JP4776044B1 - 被洗浄物の洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】蓋体2にて密閉可能な出入口3を上端に設けた基準室1を設ける。この基準室1の外周に基準室1との連通および遮断を可能にした側室8、9を設ける。前記基準室1に被洗浄物7を出入する上下搬送機構5と、被洗浄物7を側室8、9内に搬入または基準室1に搬出可能とした水平搬送機構11,12とを設ける。この水平搬送機構11、12に接続し、側室8、9と基準室1との連通または遮断を可能とした遮断壁26、27とから成る被洗浄物の洗浄装置である。
【選択図】図1
Description
の危険を減少するとともに洗浄効率の良い迅速な洗浄作業を可能にしようとするものであ
る。
蒸気洗浄等の異なる洗浄手段を加えた後に乾燥作業を行う事が一般的に行われている。そ
して、これらの洗浄手段や乾燥を被洗浄物に加える方法として、大まかには従来2つの方
法が用いられている。その一つは、上記の洗浄手段を各々実現するための洗浄液浸漬洗浄
槽、シャワー洗浄槽、蒸気洗浄槽、乾燥槽等を平面的に並べて配置し、この複数の槽の間
を順次移動しながら被洗浄物の洗浄を行う方法が存在する。
移動する過程で、被洗浄物に洗浄液浸漬洗浄、シャワー洗浄、蒸気洗浄等の異なる洗浄手
段を加えた後に乾燥作業を行う方法が知られている。異なる他の方法は特許文献2に示す
如く、一つの洗浄槽内をゲートバルブで上下に仕切る事により、下方の槽に存在する洗浄
液の影響を受けることなく上部槽で被洗浄物の乾燥を行うようにしたものが知られている
。
、乾燥槽等を平面的に並べて配置し、この複数の槽の間をを順次移動しながら被洗浄物の
洗浄を行う方法に於いては、複数の槽に各々被洗浄物を挿入して同時に複数の洗浄作業を
行う事ができるため、作業効率を高める事が出来る利点を有している。しかしながら、複
数の槽に被洗浄物を出入する場合に、その度に各槽の蓋を開閉しなければならないと共に
被洗浄物に溶剤が付着したまま外部に取り出されて次の槽に移送されるため、溶剤ガスの
流出量が多くなり、環境や作業者に悪影響を与えるとともに溶剤ロスを多くし、洗浄コス
トを高くする欠点を有していた。また、可燃性溶剤を洗浄液に用いた場合には、溶剤ガス
の流出量が多くなる事によって引火の危険性も高いものとなっていた。
程で、被洗浄物に洗浄液浸漬洗浄、シャワー洗浄、蒸気洗浄等の異なる洗浄手段を加えた
後に乾燥作業を行う方法は、一つの洗浄槽内で被洗浄物に洗浄液浸漬洗浄、シャワー洗浄
、蒸気洗浄等の異なる洗浄手段を加える事が出来るため、溶剤ガスの流出が少なく、環境
や作業者に与える影響が少ないとともに溶剤ロスも少なく廉価な洗浄作業を可能とする利
点を有している。また、1つの洗浄槽で複数の洗浄作業を行う事ができるため、装置の専
有面積が少ない利点も有している。しかしながら、一つの洗浄槽内で被洗浄物に洗浄液
浸漬洗浄、シャワー洗浄、蒸気洗浄等の異なる洗浄手段を順次加えるものであるから、多
くの洗浄時間を必要とする欠点を有している。
、下方の槽に存在する洗浄液の影響を受けることなく上部槽で被洗浄物の乾燥を行うよう
にしたものに於いては、洗浄蒸気の発生部と乾燥部とをゲートバルブによって遮断する事
は可能であるが、洗浄槽内に形成している複数の洗浄部を個別に密閉して個々に別個の洗
浄作業を行う事は出来ないものである。そのため洗浄効率を悪いものとしている。
や引火の危険を減少するとともに洗浄効率の良い迅速な洗浄作業を可能にしようとするも
のである。そして、洗浄効率の良い迅速な洗浄作業を可能とするため、複数の洗浄部を設
けてこの複数の洗浄部に同時に被洗浄物を挿入可能するとともに複数の洗浄部を順次移動
しながら異なる洗浄作業を被洗浄物に加える事を可能にする。また、同時に複数の洗浄部
を個々に密閉する事を可能にするとともに複数の洗浄部を備えながら、被洗浄物の外部へ
の出入口を一槽分に対応する一個のみ形成し、溶剤蒸気の外部への流出を極度に減少させ
、作業者や環境に与える影響を最小限とし、また溶剤ロスの発生を最小限とし廉価な洗浄
