JP4786104B2 - 側鎖の光架橋性基を有する光活性ポリイミド、ポリアミド酸又はエステル - Google Patents
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Description
本発明は、ポリイミド、ポリアミド酸及びそのエステルに基づく新規の光活性ポリマー、それらの液晶用の配向層としての使用並びに非構造化及び構造化光学エレメント(unstructured and structured optical elements)と多層系の構築における使用に関する。
【0002】
液晶素子(Liquid Crystal Device)が上手く機能するかは、素子内のLC分子のもつ、それらに強いられる配列を採用し、保持する能力に依存する。LC分子の配列は、素子のLC分子の配向方向を確定し、その結果、分子の軸線が配向層により確定された配向方向に配列することを生じさせる、配向層の使用によって達成される。この方向性のある配列に加えて、配向層は、LC分子にチルト角を与えることもでき、そのため、分子自体が、配向層の表面に対して平行に配列するのではなく、表面に対して、角度をなして配列する。
【0003】
1〜15°のチルト角が、ネマチックLCDにとっては普通である。しかし、液晶ディスプレー(LCD)で使用される電気光学効果には、非常に大きいプレチルト角を有する配列した層を必要とするものがある。例えば、垂直配向ネマチック(VAN)LCDは、表面から測定して85〜90°のプレチルト角を必要とする。ハイブリッド配向ネマチック(HAN)LCDの場合、プレチルト角は、一方の基板で上記の範囲を超える必要があり、他の基板では小さい(典型的には0〜10°)。
【0004】
構造化及び非構造化配向層の作製方法は、当業者に周知である。しかし、例えば、ポリイミドのような慣用の一方向にラビングした配向層は、ラビングプロセス中のほこりの発生、薄膜トランジスタの破壊及び構造化の不足のような一連の欠点により、悪影響を与える。ラビングプロセスは、結果として構造化層の生成を与えない。偏光で照射することにより配向の方向を予め決定されうる配向層は、これまで既知であった。この方法によってラビングプロセスに固有の問題を防止することが可能である。加えて、異なる配向を有する領域を提供し、そのようにして、例えば、Jpn. J. Appl. Phys., 31 (1992), 2155-64 (Schadt ら)に記載されているように配向層を構成することが可能である。このプロセスにおいては、直線偏光で照射することによって誘導されるポリマー結合した光反応性ケイ皮酸基の二量体化を用いて、異方性ポリマーネットワークを導く。この光配向性ポリマーネットワークは、構造化又は非構造化液晶配向層が必要な場合には、いつでも使用できる。LCDにおけるこれらの使用に加えて、このような配向層は、例えば、ヨーロッパ特許出願 EP-A-0611981、EP-A-0689084及びEP-A-0753785(全て F. Hoffmann-La Roche社)に例示されている、いわゆるハイブリッド層の作製に使用することもできる。光構造化配向ポリマーと架橋性低分子量液晶とのハイブリッド層を使用すると、例えば、非吸収カラーフィルタ、直線及び円偏光子、光遅延層のような光学素子を実現することが可能である。
【0005】
EP-A-0611786 及び WO-A-96/10049(両方とも F. Hoffmann-La Roche社)、ならびに EP-A-0763552(Rolic社)は、そのような液晶用の異方性架橋をした光構造化配向層を合成するために原則的に適切なケイ皮酸ポリマーを記載している。EP-A-0763552 及び WO-A-96/10049 に記載の化合物の場合、直線偏光による照射で、所望の配向の誘導に加え、同時にチルト角を誘導することが可能である。したがって、表面配向及びチルト角の点で構造を有する層を作製することが可能である。
【0006】
しかしながら、上記の光構造化配向層は、特定の適用、特にTFTディスプレーでの使用において欠点を有し、不十分な電気抵抗値を有する隣接液晶混合物となる。TFTディスプレーでは、液晶媒体の低すぎる抵抗値は、不適当な「保持率」(電圧が切られた後のディスプレーにおける電圧降下の割合)を引き起こす。低い保持率は、経時的に明度及びコントラストに、望ましくない変化を起こし、そのため、グレートーンのグラデーションを不安定にする。
【0007】
近年、保持率の向上した配向層用の光反応性材料が、WO-A-99/49360 (Rolic社)、 JP-A-10-195296、JP-A-10-232400 (両方とも Samsung Electron Devices社)、WO-A-99/15576(Rolic社)及び WO-A-99/51662(鐘渕化学工業株式会社)に記載されている。WO-A-99/49360、JP-A-10-195296 及び JP-A-10-232400 では、一方に光反応性ポリマー、他方にポリイミドを含有するポリマー化合物のブレンドが提案されている。そのようなブレンドの欠点は、限られた相溶性にある。しかし、光反応性ポリマーの低い含有量は、配向特性を失わせ、その結果配向する液晶層のコントラスト比を低下させるのに対し、ポリイミド含有量の減少は、不十分な保持率を生じさせる。WO-A-99/15576 及び WO-A-99/5 1662 において、側鎖に光反応性ケイ皮酸基を含むポリイミドが記載されている。WO-A-99/15576 は、下記式:
【0008】
【化3】
【0009】
の光架橋性基を側鎖として含有する光活性ポリマーを開示している。
【0010】
典型的なモノマー単位は、3,5−ジアミノ安息香酸 6−〔2−メトキシ−4−(2−メトキシカルボニルビニル)フェノキシ〕ヘキシルエステルである。
【0011】
【化4】
【0012】
WO-A-99/15576 に開示されているケイ皮酸誘導体は、光反応性基が主鎖から離れる向きになるように、ポリイミド主鎖に結合している。
【0013】
WO-A-99/51662 は、ケイ皮酸骨格構造を有する光活性ポリマーを開示している。開示されている典型的なモノマーは、下記式のものである。
【0014】
【化5】
【0015】
ポリイミド組成物は、ケイ皮酸骨格構造の光反応性と熱反応性を併せ持つといわれている。液晶の配向を改良することについての教示はない。
【0016】
したがって、十分に高い保持率を有する、大きいプレチルト角の安定した光配列ができる材料は、今まで知られていない。それゆえ、本発明の根本的な問題は、偏光で照射された場合、非常に大きいチルト角を有する、安定した高解像度の配向パターンを生成し、同時に、隣接する液晶媒体において十分に高い保持率を生じさせる光反応性ポリマーを見出すことであった。
【0017】
驚くべきことに、ケイ皮酸基誘導体を、ケイ皮酸基が屈曲性のスペーサ(flexible spacer)によりカルボキシル基を介してポリイミド主鎖に結合しているように含むポリイミドが、上記の要件を完全に満たすことが見出された。直線偏光を使用してこれらの化合物を照射すると、優れた液晶の配向、十分に高い保持率の液晶媒体と、同時に、90°までのチルト角の顕著な増加という結果をもたらす。
【0018】
したがって本発明の第一の態様は、ポリイミド、ポリアミド酸及びそのエステルの光活性ポリマーであり、一般式I:
【0019】
【化6】
【0020】
〔式中、破線はポリイミド主鎖への結合点を示し、
Aは、場合によりフッ素、塩素、シアノから選択される基により、又はC1 ‐ 18環式、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル残基(これは、場合により1個のシアノ基又は1個以上のハロゲン原子で置換されており、そして場合によりアルキルの隣接しない1個以上の−CH2−基は基Qで置き換えられている)で置換されている、ピリミジン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイル、2,5−チオフェニレン、2,5−フラニレン、1,4−若しくは2,6−ナフチレン又はフェニレンを表し;
Bは、非置換か、シアノ若しくはハロゲンで単置換されているか、又はハロゲンで多置換されているか、炭素原子3〜18個を有する直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基(ここで、隣接しない1個以上のCH2基は、独立して基Qで置き換えられていてもよい)であり;
C1及びC2は、互いに独立して、非置換か、あるいはフッ素、塩素、シアノ又は環式、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル残基(これは、非置換か、シアノ若しくはハロゲンで単置換されているか、又はハロゲンで多置換されており、炭素原子1〜18個を有し、隣接しない1個以上のCH2基は、独立して基Qで置き換えられていてもよい)で置換されていてもよい、芳香族又は脂環式基を表し;
Dは、酸素原子又は−NR1−(ここで、R1は、水素原子又は低級アルキルを表す)を表し;
S1及びS2は、互いに独立して、共有単結合又はスペーサ単位、例えば、非置換か、シアノ若しくはハロゲンで単置換されているか、又はハロゲンで多置換されている、炭素原子1〜24個を有する直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基(ここで、隣接しない1個以上のCH2基は、独立して基Qで置き換されていてもよい)を表し;
S3は、スペーサ単位、例えば、非置換か、シアノ若しくはハロゲンで単置換されているか、又はハロゲンで多置換されている、炭素原子2〜24個を有する直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン残基(ここで、隣接しない1個以上のCH2基は、独立して芳香族基、脂環式基又は基Qで置き換えられていてもよい)を表し;
Qは、−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−Si(CH3)2−O−Si(CH3)2−、−NR1−、−NR1−CO−、−CO−NR1−、−NR1−CO−O−、−O−CO−NR1−、−NR1−CO−NR1−、−CH=CH−、−C≡C−及び−O−CO−O−(ここで、R1は、水素原子又は低級アルキルを表す)から選択される基を表し;
n1及びn2は、互いに独立して0又は1であり;そして
X及びYは、互いに独立して水素、フッ素、塩素、シアノ、場合よりフッ素で置換され、炭素原子1〜12個を有するアルキル(ここで、場合により隣接しない1個以上のCH2基は、−O−、−CO−O−、−O−CO−及び/又は−CH=CH−で置き換えられている)を表す〕
で示される光架橋性基を側鎖として含むことを特徴とする光活性ポリマーの提供である。
【0021】
用語「芳香族」は、フラン、フェニル、ピリジン、ピリミジン、ナフタレン又はテトラリン単位のような環原子5、6又は10個を含む、場合により置換されているカルボキシル基及び複素環基を含むことが理解されるべきである。
【0022】
用語「環式、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基(これは、場合により1個のシアノ基又は1個以上のハロゲン原子で置換されており、場合により、隣接しない1個以上の−CH2−基は基Qで置き換えられている)」は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、3−メチルペンチル、アリル、ブタ−3−エン−1−イル、ペンタ−4−エン−1−イル、ヘキサ−5−エン−l−イル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、3−メチルペンチルオキシ、アリルオキシ、ブタ−3−エニルオキシ、ペンタ−4−エニルオキシ、シクロヘキシルメトキシ、シクロペンチルメトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ウンデシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、3−メチルペンチルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、ブタ−3−エニルオキシカルボニル、ペンタ−4−エニルオキシカルボニル、シクロヘキシルメトキシカルボニル、シクロペンチルメトキシカルボニル、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ、ブチルカルボニルオキシ、イソブチルカルボニルオキシ、sec−ブチルカルボニルオキシ、tert−ブチルカルボニルオキシ、ペンチルカルボニルオキシ、イソペンチルカルボニルオキシ、シクロペンチルカルボニルオキシ、ヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、オクチルカルボニルオキシ、ノニルカルボニルオキシ、デシルカルボニルオキシ、ウンデシルカルボニルオキシ、ドデシルカルボニルオキシ、3−メチルペンチルカルボニルオキシ、ブタ−3−エニルオキシ、ペンタ−4−エニルオキシ、アセチル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、sec−ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、オクチルカルボニル、ノニルカルボニル、デシルカルボニル、ウンデシルカルボニル、ドデシルカルボニル、メトキシアセトキシ、1−メトキシ−2−プロポキシ、3−メトキシ−1−プロポキシ、2−メトキシエトキシ、2−イソプロポキシエトキシ、1−エトキシ−3−ペンチルオキシ、3−ブチニルオキシ、4−ペンチニルオキシ、5−クロロペンチニル、4−ペンチンカルボニルオキシ、6−プロピルオキシヘキシル、6−プロピルオキシヘキシルオキシ、2−フルオロエチル、トリフルオロメチル、2,2,2−トリフルオロエチル、1H,1H−ペンタデカフルオロオクチル、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチル、2−(ペルフルオロオクチル)エチル、2−(ペルフルオロブチル)エチル、2−(ペルフルオロヘキシル)エチル、2−(ペルフルオロデシル)エチル、ペルフルオロプロピル、ペルフルオロブチル、ペルフルオロヘプチル、ペルフルオロオクチル、ペルフルオロノニル、1−フルオロプロポキシ、1−フルオロペンチルオキシ、2−フルオロプロポキシ、2,2−ジフルオロプロポキシ、3−フルオロプロポキシ、3,3−ジフルオロプロポキシ、3,3,3−トリフルオロプロポキシ、トリフルオロメトキシ等を含む群より選択される基を包含することを理解すべきである。
