め定められたワード線34を選択する。
【0026】
好ましいワード線セレクタ回路30は、低しきい値n−チャネルトランジスタ36、p−チャネルトランジスタ38およびn−チャネルエンハンスメントトランジスタ40を含む。図3に示されるように、低しきい値n−チャネルトランジスタ36のドレインは、垂直x−デコーダ22からのそれぞれ対応の垂直ワード線出力Vwl0−Vwln32に電気的に接続される。低しきい値n−チャネルトランジスタ36のソースは、セクタ12の予め定められたワード線34に電気的に接続される。さらに、低しきい値n−チャネルトランジスタ36のゲートは、グローバルx−デコーダ18の第2のグローバルワード線出力26に電気的に接続される。
【0027】
図3にさらに例示されるように、p−チャネルトランジスタ38のソースは、それぞれ対応の垂直ワード線出力Vwl0−Vwln32に電気的に接続される。p−チャネルトランジスタ38のゲートは、グローバルx−デコーダ18の第1のグローバルワード線出力24に電気的に接続され、ドレインはセクタ12のそれぞれ対応のワード線34に電気的に接続される。さらに、p−チャネルトランジスタ38のn−ウェルは、第1の電圧ノード(Vpx)42に電気的に接続される。第1の電圧ノード(Vpx)42は、動作時においてp−チャネルトランジスタ38のドレインおよびソース接合の順方向バイアスを防ぐのに用いられる。n−チャネルエンハンスメントトランジスタ40のドレインは、セクタ12のそれぞれ対応のワード線34に電気的に接続される。n−チャネルエンハンスメントトランジスタ40のゲートは、グローバルx−デコーダ18の第1のグローバルワード線出力24に電気的に接続され、ソースは第2の電圧ノード(Vxds)44に電気的に接続される。
【0028】
図3には例示されていないが、この発明の好ましい実施例では、各サブx−デコーダ20に対して16のワード線が割当てられている。そのような場合、好ましい実施例において各サブx−デコーダ20に含まれるワード線セレクタ回路30は16ある。同様に、図3に示されるように、各垂直x−デコーダ22は16の垂直ワード線出力Vwl0−Vwln32を有し、これらはそれぞれ対応のワード線セレクタ回路30に個別に接続される。動作時には、グローバルx−デコーダ18の第1のグローバルワード線出力24および第2のグローバルワード線出力26は、選択されたセクタ12における16の行のワード線34をイネーブルする。グローバルx−デコーダ18によって選択された16のワード線34から選択される実際のワード線34は、垂直x−デコーダ22からの垂直ワード線出力Vwl0−Vwln32により選ばれる。このように、選択されたある特定のワード線34は、第1のグローバルワード線出力24と、第2のグローバルワード線出力26と、それぞれ対応の垂直ワード線出力Vwl0−Vwln32との組合せによって選ばれる。
【0029】
前述のように、この発明の好ましい実施例では、セクタ12ごとに512のワード線がある。各サブx−デコーダ20は16のワード線34を扱うように設計されているため、このことは、各セクタ12において32のサブx−デコーダ20が用いられていることを意味する。図2および図3には示していないが、これはまた、各グローバルx−デコーダ18から32の第1のグローバルワード線出力24および第2のグローバルワード線出力26が来ていることを意味する。当業者には、上に言及した構成は例によって示すだけであり、この発明の限定としてみなすべきではないことが理解されるであろう。用いられる厳密な構成はフラッシュメモリ10のサイズに応じて異なる。
【0030】
ワード線セレクタ回路30は、読出し、プログラム、消去およびすべてのテスト機能などのセクタ12のデコーディング動作のあらゆる局面を扱うように設計される。上に呈示した好ましい実施例に関連するところでは、読出しモードにおいて、第1のグローバルワード線出力24はアクティブ・ローに設定され、これによって32の第1のグローバルワード線24のうちの1つがアクティブ・ローとなり残りの31の第1のグローバルワード線出力24がVccを超えて約4.5Vまで昇圧されるようにする。第2のグローバルワード線26はVccに設定され、選択されていない第2のグローバルワード線26は0Vに設定される。選択された垂直ワード線出力Vwl0−Vwln32は4.5Vに設定され、第2の電圧ノード(Vxds)44は電圧回路(図示せず)により0Vに設定される。当業者は、動作時に供給される動作電圧がこの発明の範囲を超えたさまざまな電圧発生回路によって発生されることに気づくであろう。
