JP4758345B2 - 真空紫外放射線検出装置および方法 - Google Patents

真空紫外放射線検出装置および方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4758345B2
JP4758345B2 JP2006525715A JP2006525715A JP4758345B2 JP 4758345 B2 JP4758345 B2 JP 4758345B2 JP 2006525715 A JP2006525715 A JP 2006525715A JP 2006525715 A JP2006525715 A JP 2006525715A JP 4758345 B2 JP4758345 B2 JP 4758345B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
gas
radiation
vacuum pump
pump
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006525715A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007505301A (ja
Inventor
フランソワ ビンセント
アントニオ カブラス
Original Assignee
サーモ フィッシャー サイエンティフィック インク
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by サーモ フィッシャー サイエンティフィック インク filed Critical サーモ フィッシャー サイエンティフィック インク
Publication of JP2007505301A publication Critical patent/JP2007505301A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4758345B2 publication Critical patent/JP4758345B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/42Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
    • G01J1/429Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors applied to measurement of ultraviolet light
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/443Emission spectrometry

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)

Description

本発明は紫外分光法に関する。特に、これに限定されるものではないが、本発明は真空紫外(VUV)放射線、および電磁スペクトルのVUV領域における原子放出スペクトルを検出することに関する。
紫外(UV)放射線は、スペクトルの可視領域とX線領域との間、すなわち380nmから5nmまでの間に存在する電磁放射線である。真空紫外(VUV)放射線は、スペクトルのUV領域の一部であり、この領域では、放射線は空気によって吸収される。したがって、VUV放射線を検出するように構成された実験はいずれも、通常、真空で実施される。VUV放射線の波長は200nm未満である。
原子放出分光法は、試料の構成分子または構成原子を求めるために使用される周知の技術である。高エネルギー状態に励起された原子が、より低いエネルギー状態、または、基底エネルギー状態に緩和するときに光子が放出される。放出される光子の波長は、原子が緩和から励起状態と、励起状態の原子が減衰してなる緩和状態との間のエネルギーギャップに相関する。様々な原子種はそれぞれ独特の原子放出スペクトルを有し、したがって、スペクトルの検出を用いて試料の構成成分を求めることができる。
いわゆる放出線は、一般に、電磁スペクトルの赤外帯、可視帯、および紫外帯に存在する。真空紫外領域内で原子放出線を検出することに特に関心が持たれている。