【0023】
用語「低級アルキル」は、炭素原子1〜6個、好ましくは炭素原子1〜3個を有する直鎖状及び分岐鎖状の炭化水素基を包含することを理解すべきである。メチル、エチル、プロピル及びイソプロピル基が特に好ましい。
【0024】
用語「脂環式」は、炭素原子3〜10個を有する非芳香族カルボキシル又は複素環系、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン及びデカリンを包含することを理解すべきである。
【0025】
また、基Aが、場合によりC1 − 12環式、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基(ここで、アルキル基は、場合により1個以上のハロゲン原子で置換されており、場合によりアルキルの隣接しない1個以上の−CH2−基は、独立して−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−CH=CH−及び−C≡C−から選択される基で置き換えられている)で置換されている、ピリミジン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイル、2,5−チオフェニレン、2,5−フラニレン、1,4−又は2,6−ナフチレン及びフェニレン基から選択されることが好ましい。
【0026】
基Aが、フェニレン(場合によりC1 ‐ 12直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基(ここで、アルキル基は、1個以上のフッ素原子で置換されており、場合によりアルキルの隣接しない1個以上の−CH2−基は、独立して−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−及び−CH=CH−から選択される基で置き換えられている)で置換されている)から選択されることが特に好ましい。
【0027】
用語「フェニレン」は、場合により置換されている、1,2−、1,3−又は1,4−フェニレンを包含することを理解すべきである。フェニレン基は、1,3−又は1,4−フェニレンのいずれかであることが好ましい。
【0028】
好ましい基Bは、非置換か、シアノ若しくはハロゲンで単置換されているか、又はハロゲンで多置換されている、炭素原子3〜18個を有する直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基(ここで、1個以上のCH2基は、独立して−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−CH=CH−、−C≡C−で置き換えられていてもよいが、但し酸素原子が互いに直接に結合しないことを条件とする)から選択される。
【0029】
基Bが、非置換か、ハロゲンで単置換又は多置換されている、炭素原子3〜12個を有する直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基(ここで、1個以上のCH2基は、独立して−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−で置き換えられていてもよいが、但し酸素原子が互いに直接に結合しないことを条件とする)から選択されることが特に好ましい。
【0030】
基C1及びC2が、それぞれ、場合によりフッ素、塩素、シアノ及びC1 ‐ 12環式、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基(これは、場合により1個のシアノ基または1個以上のハロゲン原子で置換されており、場合によりアルキルの隣接しない1個以上の−CH2−基は、独立して−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−CH=CH−、−C≡C−及び−O−CO−O−から選択される基で置き換えられている)から選択される1個以上の基で置換されている、シクロヘキサン−1,4−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイル、1,4−若しくは2,6−ナフチレン及びフェニレンから選択されることが好ましい。
【0031】
基C1及びC2が、場合により1個以上のフッ素原子、又はC1 ‐ 8直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル残基(これは、場合により1個以上のフッ素原子で置換されており、場合により1個以上の隣接しないアルキル−CH2−基は、独立して−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−及び−CH=CH−から選択される基で置き換えられている)で置換されている、シクロヘキサン−1,4−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイル、2,6−ナフチレン及びフェニレンから選択されることが特に好ましい。
【0032】
好ましい基Dは、酸素原子又は−NH−である。
【0033】
Dが酸素原子であることが、特に好ましい。
【0034】
基S1及びS2が、共有単結合、−O−、−CO−O−、−O−CO−、−NR1−、−NR1−CO−、−CO−NR1−、−NR1−CO−O−、−O−CO−NR1−、−NR1−CO−NR1−、−CH=CH−、−C≡C−、−O−CO−O−及び直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基(ここで、場合により2〜3個の隣接しないアルキレン−CH2−基は、独立して基Qで置き換えられており、R1が水素原子又は低級アルキルを表す(但しアルキレン基の鎖炭素原子の合計数が24を超えないことを条件とする))から選択されることが好ましい。
【0035】
S1及びS2が、共有単結合、−CO−O−、−O−CO−、−(CH2)r−、−(CH2)r−O−、−(CH2)r−CO−、−(CH2)rCO−O−、−(CH2)r−O−CO−、−(CH2)r−CO−NR1−、−(CH2)r−NR1−CO−、−(CH2)r−NR1−、−O−(CH2)r−、−CO−O−(CH2)r−、−O−CO−(CH2)r−、−NR1−CO−(CH2)r−、−CO−NR1−(CH2)r−、−NR1−(CH2)r−、−O−(CH2)r−CO−O−、−O−(CH2)r−O−CO−、−O−(CH2)r−CO−NR1−、−O−(CH2)r−NR1−、−O−(CH2)r−O−、−O−(CH2)r−NR1−CO−、−NR1−(CH2)r−CO−O−、−NR1−(CH2)r−O−、−NR1−(CH2)r−NR1−、−NR1−(CH2)r−O−CO−、−CO−NR1−(CH2)r−O−、−CO−NR1−(CH2)r−NR1−、−CO−NR1−(CH2)r−O−CO−、−O−CO−(CH2)r−CO−、−O−CO−(CH2)r−O−、−O−CO−(CH2)r−NR1−、−O−CO−(CH2)r−CO−O−、−O−CO−(CH2)r−CO−NR1−、−O−CO−(CH2)r−NR1−CO−、−(CH2)r−O−(CH2)s−、−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−、−(CH2)r−O−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NR1CO−O−(CH2)s−、−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−O−、−(CH2)r−O−CO−(CH2)s−O−、−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−O−、−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−、−O−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−O−、−CO−O−(CH2)r−O−(CH2)s−及び−CO−O−(CH2)r−O−(CH2)s−O−(ここで、R1は、上記と同義であり、そしてr及びsは、それぞれ整数1〜20、好ましくは1〜12であり、そしてr+s≦21、好ましくは≦15である)から選択されることが更に好ましい。
【0036】
用語−(CH2)r−及び−(CH2)s−は、それぞれr又はs個の炭素原子を含有する、直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基を包含することを理解すべきである。
【0037】
S1及びS2が、共有単結合、−(CH2)r−、−(CH2)r−O−、−(CH2)r−CO−O−、−(CH2)r−O−CO−、−(CH2)r−CO−NH−、−(CH2)r−NH−CO−、−O−(CH2)r−、−CO−O−(CH2)r−、−CO−NH−(CH2)r−、−NH−CO−(CH2)r−、−O−CO−(CH2)r−、−O−CO−(CH2)r−CO−O−、−O−(CH2)r−O−CO−、−O(CH2)r−CO−NH−、−O−(CH2)r−NH−CO−、−CO−O−(CH2)r−O−、−CO−NH−(CH2)r−O−、−O−(CH2)r−O−、−(CH2)r−NH−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NH−CO−O−(CH2)s−、−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−(CH2)r−NH−CO−(CH2)s−O−、−(CH2)r−NHCO−O−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−NH−CO−(CH2)s−、−O−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−O−CO−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−CO−O−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−NH−CO−(CH2)s−O−及び−O−CO−(CH2)r−NH−CO−(CH2)s−O−(ここでr及びsは、それぞれ整数1〜12であり、そしてr+s≦15である)から選択されることが特に好ましい。
【0038】
好ましい基S1及びS2の例は、1,2−エチレン、1,3−プロピレン、1,4−ブチレン、1,5−ペンチレン、1,6−ヘキシレン、1,7−ヘプチレン、1,8−オクチレン、1,9−ノニレン、1,10−デシレン、1,11−ウンデシレン、1,12−ドデシレン、3−メチル−1,4−ブチレン、メチレンオキシ、2−エチレンオキシ、3−プロピレンオキシ、3−プロピレンオキシカルボニル、2−エチレンカルボニルオキシ、4−ブチレンオキシ、4−ブチレンオキシカルボニル、3−プロピレンカルボニルオキシ、5−ペンチレンオキシ、5−ペンチレンオキシカルボニル、4−ブチレンカルボニルオキシ、6−ヘキシレンオキシ、6−ヘキシレンオキシカルボニル、5−ペンチレンカルボニルオキシ、7−ヘプチレンオキシ、7−ヘプチレンオキシカルボニル、6−ヘキシレンカルボニルオキシ、8−オクチレンオキシ、8−オクチレンオキシカルボニル、7−ヘプチレンカルボニルオキシ、9−ノニレンオキシ、9−ノニレンオキシカルボニル、8−オクチレンカルボニルオキシ、10−デシレンオキシ、10−デシレンオキシカルボニル、9−ノニレンカルボニルオキシ、11−ウンデシレンオキシ、11−ウンデシレンオキシカルボニル、10−デシレンカルボニルオキシ、12−ドデシレンオキシ、12−ドデシレンオキシカルボニル、11−ウンデシレンカルボニルオキシ、3−プロピレンイミノカルボニル、4−ブチレンイミノカルボニル、5−ペンチレンイミノカルボニル、6−ヘキシレンイミノカルボニル、7−ヘプチレンイミノカルボニル、8−オクチレンイミノカルボニル、9−ノニレンイミノカルボニル、10−デシレンイミノカルボニル、11−ウンデシレンイミノカルボニル、12−ドデシレンイミノカルボニル、2−エチレンカルボニルイミノ、3−プロピレンカルボニルイミノ、4−ブチレンカルボニルイミノ、5−ペンチレンカルボニルイミノ、6−ヘキシレンカルボニルイミノ、7−ヘプチレンカルボニルイミノ、8−オクチレンカルボニルイミノ、9−ノニレンカルボニルイミノ、10−デシレンカルボニルイミノ、11−ウンデシレンカルボニルイミノ、6−(3−プロピレンイミノカルボニルオキシ)ヘキシレン、6−(3−プロピレンオキシ)ヘキシレン、6−(3−プロピレンオキシ)ヘキシレンオキシ、6−(3−プロピレンイミノカルボニルオキシ)ヘキシレンオキシ、6−(3−プロピレンイミノカルボニル)ヘキシル、6−(3−プロピレンイミノカルボニル)ヘキシルオキシ、1,2−エチレンジオキシ、1,3−プロピレンジオキシ、1,4−ブチレンジオキシ、1,5−ペンチレンジオキシ、1,6−ヘキシレンジオキシ、1,7−ヘプチレンジオキシ、1,8−オクチレンジオキシ、1,9−ノニレンジオキシ、1,10−デシレンジオキシ、1,11−ウンデシレンジオキシ、1,12−ドデシレンジオキシ等を包含する。