作業を可能にするものである。
口を上端に設けた基準室を形成する。また、この基準室の外周に配置し基準室との連通お
よび遮断を可能にした1個または複数個の側室を形成する。この側室及び基準室は被洗浄
物の洗浄を可能とする機能を備えている。また、前記基準室に被洗浄物を出入口から出入
する上下搬送機構と、前記側室に配置し基準室に搬入した被洗浄物を側室内に搬入または
基準室に搬出可能とした水平搬送機構とを形成する。そして、この水平搬送機構には側室
と基準室との連通または遮断を可能とした遮断壁を接続している。そして、基準室および側室には、蒸気発生機構、減圧機構、洗浄液供給機構の全部または1つの機構を選択的に接続するとともに溶剤を用いて被洗浄物の洗浄を行うものである。
対応のものであっても良い。
る事により被洗浄物の浸漬洗浄を手軽に行う事が可能となる。
から被洗浄物の出入を行うものであるから、基準室、側室等の複数の洗浄室を設けた場合
も外気との接触を極力減少する事が可能となり、溶剤蒸気の流出や引火の危険を減少し、
溶剤ロスの発生も減少することができる。また、基準室、側室等の複数の洗浄部を設ける
とともに基準室に被洗浄物を出入する上下搬送機構と、前記側室に配置し基準室に搬入し
た被洗浄物を側室内に搬入または基準室に搬出可能とした水平搬送機構とを設けるもので
あるから、基準室を基準として被洗浄物を基準室及び側室に各々配置したり、基準室と側
室間を容易に順次移動しながら異なる洗浄作業を被洗浄物に加える事を可能とし、効率的
な洗浄作業を可能とする事ができる。
設けたから、基準室と側室からなる洗浄部を各々独立して密閉する事が出来、被洗浄物の
洗浄液浸漬洗浄、蒸気洗浄、減圧乾燥等の異なる洗浄手段を各々の洗浄部で他の洗浄部の
影響を受けることなく行う事が可能となる。そして、側室を複数設ければ更に効率的な洗
浄作業を可能にする事が出来るものである。
て密閉および開放を可能にした出入口(3)を設けたフード(4)を上端に形成している。こ
の基準室(1)は、エアシリンダ等で形成した上下搬送機構(5)を上面に臨ませて配置し、
この上下搬送機構(5)により、基準室(1)及び基準室(1)の下端に設けた浸漬洗浄部(6)
への被洗浄物(7)の収納及び取り出しを可能としている。
たは複数個の側室(8)(9)を配置している。本実施例に置いては基準室(1)の外周に2個
の側室(8)(9)を設けているが、この側室(8)(9)は一個でも良いし、3個以上設けても
良く、洗浄作業の目的に応じて任意に決定することができる。また、この側室(8)(9)は
、前記基準室(1)に被洗浄物(7)を出入する上下搬送機構(5)と、前記側室(8)(9)に配
置し基準室(1)に搬入した被洗浄物(7)を側室(8)(9)内に搬入または、側室(8)(9)の
被洗浄物(7)を基準室(1)に搬出可能とした水平搬送機構(11)(12)を設けている。
4)等により構成している。そして、水平搬送機構(11)(12)はエアシリンダ(13)(1
4)の両側に補助スピンドル(15)(16)を配置し、この補助スピンドル(15)(16)と
エアシリンダ(13)(14)のスピンドル(17)(18)の先端を連結板(20)(21)で連結
固定している。また、この連結板(20)(21)の外面で基準室(1)側に取付杆(22)(2
3)を突出固定している。
遮断壁(26)(27)を接続固定し、水平搬送機構(11)(12)の収縮時には側室(8)(9)
の開口部(24)(25)を遮断密閉すると共に、水平搬送機構(11)(12)の伸長時には基
準室(1)を通過して、対向位置の側室(8)(9)に配置した遮断壁(26)(27)に近接する
位置まで遮断壁(26)(27)を移動し得るよう、水平搬送機構(11)(12)のスピンドル
(17)(18)、取付杆(22)(23)等の突出長さを調整している。また、遮断壁(26)(
27)と連結板(20)(21)との間には被洗浄物(7)の載置部(28)(29)を連結位置し
、水平搬送機構(11)(12)を伸長した時には載置板(28)(29)を基準室(1)内に配置
