JP2007144989A - 疎水性コーティング膜の形成方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】インクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】ノズルプレート120にノズル122を形成する段階と、ノズル122の出口を覆うようにノズルプレート120の表面にフィルム130を積層する段階と、ノズル122の内壁及びノズル122の出口を覆うフィルム130の内面にメッキ方法によって所定の金属層を形成する段階と、ノズルプレート120の表面からフィルム130を除去する段階と、ノズル122の出口を介して露出された金属層を覆うようにノズルプレート120の表面に疎水性コーティング膜150を形成する段階と、ノズル122の内壁に形成された金属層144及び金属層144の表面に形成された疎水性コーティング膜150を除去する段階と、を含む。
【選択図】図4G

Description

本発明は、インクジェットプリントヘッドに係り、より詳しくは、インクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法に関する。
一般的に、インクジェットプリントヘッドは、印刷用インクの微小な液滴を記録用紙上の所望の位置に吐き出させて所定の色相の画像に印刷する装置である。このようなインクジェットプリントヘッドは、インク吐き出し方式によって二つに大別される。その一つは、熱源を用いてインクにバブルを発生させてそのバブルの膨張力によってインクを吐き出させる熱駆動方式のインクジェットプリントヘッドであり、他の一つは、圧電体を使用してその圧電体の変形によってインクに加えられる圧力によってインクを吐き出させる圧電方式のインクジェットプリントヘッドである。
図1は、一例として圧電方式のインクジェットプリントヘッドの一般的な構成を示す断面図である。
図1を参照すれば、流路プレート10には、インク流路を構成するマニフォールド13、複数のリストリクター12及び複数の圧力チェンバー11が形成されており、ノズルプレート20には、複数の圧力チェンバー11それぞれに対応する複数のノズル22が形成されている。そして、前記流路プレート10の上部には、圧電アクチュエータ40が設けられている。前記マニフォールド13は、インク保存庫(図示せず)から流入されたインクを複数の圧力チェンバー11それぞれに供給する通路であり、リストリクター12は、マニフォールド13から圧力チェンバー11内部にインクが流入される通路である。前記複数の圧力チェンバー11は、吐き出されるインクが充填される所であり、マニフォールド13の一側または両側に配列されている。このような圧力チェンバー11は、圧電アクチュエータ40の駆動によってその嵩が変化することによって、インクの吐き出し、または流入のための圧力変化を生成する。このため、流路プレート10の圧力チェンバー11の上部壁を構成する部位は、圧電アクチュエータ40によって変形される振動板14の役割を果たす。
前記圧電アクチュエータ40は、流路プレート10上に順次積層された下部電極41と、圧電膜42と、上部電極43とから構成される。そして、前記下部電極41と流路プレート10との間には、絶縁膜としてシリコン酸化膜31が形成されている。下部電極41は、シリコン酸化膜31の全表面に形成され、共通電極の役割を果たす。圧電膜42は、圧力チェンバー11の上部に設けられるように、下部電極41上に形成される。上部電極43は、圧電膜42上に形成され、圧電膜42に電圧を印加する駆動電極の役割を果たす。
前記のような構成を有したインクジェットプリントヘッドにおいて、ノズルプレート20表面の撥水処理は、ノズル22を介して吐き出されるインク液滴の直進性や吐き出し速度などのインク吐き出し性能に直接的な影響を及ぼす。すなわち、インク吐き出し性能を向上させるためには、ノズル22外部のノズルプレート20の表面は、撥水性、すなわち疎水性を有さねばならず、ノズル22の内壁は、親水性を有さねばならない。具体的に、ノズル22外部のノズルプレート20表面が疎水性を有するようになれば、ノズルプレート20表面でのインクウェッティングが防止されて、吐き出されるインクの直進性が確保されうる。そして、ノズル22の内壁が親水性を有するようになれば、インクに対する接触角が小さくなって毛細管力が増大するため、インクのリフィール時間が短縮され、これにより、吐き出し周波数が増大しうる。また、インクがノズル22の出口まで充填されるので、インク吐き出しの均一性が向上しうる。
従来は、ノズルが形成されたノズルプレートに電子ビーム蒸着方法によって疎水性コーティング膜を全面的に形成する方法が使用された。これにより、ノズル外部のノズルプレート表面だけではなく、ノズルの内壁にも、疎水性コーティング膜が形成されるが、ノズルの内壁に形成される疎水性コーティング膜は、インクのリフィール特性及び吐き出し均一性を阻害させる要因になる。このような問題点を解決するために、最近は、ノズルプレート表面にのみ疎水性コーティング膜を形成する方法が開発されている。
図2は、従来のインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜として硫黄化合物層が形成された例を示す。