【0039】
基S3は、スペーサ単位、例えば、炭素原子5〜24個を有する直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン残基(ここで、隣接しない1個以上のCH2基は、独立して、基Qで置き換えられていてもよい)から選択されることが好ましい。更に好ましくは、基S3が炭素原子6〜24個、特に7〜20個を有する(ここで、隣接しない1個以上のCH2基は、独立して、基Qで置き換えられていてもよい)。ポリイミド主鎖が重合性基に結合している芳香族環を含む場合、環は、主鎖の一部として考慮され、スペーサの一部としては考慮されないことを注意されたい。
【0040】
S3が、−(CH2)r-1−、−O−(CH2)r−、−CO−O−(CH2)r−、−O−CO−(CH2)r−、−NR1−CO−(CH2)r−、−CO−NR1−(CH2)r−、−NR1−(CH2)r−、−(CH2)r−O−(CH2)s−、−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−、−(CH2)r−O−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−、−O−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−及び−CO−O−(CH2)r−O−(CH2)s−(ここで、R1は、上記と同義であり、r及びsは、それぞれ整数1〜20、好ましくは2〜12であり、そしてr+s≦21、好ましくは≦15である)から選択されることが更に好ましい。
【0041】
好ましい基S3の例は、1,2−エチレン、1,3−プロピレン、1,4−ブチレン、1,5−ペンチレン、1,6−ヘキシレン、1,7−ヘプチレン、1,8−オクチレン、1,9−ノニレン、1,10−デシレン、1,11−ウンデシレン、1,12−ドデシレン、3−メチル−1,4−ブチレン、2−オキシエチレン、3−オキシプロピレン、4−オキシブチレン、5−オキシペンチレン、6−オキシヘキシレン、7−オキシヘプチレン、8−オキシオクチレン、9−オキシノニレン、10−オキシデシレン、11−オキシウンデシレン、12−オキシドデシレン、2−(オキシカルボニル)エチレン、3−(オキシカルボニル)プロピレン、4−(オキシカルボニル)ブチレン、5−(オキシカルボニル)ペンチレン、6−(オキシカルボニル)ヘキシレン、7−(オキシカルボニル)ヘプチレン、8−(オキシカルボニル)オクチレン、9−(オキシカルボニル)ノニレン、10−(オキシカルボニル)デシレン、11−(オキシカルボニル)ウンデシレン、12−(オキシカルボニル)ドデシレン、2−(カルボニルオキシ)エチレン、3−(カルボニルオキシ)プロピレン、4−(カルボニルオキシ)ブチレン、5−(カルボニルオキシ)ペンチレン、6−(カルボニルオキシ)ヘキシレン、7−(カルボニルオキシ)ヘプチレン、8−(カルボニルオキシ)オクチレン、9−(カルボニルオキシ)ノニレン、10−(カルボニルオキシ)デシレン、11−(カルボニルオキシ)ウンデシレン、12−(カルボニルオキシ)ドデシレン、2−(カルボニルイミノ)エチレン、3−(カルボニルイミノ)プロピレン、4−(カルボニルイミノ)ブチレン、5−(カルボニルイミノ)ペンチレン、6−(カルボニルイミノ)ヘキシレン、7−(カルボニルイミノ)ヘプチレン、8−(カルボニルイミノ)オクチレン、9−(カルボニルイミノ)ノニレン、10−(カルボニルイミノ)デシレン、11−(カルボニルイミノ)ウンデシレン、12−(カルボニルイミノ)ドデシレン、2−イミノエチレン、3−イミノプロピレン、4−イミノブチレン、5−イミノペンチレン、6−イミノヘキシレン、7−イミノヘプチレン、8−イミノオクチレン、9−イミノノニレン、10−イミノデシレン、11−イミノウンデシレン、12−イミノドデシレン、2−イミノカルボニルエチレン、3−イミノカルボニルプロピレン、4−イミノカルボニルブチレン、5−イミノカルボニルペンチレン、6−イミノカルボニルヘキシレン、7−イミノカルボニルヘプチレン、8−イミノカルボニルオクチレン、9−イミノカルボニルノニレン、10−イミノカルボニルデシレン、11−イミノカルボニルウンデシレン、12−イミノカルボニルドデシレン、2−(2−エチレンオキシ)エチレン、2−(3−プロピレンオキシ)エチレン、6−(4−ブチレンオキシ)ヘキシレン、2−(2−エチレンイミノカルボニル)エチレン、2−(3−プロピレンイミノカルボニル)エチレン、6−(4−ブチレンイミノカルボニル)ヘキシレン、6−(3−プロピレンイミノカルボニルオキシ)ヘキシレン、6−(3−プロピレンイミノカルボニル)ヘキシレン等である。
【0042】
基X及びYが、水素を表すことが好ましい。
【0043】
n1+n2=0又は1であることが好ましく、n1=n2=0であることが特に好ましい。
【0044】
本発明の側鎖ポリマーの主鎖を形成する好ましいモノマー単位は、一般式II、IV及びVIのイミド基及び/又は一般式III、V及びVIIのアミド酸エステル基であり、特に好ましくは式II、III、VI及びVIIの基である。
【0045】
【化7】
【0046】
〔式中、
破線は、S3への結合を示し、
T1は、四価の有機基を表し;
T2及びT3は、それぞれ独立して、場合によりフッ素、塩素、シアノ及びC1 ‐ 18環式、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基(これは、場合により1個以上のハロゲン基で置換されており、場合によりアルキルの隣接しない1個以上の−CH2−基は、独立して−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−CH=CH−及び−C≡C−から選択される基で置き換えられている)から選択される基で置換されている、三価の芳香族又は脂環式基を表し;
S4〜S8は、それぞれ独立して、共有単結合及びC1 ‐ 24直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン残基(これは、場合により1個のシアノ基、又は1個以上のハロゲン原子で置換され、場合によりアルキレンの隣接しない1個以上の−CH2−基は、独立して基Qで置き換えられている)から選択され;
Eは、窒素原子、基−CR1−及び芳香族若しくは脂環式の二価、三価又は四価の基(これは、場合によりフッ素、塩素、シアノ及びC1 ‐ 18環式、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基(これは、場合により1個のシアノ基、又は1個以上のハロゲン原子で置換されており、場合により隣接しない1個以上の−CH2−基は、独立して−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−CH=CH−及び−C≡C−から選択される基で置き換えられている)から選択される1個以上の基で置換されている)を含む群(ここで、R1は、上記と同義である)から選択され;
Fは、脂肪族、脂環式又は芳香族の二価の基を表し;そして
Gは、水素原子又は一価の有機基を表す〕。
【0047】
用語「脂肪族」は、飽和及び不飽和の、直鎖状及び分岐鎖状のアルキル基(これは、場合により置換されており、隣接しない1個以上の−CH2−基は、1個以上のヘテロ原子で置き換えられている)を包含することを理解すべきである。任意の置換基は、アルキル、アリール、シクロアルキル、アミノ、シアノ、エポキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、ニトロ及びオキソが挙げられる。1個以上の−CH2−基を置き換えできるヘテロ原子の例は、窒素、酸素及び硫黄を包含する。置換された窒素原子は、アルキル、アリール及びシクロアルキルのような基で更に置換されていてもよい。
【0048】
四価の有機基T1は、好ましくは脂肪族、脂環式又は芳香族のテトラカルボン酸二無水物から誘導される。脂環式又は脂肪族のテトラカルボン酸無水物は、好ましくは、1,1,4,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、エチレンマレイン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボルニル酢酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、4−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)テトラヒドロナフタレン−1,2−ジカルボン酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ〔2.2.2〕オクタ−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ〔2.2.2〕オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物及び1,8−ジメチルビシクロ〔2.2.2〕オクタ−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物から選択される。
【0049】
芳香族テトラカルボン酸二無水物は、好ましくはピロメリト酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4′−オキシジフタル酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水物、4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物、4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコール ビス(トリメリト酸)二無水物、4,4′−(1,4−フェニレン)ビス(フタル酸)二無水物、4,4′−(1,3−フェニレン)ビス(フタル酸)二無水物、4,4′−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、4,4′−オキシジ(1,4−フェニレン)ビス(フタル酸)二無水物、及び4,4′−メチレンジ(1,4−フェニレン)ビス(フタル酸)二無水物から選択される。
【0050】
四価の有機基T1を形成するために使用されるテトラカルボン酸二無水物は、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸二無水物、4−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)テトラヒドロナフタレン−1,2−ジカルボン酸二無水物、4,4′−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物及びビシクロ〔2.2.2〕オクタ−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物から選択されることが特に好ましい。
【0051】
基T2及びT3は、それぞれ、脂肪族、脂環式又は芳香族のジカルボン酸無水物から誘導されうる。
【0052】
基T2及びT3は、好ましくは三価の芳香族又は脂環式基であり、その3個の原子価は、3個の異なる炭素原子間で分配されるが、但しそのうち2個の原子価が隣接する炭素原子に位置することを条件とする。基T2及びT3が、三価のベンゼン誘導体であることが特に好ましい。
【0053】
基S4は、好ましくは、共有単結合、−(CH2)r−、−(CH2)r−O−、−(CH2)r−CO−、−(CH2)r−CO−O−、−(CH2)r−O−CO−、−(CH2)r−CO−NR1−、−(CH2)r−NR1−CO−、−(CH2)r−NR1−、−(CH2)r−O−(CH2)s−、−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−、−(CH2)r−O−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−、−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−O−、−(CH2)r−O−CO−(CH2)s−O−、−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−O−、−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−O−、−(CH2)r−O−(CH2)s−CO−O−及び−(CH2)r−O−(CH2)s−O−CO−(ここでR1は、上記と同義であり;r及びsは、それぞれ整数1〜20であり;そしてr+s≦21である)から選択される。r及びsが、それぞれ整数2〜12であることが、更に好ましい。r+s≦15であることが、特に好ましい。
【0054】
