JPH0652976U - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

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JPH0652976U
JPH0652976U JP8799092U JP8799092U JPH0652976U JP H0652976 U JPH0652976 U JP H0652976U JP 8799092 U JP8799092 U JP 8799092U JP 8799092 U JP8799092 U JP 8799092U JP H0652976 U JPH0652976 U JP H0652976U
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JP
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cleaning
tank
rinsing
opening
cleaning tank
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JP8799092U
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English (en)
Inventor
康行 水沢
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Kitamura Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Kitamura Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 上下多段に洗浄槽を配置する洗浄装置におい
て、下部側の洗浄槽への濯ぎ液の混入を防止する。 【構成】 超音波洗浄槽4の斜め上方に濯ぎ槽6を形成
する。超音波洗浄槽4と濯ぎ槽6とを隔壁7で区画す
る。隔壁7には遮蔽板9で開閉する開口部8を形成す
る。そして、開口部8を介して超音波洗浄槽4で洗浄し
た洗浄物Aを移送用シリンダ15によって濯ぎ槽6側に搬
送する。この後、開口部8を遮蔽板9で閉塞した状態で
被洗浄物Aに向けて噴射ノズル5から純水W1を噴射し
て液切りする。 【効果】 遮蔽板9によって各槽4,6を連通する開
口部8を塞がれ、洗浄物Aの液切りの際、超音波洗浄槽
4内への純水W1の混入を防止できる。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、各種精密加工部品、シリコンウェハー、プリント回路基板などの各 種被洗浄物を水溶性洗浄液を用いて洗浄する洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の洗浄装置として特開昭55−99375号公報には粗洗浄槽、超音波洗 浄槽、蒸気洗浄槽を並設し、ロータリハンガーによって被洗浄物を搬入部から順 次粗洗浄槽、超音波洗浄槽に浸漬して洗浄した後、さらに蒸気洗浄槽で洗浄して 搬出部から搬出するように構成した循環式洗浄装置が開示されている。
【0003】 しかし、このような洗浄装置は、多槽の洗浄槽を並設することから装置自体が 大型化し、広い設置スペースが必要となるため、特開平3−30881号公報に は縦長な洗浄室の下部に洗浄槽を設け、この洗浄槽の上部の余剰空間部を被洗浄 物に付着した洗浄液を除去する処理室として構成するとともに、横方向にスライ ドして洗浄槽と処理室とを区画する遮蔽板を設け、洗浄台を昇降する昇降装置に よって洗浄槽内の洗浄液に被洗浄物を浸漬させて被洗浄物を洗浄した後、被洗浄 物を洗浄槽上部の処理室に引き上げ、この状態で遮蔽板によって洗浄槽と処理室 とを区画して処理室内で洗浄工程で被洗浄物に付着する洗浄液の液切処理する昇 降式縦型洗浄装置が提案されている。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
前記従来例においては、上下多段に形成する洗浄槽と処理室とを遮蔽板で区画 した状態で被洗浄物に付着する洗浄液の液切りを行なうが、その液切りの手段と して、例えば被洗浄物に向けて噴射ノズルから純水を高圧噴射させて被洗浄物に 付着する洗浄液を純水と共に洗い流す液切り方法を採用した場合には、構造的に 噴射ノズルから噴射する純水を洗浄槽と処理室とを区画する遮蔽板で受ける構造 となり、このため、遮蔽板上に溜まった純水がその遮蔽板の真下に配置された洗 浄槽内に混入して洗浄槽内の洗浄液の成分や濃度などが変化してしまい洗浄度が 低下するといった課題を有している。