現在、原子放出放射線源を用いたスペクトル分析システムによって、分析すべき試料材料が励起領域に導入されている。ここでは、試料材料は、その中の元素の特徴を示す放射線が十分検出可能なほど放出されるスペクトル放出レベルまで励起される。得られた放出放射線は、通常、格子または屈折素子を用いて分光され、分光法によって分析されて、その量から試料の元素組成が求められる。200nm未満の放射線が空気によって吸収されるのを回避するため、及び、ガスの屈折率の変化に伴う波長のシフトを回避するために、試料材料はガス充填チャンバ内で励起される。電磁スペクトルの様々な波長帯における放射線を検出するために、チャンバ内またはチャンバ上に様々な分光計を設置することができる。例えば、可視波長帯分光計を、その分光計から適当な窓を介して放射線源(励起試料)が見えるように、試料放出チャンバに取り付けることができる。
VUV波長帯を検出する場合、上述の吸収問題および屈折率変動問題を克服するように適した分光計を構成しなければならない。こうした問題は、装置の感度を低減させることになり、その結果、分光計の検出能力を制限することになってしまう。また、スペクトル線のシフトは、試料中の元素濃度の誤った測定を導くことがある。例えば、屈折率に関連する問題によって、スペクトル線が、CCDアレイまたは光電子増倍管アレイなどの出力検出システム全体にわたってシフトすることになりかねず、それによって、検出されたスペクトル線をそれらの関連する元素に正しく割り当てるように分光計を再較正する必要が生じることになる。
200nm未満の波長における光学スペクトル検出に伴うこうした問題を軽減するためにいくつかの試みがなされてきた。第1の例では、光学分光計ハウジングまたはチャンバは、分光計チャンバ内の実質的に全てのガスを除去するように高い真空レベルまで排気されてきた。かかる装置の一例に、Thermo Electron Corporation販売のARL4460分光計がある。高真空は、通常、チャンバを真空状態にする2段式ポンプシステムを用いて実現される。このポンプシステムは、ターボ分子ポンプなどの高真空ポンプと直列に配置された回転ポンプまたはダイヤフラムポンプなどの主真空ポンプを含み、ターボ分子ポンプは、真空チャンバと主真空ポンプとの間に配置されている。
この2段式ポンプシステムは、チャンバ内の圧力を0.1Pa未満(10−3mbar)まで低減させるのに必要である。光経路となる真空チャンバ内に十分な透過性をもたらすには、この真空レベルが必要となる。回転ポンプまたはダイヤフラムポンプ単独では、分光計ハウジング内に、VUV波長帯において十分な透過レベルをもたらすために必要な圧力レベルを得ることができない。
このシステムにはいくつかの欠点があり、具体的には、ターボ分子ポンプが比較的高価であり、また、定期的な保守を必要とすることによる。かかるポンプは、それ自体では動作することができず、主真空ポンプと直列して使用しなければならず、したがって、追加の費用および保守負担が生じることになる。ポンプが点検また保守されている間、その分光計は稼働することができない。
米国特許第4322165号および同第5506149号は、上述の問題に対する第2の解決策を提案しており、ここでは分光計をUV透過ガスで常にパージし、それによってUV吸収ガスをその装置から排出している。UV透過ガスは特に高純度のものである必要があり、また、装置中を流れる流量は、比較的大量である(通常、毎分0.5〜5リットルの範囲)。かかるガスは、高純度が必要となるため比較的高価であり、また、そのガス消費率のため、ガスパージ費用は、かかる分光計を使用している研究所にとって最も高い消耗費の1つとなっている。しかし、この種のシステムには、高真空ポンプシステムが必要でない。
米国特許第5225681号は、密閉された分光計ハウジングにUV透過ガスを充填することによって上記で論じた問題を克服しようと試みている。分光計ハウジング内の構成要素から脱離物質を除去するために、ガス清浄器によってガスを循環させるガスポンプシステムが必要となる。このガス清浄システムは比較的高価であり、定期的な交換が必要となる。ガス清浄システムが使用されない場合、UV透過ガスは、UV吸収ガスによって次第に汚染されることになり、分光計の性能が損なわれるおそれがある。ガス洗浄システムは、その動作寿命の間にわたって定期的な保守が必要であり、保守の間はその分光計は稼働することができない。
さらに、このシステムは、分光計ハウジングがガス密であることに依存する。どんな僅かな漏れであってもハウジング内の圧力を変えてしまうことになり、それによってシステム内のガス屈折率に変動が生じ、その結果、検出されたスペクトル線の波長がシフトすることになる。
さらに、高真空ポンプがないため、他の問題が生じる。というのは、ハウジング内の構成要素に保守が必要となる度に、ハウジングを開口しなければならず、ハウジングに空気が充満するにつれて高純度ガスが失われることになるからである。ハウジングは、まず高真空まで排気してからでないと、高純度透過ガスを充填することができず、そうするには高真空ポンプが必要となる。したがって、どちらのシステムも、どんなシステム保守後にも、チャンバを真空状態にしてから分光分析器を動作可能にするために、高真空ポンプを常に装着しておくか、または、適当なポンプを用意してそのシステムに装着しなければならない。この再充填プロセスは、非常に時間がかかり、当然ながらこの期間中はその分光計は稼働することができない。