好ましい基S4の例は、1,2−エチレン、1,3−プロピレン、1,4−ブチレン、1,5−ペンチレン、1,6−ヘキシレン、1,7−ヘプチレン、1,8−オクチレン、1,9−ノニレン、1,10−デシレン、1,11−ウンデシレン、1,12−ドデシレン、3−メチル−1,4−ブチレン、3−プロピレンオキシ、3−プロピレンオキシカルボニル、2−エチレンカルボニルオキシ、4−ブチレンオキシ、4−ブチレンオキシカルボニル、3−プロピレンカルボニルオキシ、5−ペンチレンオキシ、5−ペンチレンオキシカルボニル、4−ブチレンカルボニルオキシ、6−ヘキシレンオキシ、6−ヘキシレンオキシカルボニル、5−ペンチレンカルボニルオキシ、7−ヘプチレンオキシ、7−ヘプチレンオキシカルボニル、6−ヘキシレンカルボニルオキシ、8−オクチレンオキシ、8−オクチレンオキシカルボニル、7−ヘプチレンカルボニルオキシ、9−ノニレンオキシ、9−ノニレンオキシカルボニル、8−オクチレンカルボニルオキシ、10−デシレンオキシ、10−デシレンオキシカルボニル、9−ノニレンカルボニルオキシ、11−ウンデシレンオキシ、11−ウンデシレンオキシカルボニル、10−デシレンカルボニルオキシ、12−ドデシレンオキシ、12−ドデシレンオキシカルボニル、11−ウンデシレンカルボニルオキシ、3−プロピレンイミノカルボニル、4−ブチレンイミノカルボニル、5−ペンチレンイミノカルボニル、6−ヘキシレンイミノカルボニル、7−ヘプチレンイミノカルボニル、8−オクチレンイミノカルボニル、9−ノニレンイミノカルボニル、10−デシレンイミノカルボニル、11−ウンデシレンイミノカルボニル、12−ドデシレンイミノカルボニル、2−エチレンカルボニルイミノ、3−プロピレンカルボニルイミノ、4−ブチレンカルボニルイミノ、5−ペンチレンカルボニルイミノ、6−ヘキシレンカルボニルイミノ、7−ヘプチレンカルボニルイミノ、8−オクチレンカルボニルイミノ、9−ノニレンカルボニルイミノ、10−デシレンカルボニルイミノ、11−ウンデシレンカルボニルイミノ、6−(3−プロピレンイミノカルボニルオキシ)ヘキシレン、6−(3−プロピレンオキシ)ヘキシレン、6−(3−プロピレンオキシ)ヘキシレンオキシ、6−(3−プロピレンイミノカルボニルオキシ)ヘキシレンオキシ、6−(3−プロピレンイミノカルボニル)ヘキシレン、6−(3−プロピレンイミノカルボニル)ヘキシレンオキシ等を包含する。
【0055】
基S5及びS8は、好ましくは、単結合、−(CH2)r−、−O−(CH2)r−、−CO−(CH2)r−、−CO−O−(CH2)r−、−O−CO−(CH2)r−、−NR1−CO−(CH2)r−、−NR1−(CH2)r−、−CO−NR1−(CH2)r−、−NR1−CO−(CH2)r−、−(CH2)r−O−(CH2)s−、−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−、−(CH2)r−O−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NR1CO−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−O−CO−(CH2)s−、−O−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−、−O−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−、−O−CO−(CH2)r−O−(CH2)s−及び−CO−O−(CH2)r−O−(CH2)s−(ここでR1は、上記と同義であり;r及びsは、それぞれ整数1〜20であり;そしてr+s≦21である)から選択される。r及びsが、それぞれ整数2〜12であることが更に好ましい。r+s≦15であることが更に好ましい。
【0056】
好ましい基S5及びS8の例は、1,2−エチレン、1,3−プロピレン、1,4−ブチレン、1,5−ペンチレン、1,6−ヘキシレン、1,7−ヘプチレン、1,8−オクチレン、1,9−ノニレン、1,10−デシレン、1,11−ウンデシレン、1,12−ドデシレン、3−メチル−1,4−ブチレン、2−オキシエチレン、3−オキシプロピレン、4−オキシブチレン、5−オキシペンチレン、6−オキシヘキシレン、7−オキシヘプチレン、8−オキシオクチレン、9−オキシノニレン、10−オキシデシレン、11−オキシウンデシレン、12−オキシドデシレン、2−(オキシカルボニル)エチレン、3−(オキシカルボニル)プロピレン、4−(オキシカルボニル)ブチレン、5−(オキシカルボニル)ペンチレン、6−(オキシカルボニル)ヘキシレン、7−(オキシカルボニル)ヘプチレン、8−(オキシカルボニル)オクチレン、9−(オキシカルボニル)ノニレン、10−(オキシカルボニル)デシレン、11−(オキシカルボニル)ウンデシレン、12−(オキシカルボニル)ドデシレン、2−(カルボニルオキシ)エチレン、3−(カルボニルオキシ)プロピレン、4−(カルボニルオキシ)ブチレン、5−(カルボニルオキシ)ペンチレン、6−(カルボニルオキシ)ヘキシレン、7−(カルボニルオキシ)ヘプチレン、8−(カルボニルオキシ)オクチレン、9−(カルボニルオキシ)ノニレン、10−(カルボニルオキシ)デシレン、11−(カルボニルオキシ)ウンデシレン、12−(カルボニルオキシ)ドデシレン、2−(カルボニルイミノ)エチレン、3−(カルボニルイミノ)プロピレン、4−(カルボニルイミノ)ブチレン、5−(カルボニルイミノ)ペンチレン、6−(カルボニルイミノ)ヘキシレン、7−(カルボニルイミノ)ヘプチレン、8−(カルボニルイミノ)オクチレン、9−(カルボニルイミノ)ノニレン、10−(カルボニルイミノ)デシレン、11−(カルボニルイミノ)ウンデシレン、12−(カルボニルイミノ)ドデシレン、2−イミノエチレン、3−イミノプロピレン、4−イミノブチレン、5−イミノペンチレン、6−イミノヘキシレン、7−イミノヘプチレン、8−イミノオクチレン、9−イミノノニレン、10−イミノデシレン、11−イミノウンデシレン、12−イミノドデシレン、2−イミノカルボニルエチレン、3−イミノカルボニルプロピレン、4−イミノカルボニルブチレン、5−イミノカルボニルペンチレン、6−イミノカルボニルヘキシレン、7−イミノカルボニルヘプチレン、8−イミノカルボニルオクチレン、9−イミノカルボニルノニレン、10−イミノカルボニルデシレン、11−イミノカルボニルウンデシレン、12−イミノカルボニルドデシレン、2−(2−エチレンオキシ)エチレン、2−(3−プロピレンオキシ)エチレン、6−(4−ブチレンオキシ)ヘキシレン、2−(2−エチレンイミノカルボニル)エチレン、2−(3−プロピレンイミノカルボニル)エチレン、6−(4−ブチレンイミノカルボニル)ヘキシレン、6−(3−プロピレンイミノカルボニルオキシ)ヘキシレン、6−(3−プロピレンイミノカルボニル)ヘキシレン等を包含する。
【0057】
S6及びS7は、好ましくは、単結合、−(CH2)r−、−(CH2)r−O−、−(CH2)r−CO−、−(CH2)r−CO−O−、−(CH2)r−O−CO−、−(CH2)r−CO−NR1−、−(CH2)r−NR1−CO−、−(CH2)r−NR1−、−O−(CH2)r−、−CO−O−(CH2)r−、−O−CO−(CH2)r−、−NR1−CO−(CH2)r−、−CO−NR1−(CH2)r−、−NR1−(CH2)r−、−O−(CH2)r−CO−O−、−O−(CH2)r−O−CO−、−O−(CH2)r−CO−NR1−、−O−(CH2)r−NR1−、−O−(CH2)r−O−、−O−(CH2)r−NR1−CO−、−NR1−(CH2)r−CO−O−、−NR1−(CH2)r−O−、−NR1−(CH2)r−NR1−、−NR1−(CH2)r−O−CO−、−CO−NR1−(CH2)r−O−、−CO−NR1−(CH2)r−NR1−、−CO−NR1−(CH2)r−O−CO−、−O−CO(CH2)r−CO−、−O−CO−(CH2)r−O−、−O−CO−(CH2)r−NR1−、−O−CO−(CH2)r−CO−O−、−O−CO−(CH2)r−CO−NR1−、−O−CO−(CH2)r−NR1−CO−、−(CH2)r−O−(CH2)s−、−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−、−(CH2)r−O−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−、−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−O−、−(CH2)r−O−CO−(CH2)s−O−、−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−O−、−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−、−O−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−、−O−(CH2)r−CO−O−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−NR1−CO−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−NR1−CO−O−(CH2)s−O−、−CO−O−(CH2)r−O−(CH2)s−、−CO−O−(CH2)r−O−(CH2)s−O-(ここで、R1は、上記と同義であり、r及びsは、それぞれ整数1〜20であり、そしてr+s≦21である)から選択される。r及びsが、それぞれ整数2〜12であることが、更に好ましい。r+s≦15であることが、特に好ましい。
【0058】
好ましい基S6及びS7の例は、1,2−エチレン、1,3−プロピレン、1,4−ブチレン、1,5−ペンチレン、1,6−ヘキシレン、1,7−ヘプチレン、1,8−オクチレン、1,9−ノニレン、1,10−デシレン、1,11−ウンデシレン、1,12−ドデシレン、3−メチル−1,4−ブチレン、3−プロピレンオキシ、3−プロピレンオキシカルボニル、2−エチレンカルボニルオキシ、4−ブチレンオキシ、4−ブチレンオキシカルボニル、3−プロピレンカルボニルオキシ、5−ペンチレンオキシ、5−ペンチレンオキシカルボニル、4−ブチレンカルボニルオキシ、6−ヘキシレンオキシ、6−ヘキシレンオキシカルボニル、5−ペンチレンカルボニルオキシ、7−ヘプチレンオキシ、7−ヘプチレンオキシカルボニル、6−ヘキシレンカルボニルオキシ、8−オクチレンオキシ、8−オクチレンオキシカルボニル、7−ヘプチレンカルボニルオキシ、9−ノニレンオキシ、9−ノニレンオキシカルボニル、8−オクチレンカルボニルオキシ、10−デシレンオキシ、10−デシレンオキシカルボニル、9−ノニレンカルボニルオキシ、11−ウンデシレンオキシ、11−ウンデシレンオキシカルボニル、10−デシレンカルボニルオキシ、12−ドデシレンオキシ、12−ドデシレンオキシカルボニル、11−ウンデシレンカルボニルオキシ、3−プロピレンイミノカルボニル、4−ブチレンイミノカルボニル、5−ペンチレンイミノカルボニル、6−ヘキシレンイミノカルボニル、7−ヘプチレンイミノカルボニル、8−オクチレンイミノカルボニル、9−ノニレンイミノカルボニル、10−デシレンイミノカルボニル、11−ウンデシレンイミノカルボニル、12−ドデシレンイミノカルボニル、2−エチレンカルボニルイミノ、3−プロピレンカルボニルイミノ、4−ブチレンカルボニルイミノ、5−ペンチレンカルボニルイミノ、6−ヘキシレンカルボニルイミノ、7−ヘプチレンカルボニルイミノ、8−オクチレンカルボニルイミノ、9−ノニレンカルボニルイミノ、10−デシレンカルボニルイミノ、11−ウンデシレンカルボニルイミノ、6−(3−プロピレンイミノカルボニルオキシ)ヘキシレン、6−(3−プロピレンオキシ)ヘキシレン、6−(3−プロピレンオキシ)ヘキシレンオキシ、6−(3−プロピレンイミノカルボニルオキシ)ヘキシレンオキシ、6−(3−プロピレンイミノカルボニル)ヘキシレン、6−(3−プロピレンイミノカルボニル)ヘキシレンオキシ、1,2−エチレンジオキシ、1,3−プロピレンジオキシ、1,4−ブチレンジオキシ、1,5−ペンチレンジオキシ、1,6−ヘキシレンジオキシ、1,7−ヘプチレンジオキシ、1,8−オクチレンジオキシ、1,9−ノニレンジオキシ、1,10−デシレンジオキシ、1,11−ウンデシレンジオキシ、1,12−ドデシレンジオキシ等を包含する。
【0059】
脂肪族、脂環式又は芳香族の二価の基Fは、脂肪族、脂環式又は芳香族ジアミンから、アミノ基のホルマール除去によって誘導される。基Fが誘導されうる脂肪族又は脂環式ジアミンの例は、エチレンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、1,7−ヘプチレンジアミン、1,8−オクチレンジアミン、1,9−ノニレンジアミン、1,10−デシレンジアミン、1,11−ウンデシレンジアミン、1,12−ドデシレンジアミン、α,α′−ジアミノ−m−キシレン、α,α′−ジアミノ−p−キシレン、(5−アミノ−2,2,4−トリメチルシクロペンチル)メチルアミン、1,2−ジアミノシクロヘキサン、4,4′−ジアミノジシクロヘキシルメタン、1,3−ビス(メチルアミノ)シクロヘキサン及び4,9−ジオキサドデカン−1,12−ジアミンを包含する。
【0060】
基Fが誘導されうる芳香族ジアミンの例は、3,5−ジアミノ安息香酸メチルエステル、3,5−ジアミノ安息香酸ヘキシルエステル、3,5−ジアミノ安息香酸ドデシルエステル、3,5−ジアミノ安息香酸イソプロピルエステル、4,4′−メチレンジアニリン、4,4′−エチレンジアニリン、4,4′−ジアミノ−3,3′−ジメチルジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラメチルベンジジン、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、1,5−ジアミノナフタレン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノビフェニル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノベンゾフェノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4,4′−ジアミノ−2,2′−ジメチルビベンジル、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,7−ジアミノフルオレン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、4,4′−メチレンビス(2−クロロアニリン)、4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノビフェニル、2,2′−ジクロロ−4,4′−ジアミノ−5,5′−ジメトキシビフェニル、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、4,4′−(1,4−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4′−(1,3−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔3−アミノ−4−メチルフェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2′−ビス〔4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、4,4′−ジアミノ−2,2′−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル及び4,4′−ビス〔(4−アミノ−2−トリフルオロメチル)フェノキシ〕−2,3,5,6,2′,3′,5′,6′−オクタフルオロビフェニルを包含する。