【0031】
プログラムモードにおいて、選択された第1のグローバルワード線出力24は0Vに設定され、選択されていない第1のグローバルワード線出力24はVpp(8.5V)に設定される。選択された第2のグローバルワード線出力26はVccに設定され、選択されていない第2のグローバルワード線出力26は0Vに設定される。選択された垂直ワード線出力Vwl0−Vwln32はVppに設定され、第2の電圧ノード(Vxds)44は0Vに設定される。動作において、各ワード線セレクタ回路30のp−チャネルトランジスタ38および低しきい値n−チャネルトランジスタ36は、選択されたワード線34へ垂直x−デコーダ22の出力電圧を通過させるCMOS伝達ゲートを構成する。当該技術では公知であるように、フラッシュメモリデバイスにおいて、プログラム動作により、フラッシュメモリセルのフローティングゲート上に電子を置く。この発明の好ましい実施例では、上で言及したプログラミング動作はチャネルホットエレクトロン(CHE)注入プログラミングの一形態である。
【0032】
消去モードにおいて、それぞれ対応のセクタ12におけるワード線34のすべては同時に消去される。好ましい実施例では、第2の電圧ノード(Vxds)44は消去モードにおいて−8.7Vに設定される。さらに、第1のグローバルワード線出力24および第2のグローバルワード線出力26は、グローバルx−デコーダ18により0Vに設定される。垂直x−デコーダ22の垂直ワード線出力Vwl0−Vwln32はすべて、消去動作において−8.7Vに設定される。当該技術では公知であるように、フラッシュメモリデバイスにおいて、消去動作によりフラッシュトランジスタのフローティングゲートから電子が除去される。この好ましい実施例では、フラッシュトランジスタのフローティングゲートから電子を除去するのに負ゲート消去(NGE:negative gate erase)が用いられる。
【0033】
上述のように、この発明は、フラッシュメモリ10のセクタ12における予め定められたワード線34を選択する方法を開示する。好ましい実施例では、複数の予めデコードされたアドレス信号が、複数の予めデコードされたアドレス線16により少なくとも1つのグローバルx−デコーダ18に与えられる。予めデコードされたアドレス信号が、グローバルx−デコーダ18により制御されるある特定のセクタ12に対応している場合、グローバルx−デコーダ18に電気的に接続される選択されたサブx−デコーダ20により複数のワード線34がイネーブルされる。次に、グローバルx−デコーダ18およびサブx−デコーダ20に電気的に接続される垂直x−デコーダ22により、予め定められたワード線34が複数のイネーブルされたワード線34から選択される。
【0034】
図4を参照して、この発明の好ましい実施例では、第1のグローバルワード線出力24および第2のグローバルワード線出力26がフラッシュメモリ10上に第3の金属層46として堆積される。当該技術において公知であるように、導電性金属の1つ以上の層が基板48上に堆積されてデバイスの回路構成要素を互いに相互接続する。このプロセスはしばしば、半導体産業においてメタライゼーションと称される。この発明では、第1の金属層50および第2の金属層52がフラッシュメモリ10の他の電気的構成要素を相互接続するのに用いられる。当該技術において公知であるように、誘電体層54が典型的に、金属層の間に堆積されて、基板48上で各金属層に含まれるさまざまな金属線を互いに分離する。第3の金属層46は、フラッシュメモリ10において各々のそれぞれ対応のサブx−デコーダ20と、グローバルx−デコーダ18の第1のグローバルワード線出力24および第2のグローバルワード線出力26とを相互に接続するのに用いられる。
【0035】