図2を参照すれば、ノズル55が貫通形成されているノズルプレート51の表面に先ず金属層52を形成した後、前記金属層52の表面に硫黄化合物を塗布して硫黄化合物層53を形成する。この時、硫黄化合物は、金属層52の表面にのみ選択的に塗布される。しかしながら、このような方法においては、金属層52がノズルプレート51の表面だけではなく、ノズル55の内壁にも蒸着される可能性が高く、またノズル55の数が多い場合には、複数のノズル55それぞれに異なる部分に異なる面積に不均一に蒸着されうる。この場合には、硫黄化合物層53もノズル55内壁に形成されるか、あるいは不均一に形成される。このように、疎水性コーティング膜である硫黄化合物層53の形成状態が良好でなければ、ノズル55周辺がインクによって汚染されやすく、インク液滴の吐き出し速度が低下するか、あるいは吐き出し方向が不均一になるなど、インク液滴の吐き出し性能が低下する問題点が発生する。
図3は、従来のインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面にフッ素樹脂を含む撥水膜が形成された例を示す。
図3を参照すれば、ノズルプレート70の表面には、撥水膜90が形成されるが、この撥水膜90は、ニッケルベース96にフッ素樹脂粒子94と硬質体98とが含有された構成を有し、その表面には、フッ素樹脂膜92が形成される。しかしながら、ニッケルは、一部インクと反応性があって商用に使用され難い点がある。
一方、特許文献1には、ノズル内面に撥水膜がコーティングされることを防止するためノズルを介してガスを吹き出しながらノズルプレートの表面に撥水膜を形成する方法が開示されている。しかしながら、この方法は、装置が複雑で、難しい工程があり、実際に適用しにくい。
特開平7−314693号公報
本発明の技術的課題は、インクジェットプリントヘッドの吐き出し直進性及び吐き出し均一性を向上させることができ、吐き出し周波数を増大させることができるようにノズルプレートの表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を提供するところにある。
前記技術的課題を達成するために、本発明の実施形態によれば、インクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法であって、ノズルプレートにノズルを形成する段階と、前記ノズルの出口を覆うように、前記ノズルプレートの表面にフィルムを積層する段階と、前記ノズルの内壁及び前記ノズルの出口を覆うフィルムの内面にメッキ方法によって所定の金属層を形成する段階と、前記ノズルプレートの表面から前記フィルムを除去する段階と、前記ノズルの出口を介して露出された金属層を覆うように、前記ノズルプレートの表面に疎水性コーティング膜を形成する段階と、前記ノズルの内壁に形成された金属層及び前記金属層の表面に形成された疎水性コーティング膜を除去する段階と、を含む疎水性コーティング膜の形成方法が開示される。
ここで、前記ノズルプレートの表面に前記フィルムを積層した後、前記ノズルの内壁及び前記ノズルの出口を覆うフィルムの内面に、メッキのためのシード層を形成する段階をさらに含むことができる。
そして、前記フィルムを除去した後、前記ノズルの出口を介して露出された前記金属層を所定深さにエッチングする段階をさらに含むことができる。ここで、前記金属層は、1μm〜10μmの深さにエッチングされうる。
前記金属層は、ダマシンメッキ法によって形成されうる。
前記金属層の表面に形成された疎水性コーティング膜は、前記ノズルの内壁に形成された金属層を除去した後、ドライエッチングによって除去されうる。
本発明の他の実施形態によれば、インクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法であって、ノズルプレートにノズルを形成する段階と、前記ノズルの出口を覆うように、前記ノズルプレートの表面にフィルムを積層する段階と、前記ノズルの内壁及び前記ノズルの出口を覆うフィルムの内面にポリマー層を形成する段階と、前記ノズルプレートの表面から前記フィルムを除去する段階と、前記ノズルの出口を介して露出されたポリマー層を覆うように、前記ノズルプレートの表面に疎水性コーティング膜を形成する段階と、前記ノズルの内壁に形成されたポリマー層及び前記ポリマー層の表面に形成された疎水性コーティング膜を除去する段階と、を含む疎水性コーティング膜の形成方法が開示される。
前記フィルムを除去した後、前記ノズルの出口を介して露出された前記ポリマー層を所定深さにエッチングする段階をさらに含むことができる。ここで、前記ポリマー層は、ドライエッチングによってほぼ1μm〜10μmの深さにエッチングされうる。
前記ポリマー層を形成する段階は、前記ノズルの内壁及び前記ノズルの出口を覆うフィルムの内面に液状のポリマーを塗布する段階と、前記塗布されたポリマーを熱処理して硬化させる段階と、を含むことができる。ここで、前記液状のポリマーは、スプレイコーティング方法によって塗布されうる。
前記ポリマー層は、フォトレジストからなりうる。
前記ポリマー層の表面に形成される疎水性コーティング膜は、前記ノズルの内壁に形成されたポリマー層を除去した後、ドライエッチングによって除去されうる。
前記疎水性コーティング膜は、前記ポリマー層の除去工程によって損傷されない物質からなることが好ましく、前記疎水性コーティング膜は、パリレンからなりうる。
本発明によれば、ノズル外部のノズルプレート表面が疎水性を有することによって、ノズルプレート表面でのインクウェッティングが防止されて、吐き出されるインクの直進性が確保されうる。そして、ノズルの内壁が親水性を有することによって、インクのリフィール時間が短縮されて吐き出し周波数が増大され、インクがノズルの出口近くまで充填されるため、インク吐き出しの均一性が向上しうる。