し、上下搬送機構(5)で運ばれた被洗浄物(7)を載置し、側室(8)(9)内に移送可能とし
たり、側室(8)(9)内の被洗浄物(7)を基準室(1)まで移送可能としている。
洗浄、真空乾燥等の真空関連作業を可能としている。勿論、基準室(1)および側室(8)(
9)は耐減圧性の真空槽にする必要性は必ずしも無く、作業目的に応じて任意に設計する
ことが可能である。
することが可能である。本実施例では側室(8)(9)及び基準室(1)に各々、第1、第2、
第3、第4開閉弁(31)(32)(33)(34)、凝縮器(35)を介して減圧機構(36)を接
続している。更にこの減圧機構(36)と凝縮器(35)との間に第5開閉弁(37)を設けて
いる。また、凝縮器(35)には第6開閉弁(38)を介して凝縮液貯槽(40)を配置し、こ
の凝縮液貯槽(40)を第7開閉弁(41)を介して浸漬洗浄部(6)に接続している。また、
この浸漬洗浄部(6)の下端と側室(8)(9)の下端を第8、第9開閉弁(42)(43)を介し
て接続している。
0、第11、第12開閉弁(45)(46)(47)を介して接続し、洗浄蒸気の供給を可能と
している。蒸気発生機構(44)はヒータ(48)と共に液面計(50)を備え、第13開閉弁
(51)を介してリザーブタンク(52)に接続し、このリザーブタンク(52)を浸漬洗浄部
(6)に接続している。このリザーブタンク(52)は、浸漬洗浄部(6)のオーバーフロー液
を収納すると共に蒸気発生機構(44)に洗浄液(53)を供給している。また、図面中(5
4)は真空破壊弁である。
基準室(1)のフード(4)上端の出入口(3)を密閉する蓋体(2)を開放し、上下搬送機構(
5)に保持した被洗浄物(7)を、出入口(3)から基準室(1)を介して図2に示す如く浸漬
洗浄部(6)に挿入する。この被洗浄物(7)の浸漬洗浄部(6)への挿入に於いて、洗浄液(
53)と上下搬送機構(5)とは接触することの無いようにし、上下搬送機構(5)が基準室(
1)の外方に引き上げられたときに溶剤の持ち出しを防止する。次に、図3に示す如く、
上下搬送機構(5)を基準室(1)から上方に引き出すと共に出入口(3)を蓋体(2)で密閉し
、被洗浄物(7)の浸漬洗浄を行う。
構(5)により浸漬洗浄の完了した被洗浄物(7)を基準室(1)のフード(4)部分まで引き上
げる。この引き上げにより、被洗浄物(7)に付着している洗浄液(53)は外気と接触する
ことになるが、被洗浄物(7)はフード(4)内に配置されているから溶剤ガスの拡散は少な
いものとなる。また、減圧機構(36)を作動すれば、溶剤ガスは基準室(1)の内部方向に
流れるから、溶剤ガスの外部への流出は殆ど生じることがない。
26)を対向する遮断壁(27)に近接させると共に水平搬送機構(11)の載置部(28)を
基準室(1)に移動する。そして、この載置部(28)に被洗浄物(7)を載置する。次に、水
平搬送機構(11)を元位置に復元し、図6に示す如く、被洗浄物(7)を側室(8)に収納す
ると共に遮断壁(26)によって側室(8)を密閉する。この密閉状態で第1、第4、第5開
閉弁(33)(34)(37)を開放し減圧機構(36)を作動して一方の側室(8)内を減圧する
とともに第11開閉弁(46)を開放すれば、蒸気発生機構(44)の洗浄蒸気が側室(8)に
導入され、被洗浄物(7)の蒸気洗浄を行うことができる。この蒸気洗浄と同時に蓋体(2)
を開放し、上下搬送機構(5)により次の被洗浄物(7)を浸漬洗浄部(6)に導入して、図6
に示す如く蓋体(2)を密閉する。次に第3、第5開閉弁(33)(37)を開放し基準室(1)
内を減圧して、被洗浄物(7)の減圧浸漬洗浄を行う。
(46)を閉止し、減圧機構(36)と連通する第1、第4開閉弁(31)(34)を開放したま
まとすることにより、側室(8)内の減圧度を高めて、被洗浄物(7)の減圧乾燥作業を行う
。減圧機構(36)を更に強く作動して側室(8)内の減圧度を急激に高め突沸乾燥を行っ