【0061】
基Eは、二価、三価又は四価であってよい。Eが二価の場合、基S4とS5、S6とS7、又はS8とNを、それぞれ基III〜VIIの基に結合させることに役立つ。Eが二価の基の場合、それが一部を形成するモノマー単位は、式(I)の側鎖基に結合しないことが認められる。Eが三価又は四価の基である場合、それが一部を形成するモノマー単位を式(I)の側鎖基1又は2個にそれぞれ結合させることに役立つ。光活性ポリマーが、二価の基Eを含むモノマー単位を75%未満、好ましくは50%未満、特に30%未満含むことが好ましい。三価の基Eを含むモノマー単位が好ましい。
【0062】
式III、V及びVIIの構成要素は、アミド酸基又はアミド酸エステル基(例えば、カルボキシアミドカルボン酸基又はカルボキシアミドカルボン酸エステル基)であり、それは一方では、ポリイミド鎖における不完全なイミド化の結果として発生する。他方では、式III、V又はVIIの構成要素のみからなるポリマー、即ちポリアミド酸又はポリアミド酸エステルは、本発明のポリイミドを作製するための重要な前駆体であり、これらもまた本発明に含まれる。式III、V又はVIIの基を含むこれらのポリマーのうち、好ましいものは、Gが水素のもの、即ちポリアミド酸基を唯一又はある程度含むものである。
【0063】
本発明のポリマーは、当業者に既知の方法を使用して作製され、本発明の第二の態様は、上記で定義された式(I)の化合物の作製方法を提供する。
【0064】
本発明のポリアミド酸及びポリイミドは、既知の方法、例えば、Plast. Eng. 36 (1996) (Polyimides, fundamentals and applications)に記載の方法に従って作製することができる。
【0065】
例えば、ポリアミド酸を作製する重縮合は、例えば、γ−ブチロラクトン、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、又はN,N−ジメチルホルムアミドのような極性非プロトン性有機溶媒中の溶液で実施される。ほとんどの場合、二無水物とジアミンが等モル量で、即ち無水物基1個当たり1個のアミノ基で使用される。ポリマーの分子量を安定化することが望ましい場合、そのために、2種の化合物のうちの1種を過剰量又は化学量論的な量未満の量で加えるか、あるいはジカルボン酸一無水物の形態若しくはモノアミンの形態の単官能化合物を加えることが可能である。そのような単官能化合物の例は、無水マレイン酸、無水フタル酸、アニリン等である。反応は、好ましくは100℃未満の温度で実施される。
【0066】
ポリアミド酸を環化してポリイミドを形成することは、加熱、即ち水を除去して縮合するか、又は試薬との他のイミド化反応により実施することができる。純粋に熱的に実施する場合には、ポリアミド酸のイミド化が必ずしも完了するとは限らず、即ち得られたポリイミドは依然としてポリアミド酸の部分を含有する。イミド化反応は、一般的に60〜250℃であるが、好ましくは200℃未満の温度で実施される。ある程度低温でイミド化を達成するために、水の除去を促進する試薬を、反応混合物に更に混合する。そのような試薬は、例えば、酸無水物、例としては無水酢酸、プロピオン酸無水物、無水フタル酸、トリフルオロ酢酸無水物、及び第三級アミン、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、ルチジン、コリジン等からなる混合物である。この場合に使用される試薬の量は、好ましくは縮合されるポリアミド酸の1当量当たり少なくとも2当量のアミン及び4当量の酸無水物である。
【0067】
イミド化反応は、支持体に適用する前か、又は、その代わりに支持体に適用した後で実施できる。該ポリイミドが、慣用の溶媒への溶解性に乏しい場合、後者の変法が特に好ましい。
【0068】
本発明のポリアミド酸及びポリイミドは、好ましくは0.05〜10dL/g、更に好ましくは0.05〜5dL/gの範囲の固有粘度数を有する。ここで、固有粘度(ηinh=lnηrel/C)は、溶媒としてN−メチル−2−ピロリドンを使用した、0.5g/100mlの濃度でポリマーを含有する溶液について、その粘度を30℃で測定することにより決定される。
【0069】
本発明のポリアミド酸鎖又はポリイミド鎖は、好ましくはモノマー単位2〜2,000、特に3〜200を含む。
【0070】
シラン含有化合物及びエポキシ含有架橋剤のような添加剤を、基板へのポリマーの接着を向上させるために本発明のポリマーに加えることができる。適切なシラン含有化合物は、in Plast. Eng. 36 (1996) (Polyimides, fundamentals and applications)に記載されている。適切なエポキシ含有架橋剤は、4,4′−メチレンビス(N,N−ジグリシジルアニリン)、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ベンゼン−1,2,4,5−テトラカルボン酸 1,2:4,5−N,N′−ジグリシジルジイミド、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、N,N−ジグリシジルシクロヘキシルアミン等を包含する。
【0071】
光増感剤、光ラジカル生成剤及び/又は陽イオン光開始剤のような更なる添加剤も、本発明のポリマーに加えてよい。適切な光活性添加剤は,2,2−ジメトキシフェニルエタノン、ジフェニルメタノンとN,N−ジメチルベンゼンアミン又は4−(ジメチルアミノ)安息香酸エチルとの混合物、キサントン、チオキサントン、IRGACURE(登録商標)184、369、500、651及び907(Ciba社)、ミヒラーケトン、トリアリールスルホニウム塩等を包含する。
【0072】
本発明のポリマーは、ポリマー層が配置される用途に応じて、単独で、又は他のポリマー、オリゴマー、モノマー、光活性ポリマー、光活性オリゴマー及び/若しくは光活性モノマーと組み合わせて使用してもよい。したがって、ポリマー層の組成を変えることにより、誘導されるプレチルト角、良好な表面湿潤性、高電圧保持率、比固着エネルギー(specific anchoring energy)等の特性を制御することが可能であることが認められる。
【0073】
ポリマー層は、本発明のポリマーから容易に作製でき、本発明の第三の態様は、本発明のポリマーを架橋形態で含むポリマー層を提供する。ポリマー層は、好ましくは、1種以上の本発明のポリマーを支持体に適用し、そして必要であるならば任意のイミド化工程の後、ポリマー又はポリマー混合物を直線偏光で照射して架橋することにより作製される。直線偏光の照射の方向を制御することによって、ポリマー層内で配向の方向及びチルト角を変えることが可能である。ポリマー層の特定領域を選択的に照射することにより、層の非常に特定された領域を配列させ、確定されたチルト角を有する層を提供することが可能であることが認められる。この配向及び傾斜は、架橋プロセスによりポリマー層内に保持される。
【0074】
本発明のポリマー層が、液晶の配向層として使用できることも認められ、そして本発明の第三の態様の好ましい実施態様は、本発明のポリマー1種以上を架橋形態で含む配向層を提供する。そのような配向層は、光学構造素子の作製、好ましくはハイブリッド層素子の作製に使用できる。
【0075】
配向層は、ポリマー材料の溶液から適切に作製される。場合により電極(例えば、インジウム−スズ酸化物(ITO)で被覆されたガラス板)を備えた支持体にポリマー溶液をスピンコートプロセスによって適用して、0.05〜50μm厚の均質層を作製する。ポリマー物質を適用するには、通常、スピンコート、メニスカスコート、ワイヤコート、スロットコート、オフセット印刷、フレキソ印刷及びグラビア印刷のような様々な塗布技術が使用される。
【0076】
得られた層を必要であればイミド化し、次に偏光子と場合により構造の像を作成するためのマスクを使用して、高圧水銀灯、キセノンランプ又はパルスUVレーザーにより照射して選択的に配向させる。照射時間は、個別のランプの出力に応じて決まり、数秒〜数時間で変更することができる。架橋反応は、例えば、架橋反応に適切な放射線のみを通過させるフィルタを使用して照射することにより、実施することもできる。
【0077】
本発明のポリマー層が、少なくとも1種の配向層を有する光学又は電気光学素子の作製、並びに非構造化及び構造化光学素子と多層系の作製における使用、特に垂直配向ネマチック(VAN)LCD及びハイブリッド配向ネマチック(HAN)LCDに使用できることが認められる。
【0078】
本発明の第三の態様の更なる実施態様は、本発明の第一の態様のポリマー1種以上を架橋形態で含む光学又は電気光学素子を提供する。電気光学素子は、1種よりも多い層を含むことができる。その配向層又はそれぞれの配向層は、1種以上の異なる空間的配向を含む
【0079】
本発明のポリマーを、下記の実施例によって更に詳細に説明する。
【0080】
実施例1
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物182.5mg(0.9306mmol)を、テトラヒドロフラン3.5ml中の3,5−ジアミノ安息香酸 6−〔3−(3−メトキシ−4−ブトキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステル0.501g(1.0339mmol)の溶液に加えた。次に、撹拌を0℃で2時間実施した。次に、更に1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物20.3mg(0.1035mmol)を加えた。その後、混合物を室温で44時間反応させた。ポリマー混合物をTHF 3.5mlで希釈し、ジエチルエーテル200ml中で沈殿させ、濾過により回収した。ポリマーを、THF(10ml)から水600ml中で再沈殿させ、減圧下、室温で乾燥させて、ポリアミド酸1 0.61gを、ベージュ色の粉末の形態で得た;〔η〕=0.52dL/g。
【0081】
出発材料として使用した3,5−ジアミノ安息香酸 6−〔3−(3−メトキシ−4−ブチルオキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステルは、下記の手順で作製した。
【0082】
(E)−4−ブチルオキシ−3−メトキシケイ皮酸メチルエステルの作製
【0083】
【化8】
【0084】
フェルラ酸メチルエステル4.16g(20.0mmol)を、2−ブタノン115mlに溶解した。臭化n−ブチル2.09ml(22.0mmol)及び炭酸カリウム11.06g(80mmol)を加えた。次に、反応懸濁液を還流温度で20時間加熱した。反応混合物を濾過した。濾液を揮発により濃縮した。粗生成物を、イソプロピルアルコール42mlから再結晶させて、(E)−4−ブチルオキシ−3−メトキシケイ皮酸メチルエステル4.85g(92%)を、白色の結晶として得た。
【0085】
(E)−4−ブチルオキシ−3−メトキシケイ皮酸の作製
【0086】
【化9】
【0087】
水酸化カリウム10g(0.15mol)を、メチルアルコール200mlと水5mlの混合物に溶解した。(E)−4−ブチルオキシ−3−メトキシケイ皮酸メチルエステル4.85g(18.35mmol)を加えた。その後、反応混合物を60℃に加熱した。2.5時間後、混合物を揮発により濃縮した。残渣を冷水100mlに溶解し、37重量%塩酸 13.5mlを用いてpH=1に酸性化した。生成物を濾取し、水で洗浄し、減圧下、50℃で乾燥させて、(E)−4−ブチルオキシ−3−メトキシケイ皮酸4.24g(92%)を、白色の結晶として得た。
【0088】
(E)−4−ブチルオキシ−3−メトキシケイ皮酸 6−ヒドロキシへキシルエステルの作製
【0089】
【化10】
【0090】
(E)−4−ブチルオキシ−3−メトキシケイ皮酸1.38g(5.50mmol)をアセトニトリル3mlに懸濁させた。1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデカ−7−エン(1,5−5)(DBU)0.84g(5.50mmol)とアセトニトリル3mlの混合物を、5分間かけて滴下した。ヨウ化テトラブチルアンモニウム0.46g(1.25mmol)及び6−クロロヘキサノール0.68g(5.00mmol)を加え、得られた混合物を次いで6時間還流した。反応混合物を冷却した後、酢酸エチルと水を使用して抽出した。酢酸エチル相を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮した。残渣を、シリカゲルカラム(120g)及び溶離剤としてトルエン:酢酸エチル(1:1)を使用してクロマトグラフィーにより精製して、(E)−4−ブチルオキシ−3−メトキシケイ皮酸 6−ヒドロキシヘキシルエステル1.39g(79%)を、無色の油状物として得た。
【0091】