Hilger Analytical Limited(英国)が商品名Polyvac(登録商標)で販売している他のシステムは、回転翼型2段式中真空ポンプを用いて分光計ハウジングを約1Pa(10−3mbar)まで真空状態にするものである。この回転翼型ポンプは、ポンプに油を用いて分光計ハウジングを中真空にする。かかるポンプシステムは、「湿式ポンプ」として周知である。中真空圧では、残留ガス成分は濃度が比較的低く、実質的に140nm超の波長では、UV放射線はそれほど減衰せずに透過され得る。
しかし、回転翼型ポンプからの油がシステムに入り込み、光学部品を汚染したり、分光計内のガス屈折率に影響を及ぼしたりする可能性がある。回転翼型ポンプの油がハウジング内に入り込む、このいわゆる「逆流」を減少させるには、分光計ハウジングに高純度アルゴンガスを供給する。アルゴンガスが導入されたときのハウジング内の全圧力は通常12.5〜25Pa(0.125〜0.25mbar)である。さらに、回転翼型ポンプによって得られる到達真空度は特に安定しているという訳ではない。チャンバ内の残留ガスの量は、200nm未満の波長の透過にはなおも影響を及ぼし得るレベルであるので、ポンプ性能の変動によるチャンバ圧力の変動によって、吸収の程度に変動が生じることになり、それによってUV波長では分光計の安定性が損なわれることになる。高純度アルゴンガスの供給は、分光計チャンバ内のガス圧を安定させる助けとなり、それによってUV透過性はある程度安定する。
この回転翼型2段式ポンプは比較的高価である。さらに、アルゴンを用いてシステムをパージしても、この回転翼型ポンプからの油の逆流による光学部品汚染の危険が低減するだけであり、かかる油による汚染はこのシステムでは決して解消されてはいない。
米国特許第4322165号明細書 米国特許第5506149号明細書 米国特許第5225681号明細書
本発明の目的は、先行技術に伴う問題を改善すると共に、先行技術によるシステムに勝る改良を加えた分光計または分光法を提供することである。
したがって、本発明の第1の態様では、放射線源から紫外放射線を受け取るように構成された放射線検出器と、前記検出器が配設されたチャンバと、チャンバを約5Pa(0.05mbar)以上の圧力まで真空状態にするように構成された乾式真空ポンプと、チャンバ入り口ポートからチャンバ内に、実質的にUV透過ガスを供給するように構成されたガス供給手段とを含む真空紫外放射線検出装置が提供される。
乾式ポンプには、特にPolyvac(登録商標)システムに勝る2つの主な利点がある。第1に、このポンプは油を必要としないので、逆流の問題が対処される。第2に、このポンプは、回転翼型ポンプまたはターボ分子ポンプよりも比較的費用がかからない。
とはいえ、現在利用可能な乾式ポンプでは、比較的低い真空しか得ることができない。乾式ポンプによって通常得られる最小圧力である5パスカル以上では、放出された放射線は大幅に吸収されることになる。したがって、従来、乾式ポンプは(少なくとも他の補助なしでは)VUV分光分析においては使用不可能であると考えられてきた。
驚くべきことに、実質的にUV透過ガスをチャンバに加えることによって、約200nm未満の紫外放射線の、残留大気ガス(これは乾式ポンプによって抜き取ることができない)による吸収が大幅に低減し、その結果、乾式ポンプでもシステムがうまく動作することを本発明者らは見出した。
「乾式ポンプ」とは、動作に油または他のどんな液体の使用も必要としないポンプを意味する。
本発明の第2の態様によれば、放射線源から紫外放射線を受け取るように配置された放射線検出器と、前記検出器が配設されたチャンバと、チャンバを真空状態にするように構成されたポンプと、チャンバ内の全圧力を100〜10,000Pa(1〜100mbar)にするような流量で、チャンバ入り口ポートからチャンバ内に実質的にUV透過ガスを供給するように構成されたガス供給手段とを含む真空紫外放射線検出装置が提供される。
UV透過ガスは比較的高価である。したがって、本発明は、上記冒頭で示した、大量のパージガスを使用する傾向がある米国特許などの先行技術による構成の問題に対処している。
本発明では、チャンバを真空状態にするポンプと併せて、UV透過ガスを遙かに低い(少なくとも5〜6分の1低い)流量で使用する(上述の先行技術は、大気圧またはその付近の圧力で動作する傾向がある)。好ましい実施形態では、ポンプは、乾式ポンプなどでよく、したがって、消耗品の減少による年間運転費の削減に加えてさらに費用が削減される。本発明では、UV透過ガスの流量は、上述のPolyvac(登録商標)システムの流量よりも幾分高いものの、Polyvac(登録商標)システムにおけるガス流は、吸収を防止するために真空と組み合わせて動作させるものではなく、基本的にポンプ油蒸気の逆流を防止するものである点に留意されたい。