ても良い。また、上記の蒸気洗浄及び乾燥作業は、浸漬洗浄に比較し作業時間を多く必要とするものであるから、一方の側室(8)で蒸気洗浄及び減圧乾燥を行うのと同時に、図8に示す如く他方の側室(9)でも、浸漬洗浄の完了した被洗浄物(7)に蒸気洗浄及び減圧乾燥を行ないながら、浸漬洗浄部(6)で次の被洗浄物(7)の浸漬洗浄を行うものとしても良い。また、一方の側室(8)では被洗浄物(7)の蒸気洗浄のみを行い、他方の側室(9)で被洗浄物(7)の乾燥のみを行っても良い。また、その際の開閉弁の開閉については、上記の
閉手順に準じておこなうものであり、具体的手順は説明が煩雑と成るため省略する。
室(8)(9)に被洗浄物(7)を振り分ける分配位置として用いているが、基準室(1)で被洗
浄物(7)の具体的な洗浄作業を行うことも勿論可能である。本発明に於いては、洗浄目的
に応じて基準室(1)、側室(8)(9)を任意に用いて多様な洗浄作業を効率よく行うことが
可能となるものである。そして、基準室(1)と側室(8)(9)という複数の洗浄部を用いて
多様な洗浄作業を行いながら、被洗浄物(7)の出入口(3)は一槽分の一個であるから、外
部への溶剤ガスの流出を最小限とすることが可能となるものである。
行っているが、必ずしもその必要性はなく、実施例2では図11に示す如く、専用の浸漬
洗浄部(6)を設けることなく被洗浄物(7)の浸漬洗浄を行っている。基準室(1)の下底は
底板(55)にて密閉すると共に側室(8)(9)に洗浄液管理槽(56)を接続している。この
洗浄液管理槽(56)は、被洗浄物(7)の浸漬洗浄を行うための洗浄液(53)を充填し、液
送ポンプ(57)、濾過器(58)を第15、第16開閉弁(59)(60)を介して側室(8)(
9)の上部に接続する。また、側室(8)(9)の下端を第17、第18開閉弁(62)(63)
を介して洗浄液管理槽(56)に接続し、側室(8)(9)からの洗浄液(53)の回収を可能と
している。
続と真空破壊弁(54)の設置は、前記の実施例1と全く同一である。そして、前記の実施
例1に於いても同様であるが、遮断壁(26)(27)による側室(8)(9)の密閉が不十分と
なり、側室(8)(9)の真空不良が生じた場合にも、第3開閉弁(33)を開放して基準室の
(1)の減圧を行うことにより、この減圧に伴い側室(8)(9)も減圧が可能となり、減圧を
用いた洗浄作業が支障なく行えるものである。
様に、一方の側室(8)の水平搬送機構(11)を基準室(1)側に突出し、出入口(3)から上
下搬送機構(5)により基準室(1)に搬送した被洗浄物(7)を、載置部(28)で受け取って
一方の側室(8)に収納し、この一方の側室(8)を遮断壁(26)で密閉する。次に、一方の
側室(8)に洗浄液(53)を導入する。この、洗浄液(53)の導入は第17開閉弁(62)を
閉止し、第15開閉弁(59)を開放した状態で液送ポンプ(57)を作動することにより、
洗浄液管理槽(56)の洗浄液(53)を一方の側室(8)に導入し被洗浄物(7)の浸漬洗浄を
行う。
6)に洗浄液(53)を排出した後、蒸気発生機構(44)と接続し蒸気洗浄を行う。また、
同時に他方の側室(9)では他の被洗浄物(7)の浸漬洗浄を行っても良いし、蒸気洗浄を行
うものであっても良い。更に、基準室(1)では蒸気洗浄の完了した被洗浄物(7)の真空乾
燥を行っても良い。
32)(34)(37)を介して側室(8)(9)に接続しているが、更に別系統の配管を、第1
9、第20開閉弁(64)(65)を介して減圧機構(36)と側室(8)(9)を接続し、この側
室(8)(9)内を減圧した状態で第17、第18開閉弁(62)(63)を同時にまたは別個に
開放する事により、洗浄液管理槽(56)の洗浄液(56)を液槽ポンプ(57)を用いること
なく、迅速に側室(8)(9)に減圧吸引して導入する事が可能となる。
間を洗浄目的に応じて任意に被洗浄物(7)を出入しながら洗浄手段を作動させることによ
り、効率的で溶剤の消費が少ない洗浄を可能とするものである。尚、上記の第1、第2実
施例ではシャワー洗浄についての説明を具体的には行っていないが、シャワー洗浄機構を