3,5−ジニトロ安息香酸 6−〔3−(3−メトキシ−4−ブチルオキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステル
【0092】
【化11】
【0093】
(E)−4−ブチルオキシ−3−メトキシケイ皮酸 6−ヒドロキシヘキシルエステル3.00g(8.56mmol)、3,5−ジニトロベンゾイルクロリド2.07g(8.98mmol)及び4−ジメチルアミノピリジン10mgを、ジクロロメタン30mlに溶解した。その後、溶液を0℃に冷却し、次にピリジン3.5ml(43.36mmol)を、20分間かけて滴下した。0℃で2.5時間後、反応混合物をジクロロメタンと水に分配した。有機相を水で繰り返し洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮した。残渣を、シリカゲル50g上でトルエン:酢酸エチル(9:1)を使用してクロマトグラフィーに付して、3,5−ジニトロ安息香酸 6−〔3−(3−メトキシ−4−ブチルオキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステル3.80g(81%)を、黄色の油状物として得た。
【0094】
3,5−ジアミノ安息香酸 6−〔3−(3−メトキシ−4−ブチルオキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステル
【0095】
【化12】
【0096】
3,5−ジニトロ安息香酸 6−〔3−(3−メトキシ−4−ブチルオキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステル3.80g(6.98mmol)及び塩化アンモニウム1.47g(27.48mmol)を、メタノール:水が9:1からなる混合物75mlに懸濁した。次に、亜鉛粉末9.07g(0.139mol)を一度に加えた。反応温度が36℃に上昇した。次に、懸濁液を40℃で1.5時間加熱した。反応懸濁液をジクロロメタンと水に分配した。得られた懸濁液を濾過し、有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、水で繰り返し洗浄した。次に有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、揮発により濃縮し、3,5−ジアミノ安息香酸 6−〔3−(3−メトキシ−4−ブチルオキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステル3.47g(99%)を、黄色の油状物として得た。
【0097】
実施例2
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物177.0mg(0.9025mmol)を、テトラヒドロフラン3.1ml中の3,5−ジアミノ安息香酸 6−〔3−(3−メトキシ−4−ペンチルオキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステル0.500g(1.0028mmol)の溶液に加えた。次に、撹拌を0℃で2時間実施した。次に、更に1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物19.7mg(0.1003mmol)を加えた。その後、混合物を室温で21時間反応させた。ポリマー混合物をTHF 3.5mlで希釈し、ジエチルエーテル200ml中で沈殿させ、回収した。ポリマーをTHF(10ml)から水600ml中で再沈殿させ、減圧下、室温で乾燥させて、ポリアミド酸2 0.59gを、ベージュ色の粉末の形態で得た;〔η〕=0.52dL/g。
【0098】
出発材料として使用した3,5−ジアミノ安息香酸 6−〔3−(3−メトキシ−4−ペンチルオキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステルは、実施例1の手順を使用して作製した。
【0099】
実施例3
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物182.1mg(0.9285mmol)を、3,5−ジアミノ安息香酸 6−〔3−(3−メトキシ−4−ペンチルオキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステル0.2572g(0.5158mmol)と3,5−ジアミノ安息香酸 6−〔3−(3−メトキシ−4−ブチルオキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステル0.2500g(0.5159mmol)の、テトラヒドロフラン3.1ml中の溶液に加えた。次に、撹拌を0℃で2時間実施した。次に、更に1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物20.2mg(0.1030mmol)を加えた。その後、混合物を室温で22時間反応させた。ポリマー混合物をTHF 3.5mlで希釈し、ジエチルエーテル200ml中で沈殿させ、回収した。ポリマーをTHF(10ml)から水600ml中で再沈殿させ、減圧下、室温で乾燥させて、ポリアミド酸3 0.65gを、ベージュ色の粉末の形態で得た;〔η〕=0.52dL/g。
【0100】
実施例4
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物148.4mg(0.7567mmol)を、テトラヒドロフラン3.5ml中の3,5−ジアミノ安息香酸 11−〔3−(3−メトキシ−4−シクロヘキシルメトキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ウンデシルエステル500.0g(0.8406mmol)の溶液に加えた。次に、撹拌を0℃で2時間実施した。1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物16.5mg(0.0841mmol)を加えた。その後、混合物を室温で21時間反応させた。ポリマー混合物をTHF 3.5mlで希釈し、ジエチルエーテル200ml中で沈殿させ、回収した。ポリマーをTHF(10ml)から水600ml中で再沈殿させ、真空下、室温で乾燥させて、ポリアミド酸4 0.55gをベージュ色の粉末の形態で得た;〔η〕=0.31dL/g。
【0101】
実施例5
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物208.3mg(0.1062mmol)及び3,5−ジアミノ安息香酸 6−〔3−(4−ペンチルフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステル480.7g(1.062mmol)を使用して、実施例1と同様に作製を実施して、ポリアミド酸5 0.60gを、ベージュ色の粉末の形態で得た;〔η〕=0.94dL/g。
【0102】
実施例6
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物215.7mg(0.1100mmol)及び3,5−ジアミノ安息香酸 6−〔3−(4−ブチルオキシフェニル)アクリロイルオキシ〕ヘキシルエステル480.7g(1.100mmol)を使用して、実施例1と同様に作製を実施して、ポリアミド酸6 0.67gを、ベージュ色の粉末の形態で得た;〔η〕=0.86dL/g。
【0103】
実施例7:配向層の作製
シクロペンタノン中のポリアミド酸1の2%溶液を0.2μmフッ素樹脂フィルタで濾過し、インジウム−スズ酸化物(ITO)で被覆されたガラスプレート上に適用し、それをスピンコート装置中で、3,000回転/min、60秒かけてで被覆した。得られた膜を、130℃で15分間予備乾燥させ、次に180℃で1時間イミド化して、ポリイミドを形成した。
【0104】
次に、そのように被覆されたガラスプレートを、350W高圧水銀灯の直線偏光UV光線で4分間照射した。次に、ジアクリラートの液晶混合物を、照射層にスピンコートで適用し、その後、等方性UV光線で30分間架橋した。偏光顕微鏡下で、配向液晶分子の一軸複屈折層が観察された。傾斜補償板を使用して、配向方向がピリミジン層の照射に使用したUV光線の偏光方向と一致することを確認した。
【0105】
実施例8:確定したチルト角を有する配向層の作製
実施例7のポリアミド酸1で被覆した2枚のガラスプレートを、直線偏光UV光線で4分間照射し、その入射光線の方向は、垂直のプレートに対して40°傾斜していた。光線の偏光方向を、光線の入射方向と垂直のプレートにより確定された面に維持した。両方のプレートにおいて、20μm間隔のセルを、照射面が互いに向かい合うように構築し、前記の照射の偏光方向は、平行であった。次にセルをMerck社製の液晶混合物MLC6610により、105℃で等方相に充填した。次にセルを0.1〜2℃/分の範囲の速度で、室温に徐々に冷却した。交差偏光子間で均一に配向された液晶層が観察された。この平行セルのチルト角は、結晶回転法により86°であった。
【0106】
実施例9:保持率(HR)の測定
実施例7に従って被覆した2枚のガラスプレートを、直線偏光UV光線により4分間、垂直に照射した。両方のプレートにおいて、4μm間隔のセルを、照射面が互いに向かい合うように構築し、前記の照射の偏光方向は平行はであった。次にこのセルを、高真空下120℃で14時間保持し、その後、Merck社製のTFT液晶混合物MLC6610により、真空下、室温で充填した。交差偏光子間で均一に配向した液晶層が観察された。保持率(HR)を試験する前に、最初にセルを120℃で50時間エージングした。次に、V0(t=0におけるV)=0.2Vにおける電圧サージ64μsの電圧減衰V(T=20ms)を、T=20msの間測定した。HR=Vrms(t=T)/V0として、測定された保持率は、室温で98%、80℃で91%であった。
Claims (16)
- ポリイミド、ポリアミド酸及びそのエステルのクラスからの光活性ポリマーであって、一般式I:
Aは、場合によりフッ素、塩素、シアノから選択される基によるか、又はC1‐18環式、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル残基(これは、場合により1個のシアノ基又は1個以上のハロゲン原子で置換されており、そして、場合により、アルキルの隣接しない1個以上の−CH2−基は、基Qで置き換えられている)で置換されているフェニレンを表し;
Bは、非置換か、シアノ若しくはハロゲンで単置換されているか、又はハロゲンで多置換されている、炭素原子3〜18個を有する直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基(ここで、隣接しない1個以上のCH2基は、独立して基Qで置き換えられていてもよい)であり;
C1及びC2は、互いに独立して、芳香族又は脂環式基(これは、非置換か、あるいはフッ素、塩素、シアノ又は環式、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル残基(これは、非置換か、シアノ若しくはハロゲンで単置換されているか、又はハロゲンで多置換されており、炭素原子1〜18個を有し、隣接しない1個以上のCH2基は、独立して基Qで置き換えられていてもよい)で置換されている)を表し;
Dは、酸素原子又は−NR1−(ここで、R1は、水素原子又は低級アルキルを表す)を表し;
S1及びS2は、互いに独立して、共有単結合、−O−CO−、−CO−O−、−(CH2)r−、−(CH2)r−O−、−(CH2)r−CO−O−、−(CH2)r−O−CO−、−(CH2)r−CO−NH−、−(CH2)r−NH−CO−、−O−(CH2)r−、−CO−O−(CH2)r−、−CO−NH−(CH2)r−、−NH−CO−(CH2)r−、−O−CO−(CH2)r−、−O−CO−(CH2)r−CO−O−、−O−(CH2)r−O−CO−、−O−(CH2)r−CO−NH−、−O−(CH2)r−NH−CO−、−CO−O−(CH2)r−O−、−CO−NH−(CH2)r−O−、−O−(CH2)r−O−、−(CH2)r−NH−CO−(CH2)s−、−(CH2)r−NH−CO−O−(CH2)s−、−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−(CH2)r−NH−CO−(CH2)s−O−、−(CH2)r−NH−CO−O−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−NH−CO−(CH2)s−、−O−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−O−CO−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−CO−O−(CH2)r−O−(CH2)s−O−、−O−(CH2)r−NH−CO−(CH2)s−O−又は−O−CO−(CH2)r−NH−CO−(CH2)s−O−を表し(ここで、r及びsは1〜12の整数を表し、r+s≦15である);
S3は、−(CH2)r´+1−、−O−(CH2)r´−、−CO−O−(CH2)r´−、−O−CO−(CH2)r´−、−NR1−CO−(CH2)r´−、−CO−NR1−(CH2)r´−、−NR1−(CH2)r´−、−(CH2)r´−O−(CH2)s´−、−(CH2)r´−CO−O−(CH2)s´−、−(CH2)r´−O−CO−(CH2)s´−、−(CH2)r´−NR1−CO−(CH2)s´−、−(CH2)r´−NR1−CO−O−(CH2)s´−、−O−(CH2)r´−O−(CH2)s´−、−O−(CH2)r´−CO−O−(CH2)s´−、−O−(CH2)r´−NR1−CO−(CH2)s´−、−O−(CH2)r´−NR1−CO−O−(CH2)s´−及び−CO−O−(CH2)r´−O−(CH2)s´−から選択され(ここで、R1は水素又は低級アルキル基を表し、r´及びs´は1〜20の整数を表し、r´+s´≦21である);
