JP4788379B2 - オルガノシラン製造装置または保存容器の内部表面の表面処理方法 - Google Patents
オルガノシラン製造装置または保存容器の内部表面の表面処理方法 Download PDFInfo
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Description
J.Amer.Chem.Soc.,83,1916(1961) J.Amer.Chem.Cos.,68,481(1946)
表面処理剤を使用せず、ボンベ内を300℃まで昇温させて3回ヘリウム置換した後、1時間真空引きした以外は実施例1と同様の方法で行った。ボンベ充填後のトリメチルシラン中のCl濃度は12.3molppmであった。
表面処理剤を超純水にした以外は実施例1と同様の方法で行った。ボンベ充填後のトリメチルシラン中のCl濃度は6.3molppmであった。
表面処理剤を5%過酸化水素水にした以外は実施例1と同様の方法で行った。ボンベ充填後のトリメチルシラン中のCl濃度は5.2molppmであった。
表面処理剤として、従来用いられているKOH及び硝酸を使用した。ボンベ内に1重量%KOH水溶液を満たし、25℃で2時間静置後、表面処理剤を除去し、さらに、表面処理剤として1重量%硝酸水溶液を使用した以外は実施例1と同様の方法で行った。ボンベ充填後のトリメチルシラン中のCl濃度は2.5molppmであった。
Claims (4)
- オルガノシランの製造において、塩素成分で汚染された鉄合金製のオルガノシラン製造装置または保存容器の内部表面に、Fe(III)をFe(II)に還元する還元性物質を接触させることを特徴とする表面処理方法。
- 塩素成分が、オルガノシランの製造の原料中、洗浄剤中、または大気中の成分であることを特徴とする、請求項1に記載の表面処理方法。
- 内部表面が、オルガノシラン製造の前工程の製造装置または保存容器の洗浄中、オルガノシラン製造装置または保存容器の製造工程中、あるいはオルガノシラン製造装置または保存容器の保管中に、塩素成分と接触することにより汚染されていることを特徴とする、請求項1に記載の表面処理方法。
- 還元性物質が、次亜リン酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、トリエチルシラン、トリイソプロピルシラン、トリメチルシラン、または水素であることを特徴とする請求項1に記載の表面処理方法。
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