基準室(1)、側室(8)(9)に設けることは勿論可能であり、基準室(1)、側室(8)(9)に
は任意の洗浄手段を任意に接続することが可能となる。
2 蓋体
3 出入口
5 上下搬送機構
6 浸漬洗浄部
7 被洗浄物
8 側室
9 側室
11 水平搬送機構
12 水平搬送機構
26 遮断壁
27 遮断壁
36 減圧機構
44 蒸気発生機構
Claims (3)
- 蓋体にて密閉および開放を可能にした出入口を上端に設けた基準室と、この基準室の外
周に配置し基準室との連通および遮断を可能にした1個または複数個の側室と、前記基準
室に被洗浄物を出入する上下搬送機構と、前記側室に配置し基準室に搬入した被洗浄物を
側室内に搬入または基準室に搬出可能とした水平搬送機構と、この水平搬送機構に接続し
、側室と基準室との連通または遮断を可能とした遮断壁とから成り、基準室および側室には、蒸気発生機構、減圧機構、洗浄液供給機構の全部または1つの機構を選択的に接続するとともに溶剤を用いて被洗浄物の洗浄を行う事を特徴とする被洗浄物の洗浄装置。 - 基準室および側室は耐減圧性の真空槽にて形成した事を特徴とする請求項1に記載の被洗浄物の洗浄装置。
- 基準室の下端には、浸漬洗浄部を形成した事を事を特徴とする請求項1に記載の被洗浄
物の洗浄装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010256231A JP4776044B1 (ja) | 2010-11-16 | 2010-11-16 | 被洗浄物の洗浄装置 |
PCT/JP2011/003731 WO2012066699A1 (ja) | 2010-11-16 | 2011-06-29 | 被洗浄物の洗浄装置 |
TW100130845A TW201221232A (en) | 2010-11-16 | 2011-08-29 | Cleaning device for object to be cleaned |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010256231A JP4776044B1 (ja) | 2010-11-16 | 2010-11-16 | 被洗浄物の洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4776044B1 true JP4776044B1 (ja) | 2011-09-21 |
JP2012106169A JP2012106169A (ja) | 2012-06-07 |
Family
ID=44798044
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010256231A Active JP4776044B1 (ja) | 2010-11-16 | 2010-11-16 | 被洗浄物の洗浄装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4776044B1 (ja) |
TW (1) | TW201221232A (ja) |
WO (1) | WO2012066699A1 (ja) |
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- 2011-08-29 TW TW100130845A patent/TW201221232A/zh unknown
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Publication number | Publication date |
---|---|
TW201221232A (en) | 2012-06-01 |
JP2012106169A (ja) | 2012-06-07 |
WO2012066699A1 (ja) | 2012-05-24 |
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