以下、添付した図面に基づき、本発明による好適な実施形態を詳細に説明する。図面で同一な参照符号は、同一な構成要素を示し、図面上で各構成要素の大きさは、便宜上誇張されていることがある。一方、以下で説明されるノズルプレートの表面に疎水性コーティング膜を形成する方法は、圧電方式のインクジェットプリントヘッドだけではなく、熱駆動方式のインクジェットプリントヘッドにも適用されうる。
図4A〜図4Hは、本発明の実施形態によるインクジェットヘッドのノズルプレート表面に、疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。以下の図面では、ノズルプレートの一部が示されたものであって、一般的なノズルプレートには、数十〜数百個のノズルが1列または複数列に配列されている。
先ず、図4Aを参照すれば、ノズルプレート120に所定形状のノズル122を形成する。前記ノズルプレート120は、半導体素子の製造に広く使用されるシリコンウェーハからなりうる。一方、前記ノズルプレート120は、シリコンウェーハの代わりにガラス基板や金属基板などが使用されてもよい。そして、前記ノズル122は、その下部が出口側に行くほど断面積が狭くなるように形成され、その上部が出口方向に沿って一定した断面積を有するように形成されうる。引き続き、図4Bを参照すれば、前記ノズル122の出口を覆うように、前記ノズルプレート120の表面に所定のフィルム130を積層する。
図4Cを参照すれば、前記ノズル122の内壁及び前記ノズル122の出口を覆うフィルム130の内面に、メッキのためのシード層142を形成する。前記シード層142は、後述する金属層(図4Dの144)が前記ノズル122の内壁及び前記フィルム130の内面に円滑にメッキされうるようにするための層である。ここで、前記シード層142は、例えば、ノズル122の内壁及びフィルム130の内面に形成されるクロム(Cr)及び前記クロム(Cr)上に形成される銅(Cu)からなりうる。一方、前記シード層142は、メッキされる物質によって、前述したクロム及び銅以外に多様な金属からなりうる。
図4Dを参照すれば、前記ノズル122の内壁及び前記ノズル122の出口を覆うフィルム130の内面に形成されたシード層142上に、メッキ方法によって所定の金属層144を形成する。ここで、前記金属層144は、例えば、銅(Cu)からなりうる。一方、前記金属層144は、銅(Cu)以外にも多様な金属からなりうる。本実施形態で、前記金属層144を形成するために多様なメッキ方法が適用されうるが、ダマシンメッキ法が特に有用に適用されうる。このように、前記金属層144を形成するためにダマシンメッキ法を用いれば、ノズル122の出口側に狭く形成されたノズル122の上部でメッキがよく行われる。これにより、前記ノズル122の上部側に形成される金属層144は、ノズル122の異なる内壁に形成される金属層144より厚く形成される。
図4Eを参照すれば、前記ノズルプレート120の表面に積層されたフィルム130を除去する。ここで、前記フィルム130は、ノズルプレート120の表面から外すか、あるいはアセトンなどを用いて除去されうる。続いて、前記ノズル122の出口を介して露出された前記シード層142及び金属層144を所定深さにエッチングする。このように、シード層142及び金属層144を所定深さにエッチングすれば、後述するように、ノズル122上端部の内壁に疎水性コーティング膜(図4Fの150)を形成し、それにより、ノズル122の出口に設けられるノズルプレート120表面でのインクウェッティングをさらに効果的に防止できる。ここで、前記シード層142及び金属層144のエッチング深さは多様に調節でき、具体的にほぼ1μm〜10μm程度になりうる。
図4Fを参照すれば、前記ノズル122の出口を介して露出された金属層144を覆うように、前記ノズルプレート120の全表面に疎水性コーティング膜150を形成する。次に、図4Gを参照すれば、前記ノズル122の内壁に形成されたシード層142及び金属層144をエッチングによって除去する。続いて、前記ノズル122の出口を覆っている疎水性コーティング膜150をドライエッチングによって除去する。一方、前記ノズル122の出口を覆っている疎水性コーティング膜150は、前述したシード層142及び金属層144を除去する過程で一緒に除去されてもよい。
このように、ノズル122の出口を覆っている疎水性コーティング膜150を除去すれば、図4Hに示すように、ノズル122外部のノズルプレート120表面及びノズル122上端部内壁に疎水性コーティング膜150が形成される。これにより、ノズルプレート120の表面及びノズル122上端部内壁は、疎水性を有するようになり、ノズル122上端部の内壁を除外したノズル122の内壁全体は、親水性を有する。一方、本実施形態では、図4Eで前述したシード層142及び金属層144を所定深さにエッチングする工程が省略されてもよく、その場合には、ノズルプレート120の表面にのみ疎水性コーティング膜150が形成される。
図5A〜図5Gは、本発明の他の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。