Qは、−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−Si(CH3)2−O−Si(CH3)2−、−NR1−、−NR1−CO−、−CO−NR1−、−NR1−CO−O−、−O−CO−NR1−、−NR1−CO−NR1−、−CH=CH−、−C≡C−及び−O−CO−O−(ここで、R1は、水素原子又は低級アルキルを表す)から選択される基を表し;
n1は、0であり、n2は、0又は1であり;そして
X、Yは、互いに独立して、水素又はシアノを表す〕
で示される光架橋性基を側鎖として含むことを特徴とする光活性ポリマー。 - 主鎖が、一般式II、IV及びVIのイミド基並びに/又は一般式III、V及びVIIの類似のアミド酸基及びアミド酸エステル基:
破線は、S3への結合を示し、
T1は、四価の有機基を表し;
T2及びT3は、それぞれ独立して、場合によりフッ素、塩素、シアノ及びC1‐18環式、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基(これは、場合により1個以上のハロゲン基で置換されており、そして場合によりアルキルの隣接しない1個以上の−CH2−基は、独立して−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−CH=CH−及び−C≡C−から選択される基で置き換えられている)から選択される基で置換されている、三価の芳香族又は脂環式基を表し;
S4〜S8は、それぞれ独立して、共有単結合及びC1‐24直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン残基(これは、場合により1個のシアノ基又は1個以上のハロゲン原子で置換されており、そして場合により、アルキレンの隣接しない1個以上の−CH2−基は、独立して基Qで置き換えられている)から選択され;
Eは、窒素原子、基−CR1−(ここで、R1は、水素原子又は低級アルキルを表す)及び芳香族若しくは脂環式の二価、三価又は四価の基(場合によりフッ素、塩素、シアノ及びC1‐18環式、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル残基(これは、場合により1個のシアノ基又は1個以上のハロゲン原子で置換されており、そして場合により、隣接しない1個以上の−CH2−基は、独立して−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−CH=CH−及び−C≡C−から選択される基で置き換えられている)から選択される1個以上の基で置換されている)を含む群から選択され;
Fは、脂肪族、脂環式又は芳香族の二価の基を表し;そして
Gは、水素原子又は一価の有機基を表す〕
を含むモノマー単位から構成される、請求項1記載のポリマー。 - 四価の有機基T1が、脂肪族、脂環式又は芳香族のテトラカルボン酸二無水物から誘導される、請求項2記載のポリマー。
- 基T2及びT3の1個以上が、脂肪族、脂環式又は芳香族のジカルボン酸無水物から誘導される、請求項2又は3記載のポリマー。
- 固有粘度(ηinh=1nηrel/C)が、溶媒としてN−メチル−2−ピロリドンを使用した0.5g/100mlの濃度でポリマーを含有する溶液について、その粘度を30℃で測定することにより決定され、固有粘度0.05〜10dL/gの範囲を有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリマー。
- ポリイミドの主鎖を形成するモノマー単位が2〜2,000である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のポリマー。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のポリマーと、シラン含有化合物、エポキシ含有架橋剤、光増感剤、光ラジカル発生及び/又は陽イオン光開始剤を更に含む、組成物。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のポリマーを、架橋形態で含むポリマー層。
- 1種以上のポリマーを支持体に適用し、そして必要であるならば、任意のイミド化工程の後、ポリマー又はポリマー混合物を直線偏光を照射して架橋することを含む、請求項8記載のポリマー層の作製方法。
- 請求項1〜6のいずれか1項記載のポリマーの1種以上を架橋形態で含む、液晶用の配向層。
- 請求項10に記載の配向層を含む、ハイブリッド配向ネマチック、ネマチック配向又は垂直配向ネマチック層エレメント。
- 請求項1〜6のいずれか1項記載のポリマーの1種以上を架橋形態で含む、光学素子。
- 請求項1〜6のいずれか1項記載のポリマーの1種以上を架橋形態で含む、電気光学素子。
- 請求項1〜6のいずれか1項記載のポリマーを使用する、液晶用の配向層を作成する方法。
- 架橋形態での、請求項1〜6のいずれか1項記載のポリマーを使用する、非吸収カラーフィルタ、直線及び円偏光子又は光遅延層である非構造化及び/又は構造化光学エレメントを構築する方法。
- 架橋形態での、請求項1〜6のいずれか1項記載のポリマーの多層系を構築する方法。
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KR101110090B1 (ko) | 2003-07-16 | 2012-02-15 | 롤리크 아게 | 배향층용의 중합 가능한 공중합체 |
KR100562524B1 (ko) * | 2003-10-21 | 2006-03-23 | 한국화학연구원 | 평탄화 특성이 우수한 감광성 투명 폴리아믹산 올리고머와이를 경화하여 제조된 폴리이미드 수지 |
KR100552990B1 (ko) * | 2004-02-12 | 2006-02-17 | 한국화학연구원 | 전유기 박막트랜지스터 절연체용 저온경화형 감광성폴리이미드 수지 |
JPWO2005096041A1 (ja) * | 2004-03-30 | 2008-02-21 | 日本化薬株式会社 | マイクロパターン位相差素子 |
CN101040028B (zh) * | 2004-10-13 | 2012-03-28 | 罗利克有限公司 | 光可交联材料 |
EP1764405A1 (en) | 2005-09-20 | 2007-03-21 | Rolic AG | Functionalized photoreactive compounds |
EP1860094A1 (en) * | 2006-05-23 | 2007-11-28 | Rolic AG | Photocrosslinkable materials |
EP1801097A1 (en) * | 2005-12-23 | 2007-06-27 | Rolic AG | Photocrosslinkable materials |
EP2305631A1 (en) * | 2005-12-23 | 2011-04-06 | Rolic AG | Photocrosslinkable materials |
CN101144943B (zh) * | 2006-09-11 | 2011-07-06 | Jsr株式会社 | 液晶取向剂和液晶显示元件 |
EP2131233B1 (en) | 2007-03-26 | 2017-03-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and polymer for aligning film material |
WO2008135131A1 (en) * | 2007-05-02 | 2008-11-13 | Rolic Ag | Thermally stable alignment materials |
US10208031B2 (en) * | 2007-05-25 | 2019-02-19 | Rolic Ag | Photocrosslinkable materials comprising alicyclic group |
EP2182405B1 (en) | 2007-08-21 | 2016-01-13 | JSR Corporation | Liquid crystal aligning agent, method for producing liquid crystal alignment film, and liquid crystal display device |
EP2182407A4 (en) | 2007-08-21 | 2011-03-23 | Jsr Corp | LIQUID CRYSTAL ORIENTATION PROCESS, METHOD FOR PRODUCING A LIQUID CRYSTAL ORIENTATION LAYER AND A LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE |
WO2009025386A1 (ja) | 2007-08-21 | 2009-02-26 | Jsr Corporation | 液晶配向剤、液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子 |
KR101443216B1 (ko) * | 2007-09-05 | 2014-09-24 | 삼성전자주식회사 | 광 반응성 재료를 이용한 유기발광소자 및 그 제조 방법 |
CN105733606B (zh) | 2007-12-21 | 2018-04-03 | 罗利克有限公司 | 光校准组合物 |
EP2222740B1 (en) | 2007-12-21 | 2017-10-11 | Rolic AG | Functionalized photoreactive compounds |
EP2306238A4 (en) * | 2008-06-27 | 2012-09-12 | Sharp Kk | LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME |
WO2010026721A1 (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-11 | シャープ株式会社 | 配向膜、配向膜材料および配向膜を有する液晶表示装置ならびにその製造方法 |
RU2011126145A (ru) * | 2008-11-27 | 2013-01-10 | Шарп Кабусики Кайся | Ориентирующая пленка, жидкокристаллический дисплей, имеющий ориентирующую пленку, и способ получения ориентирующей пленки |
KR101541018B1 (ko) * | 2008-12-08 | 2015-07-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광배향 화합물, 광배향 조성물, 배향막을 포함하는 표시 기판 및 이의 제조 방법 |
JP5630014B2 (ja) | 2009-01-30 | 2014-11-26 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP5630013B2 (ja) | 2009-01-30 | 2014-11-26 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2010189510A (ja) * | 2009-02-17 | 2010-09-02 | Hitachi Cable Ltd | 絶縁塗料及び絶縁電線 |
JP5408415B2 (ja) * | 2009-06-10 | 2014-02-05 | Jsr株式会社 | 1位置換3,5−ジアミノベンゼンの製造方法 |
WO2010150693A1 (ja) * | 2009-06-25 | 2010-12-29 | チッソ株式会社 | 光配向した液晶性ポリイミドによる位相差膜及び光学素子 |
JP5525213B2 (ja) | 2009-08-28 | 2014-06-18 | 富士フイルム株式会社 | 偏光膜、積層体、及び液晶表示装置 |
JP5657243B2 (ja) | 2009-09-14 | 2015-01-21 | ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド | カラーフィルタ及び発光表示素子 |
KR20110037874A (ko) * | 2009-10-05 | 2011-04-13 | 소니 주식회사 | 이무수물 및 디아민을 반응시켜 얻은 폴리아미드산 및 폴리이미드 |
JP5668907B2 (ja) * | 2009-12-25 | 2015-02-12 | Jsr株式会社 | 液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子 |
TWI591096B (zh) * | 2010-02-12 | 2017-07-11 | 羅利克股份公司 | 具橫向取代之光配向材料 |
JP5442518B2 (ja) | 2010-03-31 | 2014-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 光吸収異方性膜、偏光フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた表示装置 |
JP5300776B2 (ja) | 2010-03-31 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | 偏光フィルム、表示装置、及びその製造方法 |