ガス供給手段は、好ましくは、毎分約0.1リットルの速度でチャンバにガス流を供給するように構成される。
真空ポンプは、好ましくは、ハウジングからUV透過ガスを除去し、UV透過ガスが再循環しないように構成される。
好ましくは、この装置はまた、近紫外波長帯や可視波長帯など、他の波長帯において動作可能である放射線検出器を含むこともでき、その場合、UV透過ガスは、これらの他の動作波長帯においても実質的に透過であるべきである。
好ましくは、放射線検出器は、例えばホログラフィック回折格子などの回折格子、およびCCDアレイまたは格子からの回折放射線を受け取るように構成された他の検出システムを含む。格子は、放射線源からの放射線が、ある角度で格子に入射してその構成波長に回折されるように構成される。
本発明の2つの態様はどちらも、構成消耗品が先行技術よりも安価で済む真空紫外放射線検出装置を提供するが、これら2つの解決策は、決して相互に排他的なものではなく、乾式ポンプを有し、かつUV透過ガス流量が比較的低い装置も特定の利点をもたらすことを理解されたい。
本発明はまた、チャンバ内に配設された検出器を用いて真空紫外放射線を検出する方法を提供し、前記方法は、チャンバを実質的に5Pa(0.05mbar)以上の圧力まで真空状態にすることと、チャンバ内に実質的にUV透過なガスを供給することと、放射線検出器に入射したUV放射線を検出することとを含む。
本発明のさらに他の態様では、チャンバ内に配設された検出器を用いて真空紫外放射線を検出する方法が提供され、前記方法は、チャンバを真空状態にすることと、チャンバ内の圧力を100Pa〜10,000Pa(1〜100mbar)に維持するような速度で、チャンバ内に実質的にUV透過なガスを供給することと、放射線検出器に入射したUV放射線を検出することとを含む。
次に、添付の図面を参照して、本発明の実施形態を例示によって説明する。
図1を参照すると、本発明を実施した装置10が極めて概略的な形で示されている。この装置10は、一方の壁に窓14を備えた分光計ハウジングまたはチャンバ12を含む。このハウジング12は、出口ポート16と、ハウジング12を専ら低真空圧まで真空状態にするように構成された真空ポンプ18とを含む。低真空圧とは、大気圧から100Pa(1mbar)までの真空圧を意味する。真空ポンプ18は、ポンプ出口20を介して大気へ直接通気する。
ハウジング12は入り口ポート22も含む。この入り口ポート22は、弁24を介してガス供給部26に連結されている。このガス供給部26は、アルゴンまたは窒素などのUV透過ガスを含んでいる。弁24は、ソレノイド型もしくはニードル型のもの、または流量制御装置でよい。適当な流量調節を可能とする他の装置を使用してもよい。
ハウジング12内には、格子28、または適当な回折/屈折手段が配設されており、したがって、窓14を通過した放射線は格子28に入射し回折され、その構成波長に分光されることになる。ハウジング12内には検出システム30が配置されており、したがって、格子28によって回折された光はこの検出器30に入射する。ハウジング12内には、スリット32、レンズ系など、さらに他の光学素子があってもよい。
ハウジング12は、電磁放射線源36を収容した容器34に取り付けることができる。この放射線源36は、その中に試料を導入して、その試料が原子放出線を発する程度まで試料を励起させることができるプラズマアークを含むことができる。試料をかかる状態まで励起させる方法および手段は、本発明の一部を成すものではなく、さらなる説明は本明細書では必要でない。
試料が放出した光は、線40で示す経路に沿って進む。放射線源36が放出した光は、窓14を通ってハウジング12に入り、スリット32を通過し格子28に入射する。ここで、光はその波長および格子28の回折力に応じてある角度で曲がる。格子28から、光は検出システム30に進み、ここで光は検出される。この検出器30は、例えば、第1の周波数(または波長)の光がアレイの一方の端部に入射し、次第に高くなる周波数を有する光が、アレイの長さに沿ってアレイの第2の端部まで入射するように構成されたCCDアレイを含む。このシステムは、例えば、ハウジング12内の諸条件に従って、光の分離している周波数または波長がCCDアレイのある素子にのみ当たるように較正することができる。