図5Aを参照すれば、ノズルプレート220に所定形状のノズル222を形成する。前記ノズルプレート220は、半導体素子の製造に広く使用されるシリコンウェーハからなりうる。一方、前記ノズルプレート220は、シリコンウェーハの代わりにグラス基板や金属基板などが使用されてもよい。そして、前記ノズル222は、その下部が出口側に行くほど断面積が狭くなるように形成され、その上部が出口方向に沿って一定の断面積を有するように形成されうる。引き続き、図5Bを参照すれば、前記ノズル222の出口を覆うように、前記ノズルプレート220の表面に所定のフィルム230を積層する。
図5Cを参照すれば、前記ノズル222の内壁及び前記ノズル222の出口を覆うフィルム230の内面にポリマー層240を形成する。ここで、前記ポリマー層240は、フォトレジストからなりうる。一方、前記ポリマー層240は、前述したフォトレジスト以外に多様な物質からなりうる。具体的に、前記ポリマー層240は、ノズル222の内壁及びノズル222の出口を覆うフィルム230の内面に、液状のポリマーを所定厚さに塗布した後、これを熱処理して硬化させることによって形成されうる。ここで、前記液状のポリマーは、スプレイコーティング方法によって塗布されうる。
図5Dを参照すれば、前記ノズルプレート220の表面に積層されたフィルム230を除去する。ここで、前記フィルム230は、ノズルプレート220の表面から外すか、あるいはアセトンなどを用いて除去できる。引き続き、前記ノズル222の出口を介して露出されたポリマー層240を所定深さにエッチングする。ここで、前記ポリマー層240は、ドライエッチング方法によってエッチングされうる。このように、ポリマー層240を所定深さにエッチングすれば、後述するようにノズル222上端部の内壁に疎水性コーティング膜(図4Gの250)を形成し、それによって、ノズル222の出口に設けられるノズルプレート220表面でのインクウェッティングをさらに効果的に防止できる。ここで、前記ポリマー層240のエッチング深さは多様に調節でき、例えば、ほぼ1μm〜10μm程度になりうる。
図5Eを参照すれば、前記ノズル222の出口を介して露出されたポリマー層240を覆うように、前記ノズルプレート220の全表面に疎水性コーティング膜250を所定厚さに形成する。ここで、前記疎水性コーティング膜250は、後述するポリマー層240の除去工程によって損傷されない物質からなることが好ましい。前記疎水性コーティング膜250は、例えばパリレンからなりうる。
図5Fを参照すれば、前記ノズル222の内壁に形成されたポリマー層240を除去する。ここで、前記ポリマー層240は、アセトンなどのようなストリッパーによって除去されうる。続いて、図5Gを参照すれば、ノズル222の出口を覆っている疎水性コーティング膜250をドライエッチングによって除去すれば、ノズル222外部のノズルプレート220表面及びノズル222上端部の内壁に疎水性コーティング膜250が形成される。これにより、ノズルプレート220の表面及びノズル222上端部の内壁は、疎水性を有し、ノズル222上端部の内壁を除外したノズル222の内壁全体は、親水性を有する。一方、本実施形態では、図5Dで記述されたポリマー層240を所定深さにエッチングする工程が省略されてもよく、その場合には、ノズルプレート220の表面にのみ疎水性コーティング膜250が形成される。
以上で本発明による好適な実施形態が説明されたが、それらは例示的なものに過ぎず、当業者であれば、それらから均等な他の実施形態が可能であるという点を理解するであろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求範囲によって決められるのである。
本発明は、インクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法に適用されうる。
従来の圧電方式のインクジェットプリントヘッドの一般的な構成を示した断面図である。 従来のインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜として、硫黄化合物層が形成された例を示す断面図である。 従来のインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面にフッ素樹脂を含む撥水膜が形成された例を示す断面図である。 本発明の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の他の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の他の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の他の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の他の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の他の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の他の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。 本発明の他の実施形態によるインクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法を説明するための図面である。
符号の説明
120 ノズルプレート、
122 ノズル、
130 フィルム、
142 シード層、
144 金属層。

Claims (16)