【0005】 そこで本考案は、上記課題に基いて成されたものであり、複数槽を上下多段に 配置する洗浄装置において、下部側に配置された洗浄槽内への液の混入を防止で きる洗浄装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本考案は、洗浄機の内部に設けた洗浄槽と、被洗浄物を収容するバスケットを 昇降させて前記洗浄槽内に収容する洗浄液に被洗浄物を浸漬させる昇降駆動装置 と、前記バスケットの昇降途中に位置して前記洗浄槽の側部に設けた濯ぎ槽と、 この濯ぎ槽内に設けられ前記被洗浄物に濯ぎ液を噴射する噴射ノズルと、前記濯 ぎ槽と前記洗浄槽とを区画する隔壁と、この隔壁に設けた開口部を介して前記洗 浄槽と前記濯ぎ槽との間を往復動して前記バスケットを前記濯ぎ槽内に導入する 移送装置と、前記開口部を開閉する遮蔽板とを具備するものである。
【0007】
【作用】
本考案は、上記構成により、洗浄槽とこの洗浄槽の斜め上方に形成する濯ぎ槽 とを連通する開口部を遮蔽板によって閉塞し、このように濯ぎ槽を完全に区画し た状態で噴射ノズルから被洗浄物に向けて濯ぎ液が噴射され、洗浄工程で被洗浄 物に付着する洗浄液が除去される。そして、噴射ノズルから噴射される濯ぎ液は 開口部を閉塞する遮蔽板によって濯ぎ槽の下方に配置する洗浄槽への流出が防止 され、洗浄槽に収容する洗浄液へ濯ぎ液が混入することがないため、洗浄液の成 分や濃度の変化を防止でき、洗浄工程時における洗浄度の低下を防止できる。
【0008】
【実施例】
以下本考案の実施例を添付図面を参照して説明する。
【0009】 図1および図2は本考案の一実施例を示し、洗浄機1の洗浄室2下方に超音波 振動子3を底部に取付けた超音波洗浄槽4を設け、この超音波洗浄槽4の斜め上 方側に噴射ノズル5を備えた濯ぎ槽6を形成している。また、前記洗浄室2と濯 ぎ槽6とは隔壁7によって区画され、この隔壁7に洗浄物Aを挿通する開口部8 を形成し、その開口部8を遮蔽板9によって開閉している。なお、本実施例では 洗浄室2と濯ぎ槽6とを区画する隔壁7は超音波洗浄槽4の側壁を利用してその 超音波洗浄槽4の側壁を隔壁7として兼用している。
【0010】 また、前記洗浄室2の内部には昇降台10がガイドレール11に沿って昇降可能に 設けられ、この昇降台11にコ字状の取付腕12を介して昇降駆動装置となる昇降用 シリンダ13を連結している。そして、この昇降用シリンダ13のピストンロッド13 Aを伸縮させて、前記昇降台10上に載置する被洗浄物Aのバスケット14を超音波 洗浄槽4内の洗浄液Wに浸漬させ、この後、バスケット14を引き上げて前記開口 部8の高さまで上昇させた状態で一旦、停止させる。この場合、前記濯ぎ槽6側 には移送装置となる往復駆動用シリンダ15が前記開口部8を介して前記超音波洗 浄槽4と濯ぎ槽6との間を往復動可能に配置されており、このシリンダ15のピス トンロッド15Aには前記バスケット14の左右の設けた取手14Aを支持する平面コ 字型の支持杆16が取付けられている。そして、往復駆動用のシリンダ15のピスト ンロッド15Aを伸長させて前記支持杆16を待機状態で停止するバスケット14の取 手14Aの下側に配置させた後、昇降用シリンダ13のピストンロッド13Aを縮めて 昇降台10を降下させることによって、その昇降台10上のバスケット14を支持杆16 で支持させ、このように、支持杆16で支持するバスケット14を前記ピストンロッ ド15Aの縮退によって濯ぎ槽6の内部へと移送するように構成している。
【0011】 また、前記超音波洗浄槽4の内部には水系洗浄液Wが収容され、一方、濯ぎ槽 6内の噴射ノズル5からは濯ぎ液として純水W1が噴射され、濯ぎ槽6内に飛散 した純水W1は図示しないフィルタを介して濯ぎ槽6の下部に設けたタンク17に 送られ、その純水W1は再び噴射ノズル5へと循環され噴射ノズルから噴射され る。
【0012】 以上のように構成される本考案の作用について説明する。
【0013】 まず、被洗浄物Aをバスケット14内に収容し、そのバスケット14を搬送ローラ 18上に載せて超音波洗浄槽4の上方で待機する昇降台10上に送り出す。そして、 昇降用シリンダ13を作動させ被洗浄物Aをバスケット14と共に超音波洗浄槽4内 の洗浄液Wに浸漬させる。この後、超音波振動子3の励振により被洗浄物Aを超 音波洗浄し、被洗浄物Aの外面付着物を剥離除去する。このようにして洗浄され た被洗浄物Aを前記昇降用シリンダ13によって隔壁7に形成する開口部8の高さ まで上昇させて昇降台10を停止する。この後、移送用シリンダ15を作動してピス トンロッド15Aに取付けた支持杆16を待機状態で停止するバスケット14の取手14 Aの下側まで伸長させて移送用シリンダ15を一旦停止する。そして、昇降用シリ ンダ13のピストンロッド13Aを縮めて待機状態で停止する前記昇降台10を降下さ せてバスケット14の取手14Aを移送用シリンダ15側の支持杆16で支持させる。こ の後、移送用シリンダ15のピストンロッド15Aを縮めて支持杆16で支持されたバ スケット14を隔壁7の開口部8を介して濯ぎ槽6の内部に移送する。そして、前 記開口部8を遮蔽板9で閉塞し、このように、濯ぎ槽6を完全に区画した状態で 濯ぎ槽6内に設けた噴射ノズル5から純水W1を被洗浄物Aに向けて高圧噴射し 、先に説明した超音波洗浄工程で被洗浄物Aに付着する洗浄液Wを純水W1で洗 い流して液切りする。