JP5566160B2 (ja) | 2010-03-31 | 2014-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 液晶性化合物、液晶性組成物、光吸収異方性膜、及び液晶表示装置 |
US9057917B2 (en) | 2010-04-02 | 2015-06-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Pixel electrode panel, a liquid crystal display panel assembly and methods for manufacturing the same |
US8865274B2 (en) | 2010-04-02 | 2014-10-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device, alignment film, and methods for manufacturing the same |
TWI512010B (zh) * | 2010-07-05 | 2015-12-11 | Nissan Chemical Ind Ltd | A liquid crystal aligning agent and a liquid crystal display device using the liquid crystal display device |
KR101831008B1 (ko) * | 2010-07-05 | 2018-02-21 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 액정 배향 처리제, 액정 배향막 및 그것을 사용한 액정 표시 소자 |
JP2012032601A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Sony Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
WO2012029589A1 (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネル、液晶表示装置及び配向膜材料用重合体 |
KR101874448B1 (ko) * | 2011-05-09 | 2018-07-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기전계발광 표시 장치 |
JP2013011755A (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-17 | Sony Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
KR102193256B1 (ko) | 2011-08-25 | 2020-12-23 | 롤리크 아게 | 광반응성 화합물 |
JP6145453B2 (ja) | 2011-10-03 | 2017-06-14 | ロリク アーゲーRolic Ag | 光アライニング材料 |
CN103889944A (zh) | 2011-10-03 | 2014-06-25 | 罗利克股份公司 | 光排列材料 |
JP2013246405A (ja) * | 2012-05-29 | 2013-12-09 | Jsr Corp | 液晶配向剤 |
CN104619772B (zh) | 2012-09-10 | 2017-08-25 | Lg化学株式会社 | 用于光取向层的组合物及光取向层 |
CN103364989A (zh) * | 2013-05-22 | 2013-10-23 | 华映视讯(吴江)有限公司 | 彩色滤光基板的制造方法 |
KR102069288B1 (ko) | 2013-08-28 | 2020-01-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 배향제 및 액정 표시 장치 |
KR102164314B1 (ko) | 2014-02-10 | 2020-10-12 | 삼성전자주식회사 | 폴리이미드 또는 폴리(이미드-아미드) 복합 필름, 및 상기 복합 필름을 포함하는 디스플레이 장치 |
KR102367765B1 (ko) * | 2014-09-18 | 2022-02-24 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 액정 배향제, 액정 배향막, 및 액정 표시 소자 |
WO2016156079A1 (en) | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Rolic Ag | Photoalignment composition |
US10696795B2 (en) | 2015-11-11 | 2020-06-30 | Rolic Technologies AG | Photoaligning materials |
KR101879834B1 (ko) | 2015-11-11 | 2018-07-18 | 주식회사 엘지화학 | 액정 배향막의 제조 방법, 이를 이용한 액정 배향막 및 액정 표시소자 |
KR20190067847A (ko) | 2016-10-11 | 2019-06-17 | 롤릭 테크놀로지스 아게 | 광배향 공중합체 재료 |
JP7039702B2 (ja) | 2018-07-02 | 2022-03-22 | 富士フイルム株式会社 | 加飾フィルム、加飾方法、加飾成型体の製造方法、及び、加飾成型フィルム |
WO2020162120A1 (ja) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | 東洋紡株式会社 | 折りたたみ型ディスプレイ及び携帯端末機器 |
KR20210125514A (ko) | 2019-02-08 | 2021-10-18 | 도요보 가부시키가이샤 | 폴리에스테르 필름과 그 용도 |
CN113490594A (zh) | 2019-02-27 | 2021-10-08 | 富士胶片株式会社 | 层叠体 |
WO2020196306A1 (ja) | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 東洋紡株式会社 | 反射防止用円偏光板およびそれを用いた画像表示装置 |
CN110128652B (zh) * | 2019-05-21 | 2020-08-04 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 交联型聚酰亚胺、聚酰亚胺薄膜及其制备方法、oled器件 |
US11525038B2 (en) | 2019-05-21 | 2022-12-13 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Crosslinked polymide, polymide film and method for preparing thereof, organic light emitting diode device |
US11939499B2 (en) | 2019-05-28 | 2024-03-26 | Toyobo Co., Ltd. | Multilayer film and use of same |
KR20220016132A (ko) | 2019-05-28 | 2022-02-08 | 도요보 가부시키가이샤 | 폴리에스테르 필름, 적층 필름 및 그 용도 |
CN113874191B (zh) | 2019-05-28 | 2024-03-12 | 东洋纺株式会社 | 聚酯薄膜及其用途 |
KR20220011703A (ko) | 2019-05-30 | 2022-01-28 | 도요보 가부시키가이샤 | 폴딩형 디스플레이용 편광판 |
US20220236468A1 (en) | 2019-05-30 | 2022-07-28 | Toyobo Co., Ltd. | Foldable display |
WO2020262474A1 (ja) | 2019-06-27 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 成型用加飾フィルム、成型物、及びディスプレイ |
CN114341274B (zh) * | 2019-09-05 | 2023-08-11 | 富士胶片株式会社 | 组合物、偏振器层、层叠体及图像显示装置 |
WO2023174773A1 (en) | 2022-03-16 | 2023-09-21 | Rolic Technologies AG | Photoaligning materials |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5545748A (en) * | 1978-09-29 | 1980-03-31 | Hitachi Ltd | Photosensitive polymer and its production |
JPS63318549A (ja) * | 1987-06-22 | 1988-12-27 | Hitachi Ltd | 耐熱感光性重合体組成物 |
JPH10251513A (ja) * | 1996-12-30 | 1998-09-22 | Samsung Display Devices Co Ltd | 光配向性組成物、これより形成された配向膜及びこの配向膜を具備している液晶表示素子 |
WO1999051662A1 (fr) * | 1998-04-01 | 1999-10-14 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Compositions de polyimides |
JPH11305256A (ja) * | 1998-04-24 | 1999-11-05 | Hitachi Ltd | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JP2000281783A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-10 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規ジアミン及びこれを用いた新規ポリイミド組成物。 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100205963B1 (ko) | 1997-05-29 | 1999-07-01 | 이서봉 | 액정 배향막용 신규 가용성 폴리이미드 수지 |
DE69806618T2 (de) | 1997-09-25 | 2003-02-27 | Rolic Ag Zug | Photovernetzbare polyimide |
JP2002515617A (ja) * | 1998-05-18 | 2002-05-28 | エルシコン・インコーポレーテッド | 液晶の整列を誘起する方法及び材料、並びに液晶光学素子 |
EP1229066A1 (en) * | 2001-02-05 | 2002-08-07 | Rolic AG | Photoactive polymer |
-
2001
- 2001-01-22 KR KR1020027009486A patent/KR100663661B1/ko active IP Right Grant
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-
2003
- 2003-01-09 HK HK03100238.9A patent/HK1048644B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5545748A (en) * | 1978-09-29 | 1980-03-31 | Hitachi Ltd | Photosensitive polymer and its production |
JPS63318549A (ja) * | 1987-06-22 | 1988-12-27 | Hitachi Ltd | 耐熱感光性重合体組成物 |
JPH10251513A (ja) * | 1996-12-30 | 1998-09-22 | Samsung Display Devices Co Ltd | 光配向性組成物、これより形成された配向膜及びこの配向膜を具備している液晶表示素子 |
WO1999051662A1 (fr) * | 1998-04-01 | 1999-10-14 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Compositions de polyimides |
JPH11305256A (ja) * | 1998-04-24 | 1999-11-05 | Hitachi Ltd | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JP2000281783A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-10 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規ジアミン及びこれを用いた新規ポリイミド組成物。 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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