  1. インクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法であって、
    ノズルプレートにノズルを形成する段階と、
    前記ノズルの出口を覆うように、前記ノズルプレートの表面にフィルムを積層する段階と、
    前記ノズルの内壁及び前記ノズルの出口を覆うフィルムの内面に、メッキ方法によって所定の金属層を形成する段階と、
    前記ノズルプレートの表面から前記フィルムを除去する段階と、
    前記ノズルの出口を介して露出された金属層を覆うように、前記ノズルプレートの表面に疎水性コーティング膜を形成する段階と、
    前記ノズルの内壁に形成された金属層及び前記金属層の表面に形成された疎水性コーティング膜を除去する段階とを含むことを特徴とする疎水性コーティング膜の形成方法。
  2. 前記ノズルプレートの表面に前記フィルムを積層した後、前記ノズルの内壁及び前記ノズルの出口を覆うフィルムの内面に、メッキのためのシード層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  3. 前記フィルムを除去した後、前記ノズルの出口を介して露出された前記金属層を所定深さにエッチングする段階をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  4. 前記金属層は、1μm〜10μmの深さにエッチングされることを特徴とする請求項3に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  5. 前記金属層は、ダマシンメッキ法によって形成されることを特徴とする請求項1に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  6. 前記金属層の表面に形成された疎水性コーティング膜は、前記ノズルの内壁に形成された金属層を除去した後、ドライエッチングによって除去されることを特徴とする請求項1に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  7. インクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面に疎水性コーティング膜を形成する方法であって、
    ノズルプレートにノズルを形成する段階と、
    前記ノズルの出口を覆うように、前記ノズルプレートの表面にフィルムを積層する段階と、
    前記ノズルの内壁及び前記ノズルの出口を覆うフィルムの内面にポリマー層を形成する段階と、
    前記ノズルプレートの表面から前記フィルムを除去する段階と、
    前記ノズルの出口を介して露出されたポリマー層を覆うように、前記ノズルプレートの表面に疎水性コーティング膜を形成する段階と、
    前記ノズルの内壁に形成されたポリマー層及び前記ポリマー層の表面に形成された疎水性コーティング膜を除去する段階とを含むことを特徴とする疎水性コーティング膜の形成方法。
  8. 前記フィルムを除去した後、前記ノズルの出口を介して露出された前記ポリマー層を所定深さにエッチングする段階をさらに含むことを特徴とする請求項7に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  9. 前記ポリマー層は、ドライエッチングによってエッチングされることを特徴とする請求項8に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  10. 前記ポリマー層は、1μm〜10μmの深さにエッチングされることを特徴とする請求項8に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  11. 前記ポリマー層を形成する段階は、
    前記ノズルの内壁及び前記ノズルの出口を覆うフィルムの内面に液状のポリマーを塗布する段階と、
    前記塗布されたポリマーを熱処理して硬化させる段階とを含むことを特徴とする請求項7に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  12. 前記液状のポリマーは、スプレイコーティング法によって塗布されることを特徴とする請求項11に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  13. 前記ポリマー層は、フォトレジストからなることを特徴とする請求項7に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  14. 前記ポリマー層の表面に形成される疎水性コーティング膜は、前記ノズルの内壁に形成されたポリマー層を除去した後、ドライエッチングによって除去されることを特徴とする請求項7に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  15. 前記疎水性コーティング膜は、前記ポリマー層の除去工程によって損傷されない物質からなることを特徴とする請求項14に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
  16. 前記疎水性コーティング膜は、パリレンからなることを特徴とする請求項15に記載の疎水性コーティング膜の形成方法。
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