この場合、洗浄槽4と濯ぎ槽6とを連通する開口部8を遮 蔽板9によって閉塞して濯ぎ槽6を完全に区画した状態で純水W1を噴出するこ とによって、噴射ノズル5から勢いよく噴射して飛散する純水W1が開口部8を 介して洗浄槽4内に混入する恐れはない。このため、洗浄槽4内に収容する洗浄 液Wは純水W1の混入による成分や濃度の変化を防止できる。そして、このよう に、液切り終了後は、遮蔽板9を上昇させて開口部8を開放して被洗浄物Aを収 容するバスケット14を移送用シリンダ15の作動によって前記昇降台10の待機位置 まで搬送し、昇降用シリンダ13の作動による昇降台10の上昇によって前記バスケ ット14を昇降台10上に載置する。昇降台10上のバスケット14は昇降用シリンダ13 により洗浄機1の上部側に形成する搬送ローラ18位置まで上昇し、このように昇 降台10で搬送されたバスケット14を搬送ローラ18側に移換えて搬送ローラ18によ って洗浄機1の外部に搬出する。
【0014】 以上のように、本考案においては、超音波洗浄槽4とこの斜め上方に形成する 濯ぎ槽6とを隔壁7によって仕切り、この隔壁7に形成する開口部8を遮蔽板9 によって閉塞した状態で被洗浄物Aに向けて純水W1を噴射することによって、 超音波洗浄槽4内への純水W1の混入を防止することができるため、超音波洗浄 槽4内に収容した洗浄液Wの成分や濃度の変化を抑制して洗浄度の低下を防ぐこ とができる。
【0015】 以上、本考案の一実施例を詳述したが、本考案は上記実施例に限定されるもの では無く、本考案の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。例えば、濯ぎ 槽内に高圧エアブロー方式による乾燥装置を設け、ここで液切り後の乾燥を行な うように構成してもよく、また、洗浄槽として超音波振動子を備えた超音波洗浄 槽を例にして説明したが、例えば洗浄槽内にエゼクターノズルを設け、このエゼ クターノズルによって洗浄槽内の洗浄液に乱流を生じさせ、その撹拌作用によっ て被洗浄物の付着物を除去するように構成してもよく、洗浄槽の構造は適宜設定 すればよい。また、昇降駆動装置や移送装置はシリンダに限らずアクチェータや モータ駆動によるラックとピニオンあるいはリンク機構等各種機構を用いてもよ い。
【0016】
【考案の効果】
本考案は、洗浄機の内部に設けた洗浄槽と、被洗浄物を収容するバスケットを 昇降させて前記洗浄槽内に収容する洗浄液に被洗浄物を浸漬させる昇降駆動装置 と、前記バスケットの昇降途中に位置して前記洗浄槽の側部に設けた濯ぎ槽と、 この濯ぎ槽内に設けられ前記被洗浄物に濯ぎ液を噴射する噴射ノズルと、前記濯 ぎ槽と前記洗浄槽とを区画する隔壁と、この隔壁に設けた開口部を介して前記洗 浄槽と前記濯ぎ槽との間を往復動して前記バスケットを前記濯ぎ槽内に導入する 移送装置と、前記開口部を開閉する遮蔽板とを具備することにより、上下多段に 複数の槽を配置する洗浄装置において、下部に配置された洗浄槽内への液の混入 を防止できる洗浄装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例を示す洗浄機の断面図であ
る。
【図2】同濯ぎ工程を示す要部の断面図である。
【符号の説明】
1 洗浄機 4 超音波洗浄槽 5 噴射ノズル 6 濯ぎ槽 7 隔壁 8 開口部 9 遮蔽板 10 昇降台 13 昇降用シリンダ(昇降駆動装置) 15 移送用シリンダ(移送装置) A 被洗浄物 W 洗浄液 W1 純水(濯ぎ液)

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄機の内部に設けた洗浄槽と、被洗浄
    物を収容するバスケットを昇降させて前記洗浄槽内に収
    容する洗浄液に被洗浄物を浸漬させる昇降駆動装置と、
    前記バスケットの昇降途中に位置して前記洗浄槽の側部
    に設けた濯ぎ槽と、この濯ぎ槽内に設けられ前記被洗浄
    物に濯ぎ液を噴射する噴射ノズルと、前記濯ぎ槽と前記
    洗浄槽とを区画する隔壁と、この隔壁に設けた開口部を
    介して前記洗浄槽と前記濯ぎ槽との間を往復動して前記
    バスケットを前記濯ぎ槽内に導入する移送装置と、前記
    開口部を開閉する遮蔽板とを具備したことを特徴とする
    洗浄装置。
JP8799092U 1992-12-22 1992-12-22 洗浄装置 Pending JPH0652976U (ja)

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JP (1) JPH0652976U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10321580A (ja) * 1997-05-15 1998-12-04 Tokyo Electron Ltd 基板の洗浄ユニット及び洗浄システム
WO2012066699A1 (ja) * 2010-11-16 2012-05-24 ジャパン・フィールド株式会社 被洗浄物の洗浄装置

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