JP4766658B2 - 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 54
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 72
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 230000008961 swelling Effects 0.000 claims description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 23
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 3
- -1 moisture Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004050 hot filament vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
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Description
図1および図2(a),(b)に示すように、本実施形態のインクジェット記録ヘッドは、複数の吐出圧力発生素子としてヒータ16が形成されたシリコン基板11と、これらヒータ16に対応して形成されインク滴を吐出するための複数のオリフィスである吐出口17が設けられたオリフィスプレート12と、各吐出口17に連通して形成されその内壁面にヒータ16が設けられた液流路13と、基板11を貫通して形成され液流路13に連通された供給口14とを備えている。そして、供給口14の全ての内壁面と、液流路13内の内壁面における供給口14に対向する一部分とが同一の保護層15で覆われている。
上述したインクジェット記録ヘッドの製造方法では、流路型材21に付着した保護層15を、流路型材21を除去する際に同時に破壊し、除去することになるが、保護層15が比較的厚くなった場合に、保護層15の除去が困難になる。そこで、この対策としては、他の実施形態のインクジェット記録ヘッドの作製方法が用いられることが好ましい。
本実施形態では、基板11に供給口14を形成した後、基板11の裏面から膜ソースを導入し、少なくとも供給口14の内壁面の全てに保護層15を成膜するまでの各工程が、上述した第1の実施形態と同じであるので、これら各工程の説明を省略する。
本実施形態のインクジェット記録ヘッドは、図7(a),(b)に示すように、液流路13内に、インク中の塵埃を濾過するためのノズルフィルタ25が配設された構成が採られている。このようにノズルフィルタ25にも同様に、保護膜が形成されることにより、オリフィスプレート12と同様に、インクによるノズルフィルタ25の膨潤を抑えることができる。これによって、記録ヘッドの使用に伴ってノズルフィルタ25が膨潤して、膨潤した分だけ、液流路13が狭くなることで、インクのリフィル不足が生じることを防ぐことができる。
本実施形態のインクジェット記録ヘッドは、図8(a),(b)に示すように、図7(a),(b)に示した第4の実施形態と同様に、液流路13内に、インク中の塵埃を濾過するためのノズルフィルタ25が配設された構成が採られている。このようにノズルフィルタ25にも同様に、保護膜が形成されることにより、オリフィスプレート12と同様に、インクによるノズルフィルタ25の膨潤を抑えることができる。
本実施形態では、図11(a),(b)に示すように、基板11内に共通液室27が設けられ、この共通液室27に連通して供給口14が形成され、共通液室27から供給口14を経て液流路13にインクを供給する構造が採られている。このような構造を採ることで、基板11の機械的強度を向上させることができる。共通液室27と供給口14との連結部分がなす角部が、特にインクに侵食され易くなるが、この角部を覆う保護膜を形成することによって、インクによる浸食を抑え、インク滴の吐出動作の信頼性を向上させることができる。
12 オリフィスプレート
13 液流路
14 供給口
15 保護層
16 ヒータ
17 吐出口
21 流路型材
Claims (8)
- 吐出圧力発生素子が形成された基板と、
前記吐出圧力発生素子に対応して形成され液滴を吐出する吐出口が設けられ、樹脂からなり、前記基板と接合されることで、該基板と対向する内壁面の一部によって液体が通る液流路を形成するオリフィスプレートと、
前記基板を貫通して形成され、前記液流路に連通された供給口と、を備え、
前記供給口の内壁面は、前記基板の前記液体による溶解を抑制する保護層で覆われており、前記液流路を形成する前記オリフィスプレートの前記内壁面の一部のうち、前記供給口と対向する部分は、前記オリフィスプレートの膨潤による変形を抑制する保護層で覆われており、前記供給口の内壁面を覆う前記保護層と前記オリフィスプレートの内壁面の一部を覆う前記保護層とは同一の材料からなる液体吐出ヘッド。 - 前記保護層は、シリコン化合物または無機膜である請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記保護層は、酸化シリコン、窒化シリコン、SiC、SiOC、アルミナ、窒化タンタルのいずれかである請求項2に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記保護層が、前記吐出圧力発生素子の表面には形成されていない請求項1ないし3いずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記保護層が、前記吐出口の内壁面には形成されていない請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
- 吐出圧力発生素子が形成された基板と、
樹脂からなり、前記吐出圧力発生素子に対応して形成され液滴を吐出する吐出口が設けられ、前記基板と接合されることで、該基板と対向する内壁面の一部によって前記吐出口に連通する液体が通る液流路を形成するオリフィスプレートと、
前記基板を貫通して形成され前記液流路に連通された供給口と、を備える液体吐出ヘッドの製造方法において、
前記基板上に、前記液流路の型材を形成する工程と、
前記型材上に前記オリフィスプレートを形成する工程と、
前記基板に前記供給口を形成する工程と、
前記型材の少なくとも前記供給口に対応する部分を除去する工程と、
前記供給口の開口部から膜ソースを導入し、前記供給口の内壁面と、前記オリフィスプレートの前記内壁面の一部のうち、前記供給口と対向する部分とに、それぞれ前記基板の液体による溶解を抑制する保護層と、前記オリフィスプレートの膨潤による変形を抑制する保護層とを成膜する工程と、を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記型材の少なくとも前記供給口に対向する部分を除去することにより、前記オリフィスプレートの前記内壁面の一部のうち、前記供給口と対向する部分を選択的に露出させる工程と、