現在公知である先行技術のメモリデコーディングアーキテクチャでは、第1および第2の金属層50、52を用いてメモリデバイスの電気的構成要素を相互接続する。この発明は、サブx−デコーダ20に送られた情報を部分的にデコードするのに第1のグローバルワード線出力24および第2のグローバルワード線出力26を用いるため、16のワード線34からなる各グループに対して2本の金属線を有しているだけでよい。このことにより、各セクタにおいていずれのワード線に対しても1本の金属線を必要とする先行技術の方法に対し、グローバルワード線出力24および第2のグローバルワード線出力26からなるフラッシュメモリ10のコア区域における第3の金属層46の間隔を幅広くあけ、好ましい実施例では少なくとも6μmとすることが可能となる。
【0036】
メモリコアアレイに第3の金属層46を追加することにより、製造において生じ得る金属短絡による歩留まり損失の点で不利益は何ら生じない。先行技術のメモリデバイスにおいて、あるセクタ12において各ワード線にワード線デコーダを接続するのに用いられる金属線は約0.7μmの間隔があけられている。当業者には容易に明らかになるであろうように、製造の見地から、これにより、金属線における短絡のために生じる歩留まり損失を増大させないことによって利益がもたらされる。また当業者は、フラッシュメモリ10において用いられるさまざまな構成要素のサイズが減少するにつれ、第3の金属層において用いられる金属線の間隔もまた同様に減少するであろうことに気づくであろう。
【0037】
この発明は現在知られている最良の形態の動作および実施例において説明したが、この発明の他の形態および実施例が当業者には明らかになるであろう。また、すべての等価物を含む上述の特許請求の範囲こそがこの発明の精神および範囲を規定するものと意図される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 現在開示されるワード線デコーディングアーキテクチャを組み込んだ好ましいフラッシュメモリの一部分を示すブロック図である。
【図2】 図1に例示される好ましいフラッシュメモリの行を示すブロック図である。
【図3】 この発明の好ましいサブx−デコーダの概略回路図である。
【図4】 メタライゼーションのために用いられる3つの金属の層を有する基板を示す図である。
Claims (4)
- メモリセクタのためのメモリワード線デコーダであって、
複数の予めデコードされたアドレス線に電気的に接続される少なくとも1つのグローバルx−デコーダを含み、前記グローバルx−デコーダは、少なくとも1つのグローバルワード線出力、少なくとも1つの第2のグローバルワード線出力および複数の垂直アドレス出力を含み、前記メモリワード線デコーダはさらに
前記第1のグローバルワード線出力および前記第2のグローバルワード線出力に接続され、前記メモリセクタにおける複数のワード線をイネーブルするためのサブx−デコーダと、
前記垂直アドレス出力および前記サブx−デコーダに接続され、前記メモリセクタにおける予め定められたワード線を選択するための垂直x−デコーダと、
前記グローバルx−デコーダを前記垂直x−デコーダと、前記垂直x−デコーダを前記サブx−デコーダと、および前記サブx−デコーダを前記メモリセクタと、それぞれ、電気的に接続するそれぞれ対応の第1および第2の金属配線層とをさらに含み、前記メモリワード線デコーダはさらに、第3の金属配線層を含み、前記第3の金属配線層は前記グローバルワード線出力および前記第2のグローバルワード線出力を含む、ワード線デコーダ。 - 前記グローバルワード線出力と前記第2のグローバルワード線出力とは互いに少なくとも6μmの間隔があけられている、請求項1に記載のワード線デコーダ。
- 前記サブx−デコーダは、前記メモリセクタにおける個別のワード線に電気的に接続される複数のワード線セレクタ回路を含む、請求項1に記載のワード線デコーダ。
- 前記ワード線セレクタ回路は、低しきい値n−チャネルトランジスタ、p−チャネルトランジスタおよびn−チャネルエンハンスメントトランジスタを含む、請求項3に記載のワード線デコーダ。
Applications Claiming Priority (3)
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