前記成膜する工程と、
前記型材の他の部分を除去することにより前記液流路を形成する工程と、をこの順に有することを特徴とする請求項6に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記流路内に吐出口部材と前記基板とに接合された柱状のフィルタ部材を複数設け、前記オリフィスプレートの前記内壁面の一部のうち、前記供給口と対向する部分と、前記フィルタ部材と、を露出させた状態で前記成膜する工程を行うことを特徴とする請求項7に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005137153A JP4766658B2 (ja) | 2005-05-10 | 2005-05-10 | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
US11/279,633 US7517059B2 (en) | 2005-05-10 | 2006-04-13 | Liquid jet head and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005137153A JP4766658B2 (ja) | 2005-05-10 | 2005-05-10 | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006315191A JP2006315191A (ja) | 2006-11-24 |
JP4766658B2 true JP4766658B2 (ja) | 2011-09-07 |
Family
ID=37418706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005137153A Expired - Fee Related JP4766658B2 (ja) | 2005-05-10 | 2005-05-10 | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7517059B2 (ja) |
JP (1) | JP4766658B2 (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4641440B2 (ja) * | 2005-03-23 | 2011-03-02 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドおよび該インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
US7637013B2 (en) * | 2005-08-23 | 2009-12-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ink jet recording head |
US8562845B2 (en) * | 2006-10-12 | 2013-10-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet print head and method of manufacturing ink jet print head |
US7699441B2 (en) * | 2006-12-12 | 2010-04-20 | Eastman Kodak Company | Liquid drop ejector having improved liquid chamber |
US7926909B2 (en) * | 2007-01-09 | 2011-04-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink-jet recording head, method for manufacturing ink-jet recording head, and semiconductor device |
US8241510B2 (en) * | 2007-01-22 | 2012-08-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Inkjet recording head, method for producing same, and semiconductor device |
JP4981491B2 (ja) * | 2007-03-15 | 2012-07-18 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッド製造方法及び貫通電極の製造方法 |
JP4963679B2 (ja) * | 2007-05-29 | 2012-06-27 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド用基体及びその製造方法、並びに該基体を用いる液体吐出ヘッド |
WO2008146894A1 (en) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate for liquid discharge head, method of manufacturing the same, and liquid discharge head using such substrate |
JP5361231B2 (ja) * | 2008-03-26 | 2013-12-04 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド及び電子デバイス |
WO2009134225A1 (en) * | 2008-04-29 | 2009-11-05 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Printing device |
EP2271497A4 (en) * | 2008-04-30 | 2011-05-25 | Hewlett Packard Development Co | PROTECTIVE COVER FOR FEED SLIDE |
US8925835B2 (en) * | 2008-12-31 | 2015-01-06 | Stmicroelectronics, Inc. | Microfluidic nozzle formation and process flow |
US8012773B2 (en) * | 2009-06-11 | 2011-09-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing liquid discharge head |
JP5350205B2 (ja) * | 2009-12-16 | 2013-11-27 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド用基板及び液体吐出ヘッド、およびその製造方法 |
JP5693068B2 (ja) | 2010-07-14 | 2015-04-01 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
WO2012013511A1 (en) * | 2010-07-26 | 2012-02-02 | Oce-Technologies B.V. | Coating for providing a wetting gradient to an orifice surface around an orifice and method for applying said coating |
US8840981B2 (en) * | 2011-09-09 | 2014-09-23 | Eastman Kodak Company | Microfluidic device with multilayer coating |
JP2013059904A (ja) * | 2011-09-13 | 2013-04-04 | Canon Inc | 液体記録ヘッド及びにその製造方法 |
EP2817154A4 (en) * | 2012-04-24 | 2016-11-16 | Hewlett Packard Development Co | FLUID EJECTION DEVICE |
RU2633224C2 (ru) | 2013-02-28 | 2017-10-11 | Хьюлетт-Паккард Дивелопмент Компани, Л.П. | Формованная печатающая штанга |
US10821729B2 (en) * | 2013-02-28 | 2020-11-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Transfer molded fluid flow structure |
US11426900B2 (en) | 2013-02-28 | 2022-08-30 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Molding a fluid flow structure |
US9724920B2 (en) | 2013-03-20 | 2017-08-08 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Molded die slivers with exposed front and back surfaces |
JP6834193B2 (ja) * | 2016-06-30 | 2021-02-24 | ブラザー工業株式会社 | 液体吐出ヘッド |
JP6676592B2 (ja) * | 2017-08-22 | 2020-04-08 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0412859A (ja) | 1990-04-28 | 1992-01-17 | Canon Inc | 液体噴射方法、該方法を用いた記録ヘッド及び該方法を用いた記録装置 |
US5729261A (en) * | 1996-03-28 | 1998-03-17 | Xerox Corporation | Thermal ink jet printhead with improved ink resistance |
JP2001162803A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-19 | Casio Comput Co Ltd | モノリシック型インクジェットプリンタヘッド |
GB0028652D0 (en) * | 2000-11-24 | 2001-01-10 | Koninkl Philips Electronics Nv | Radio receiver |
CN100355573C (zh) | 2002-12-27 | 2007-12-19 | 佳能株式会社 | 用于制造喷墨记录头的基础件 |
US7323115B2 (en) | 2003-02-13 | 2008-01-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate processing method and ink jet recording head substrate manufacturing method |
JP4522086B2 (ja) | 2003-12-15 | 2010-08-11 | キヤノン株式会社 | 梁、梁の製造方法、梁を備えたインクジェット記録ヘッド、および該インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JP4537246B2 (ja) | 2004-05-06 | 2010-09-01 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド用基体の製造方法及び該方法により製造された前記基体を用いた記録ヘッドの製造方法 |
JP4641440B2 (ja) | 2005-03-23 | 2011-03-02 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドおよび該インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
US7637013B2 (en) | 2005-08-23 | 2009-12-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ink jet recording head |
-
2005
- 2005-05-10 JP JP2005137153A patent/JP4766658B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-04-13 US US11/279,633 patent/US7517059B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7517059B2 (en) | 2009-04-14 |
US20060256162A1 (en) | 2006-11-16 |
JP2006315191A (ja) | 2006-11-24 |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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