真空ポンプ18は、ハウジング12内にUV透過ガスがない状態で測定したときに、ハウジング12を10〜5,000Pa(0.1〜50mbar)の圧力まで真空状態にするように動作する。この状態では、ハウジング12内の残留ガスは、ハウジング12の内側表面、ハウジング12内の光学部品、および窓14から脱離された空気成分を含む。さらに、ハウジング12内の残留ガスの幾分かは、ポンプ18を介して大気からハウジング12内に逆流した空気に起因する。通常、こうした逆流空気は、紫外放射線を幾らか吸収する作用をする水蒸気、酸素、および二酸化炭素を含む。
ハウジング内にこうした望ましくないガスが含まれていると、200nm未満の光の波長では分光計の性能は低下する。したがって、その原子放出スペクトル線が200nm未満の範囲にある元素を検出できる限界が低下する。場合によっては、こうした低下は、分析対象となっている試料中の元素濃度を求めることができなくなるほど大きくなる。
しかし、驚くべきことに、入り口22からハウジング12内にUV透過ガスを低流量で流すことによって、200nm未満波長用の分光計の性能は大幅に向上する。大気による吸収問題を克服するには、ハウジング12内の全圧力を約100〜10,000Pa(1〜100mbar)にするような速度でハウジング12にガスを供給すれば十分であることが判明している。ハウジング12内の全圧力を約10mbarにするためにハウジング12内に紫外線透過ガスを流すガス流量は、概ね毎分0.1リットルである。この流量は、先行技術によるパージガスシステムよりも少なくとも5分の1低い。現在の為替相場では、高純度ガスの流量低減によって、分光計1台当たり年間およそ2,000ユーロ(およそ2,250米ドル)の節減が概ね実現される。
これは典型的な流量の例であるが、チャンバ内の圧力は、ガス流量にも排気量(pumping rate)にも正比例するものではなく、ガス流量の調節によって圧力は確かに変わるものの、大気による吸収問題が克服されるか否かを決定するのは後者の排気量であることを理解されたい。
比較的低い流量でハウジング12内に紫外線透過ガスを絶えず流すと、ハウジング12の内側表面および光学部品から脱離されたガスを除去する働きをするだけでなく、低真空ポンプ18の真空側において比較的高い圧力をもたらす働きもする。したがって、ポンプ18はその最大動作真空圧よりも高い圧力で動作することになる。このポンプ18によって、どんな脱着物質または脱離物質も、UV透過ガスと共にポンプ18から大気へ絶えず排気される。ポンプによるこうしたガス流動は、大気中のガスがポンプの大気側から分光計ハウジング12内に逆流するのを防止する働きをする。
低真空ポンプ、特にダイヤフラムポンプの使用によって、先行技術によるシステムに少しも劣らない性能を有する、本発明を実施した分光計装置製造費用の節減が実現される。この費用節減は、パージガス費用の節減、および本発明を実施した装置の低保守/高い使用能力と相まって、分光計の寿命にわたってかなりの節減をもたらすことができる。
弁24は、オリフィス絞り弁と協働するように構成することができ、それによって容器26からハウジング12内に流れるガス流量を定常の速度に制御することができる。かかるオリフィス絞り弁は、特定のガスの特定の流量用に較正済みのものを調達することができ、またこの弁は、分光計チャンバ12内の最終ガス圧を安定させる助けとなる。
適当なUV透過ガスにはアルゴンや窒素が含まれ、いずれもガス専門小売業者から入手することができる。
以上、好ましい実施形態について具体的に説明してきたが、これは単なる例にすぎず、本質的に、添付の特許請求の範囲で定義される保護の範囲を限定するものではない。様々な変形が当業者には想定されよう。例えば、窓14は、レンズまたは他の形の光学素子もしくは機械素子からなる、または含むことができる。この分光計は、大気による吸収が問題となる他の波長帯において動作するように構成することができる。さらに、本発明の実施形態はまた、分光分野以外の他の光学実験にも使用することができる。
本発明を実施した装置の概略図である。

Claims (16)

  1. 放射線源から紫外放射線を受け取るように構成された放射線検出器と、
    前記検出器が配設されたチャンバと、
    前記チャンバを実質的に5Pa(0.05mbar)以上の圧力まで真空状態にするように構成された乾式真空ポンプと、
    前記乾式真空ポンプを動作させた状態において、前記チャンバ内の圧力を100〜10,000Pa(1〜100mbar)にするような流量で、チャンバ入り口ポートから前記チャンバ内に、実質的にUV透過ガスを供給するように構成されたガス供給手段と、
    を含むことを特徴とする真空紫外放射線検出装置。
  2. 請求項1に記載の装置であって、
    前記UV透過ガスが、実質的に連続的な速度で前記チャンバに供給されるように構成されることを特徴とする装置。
  3. 請求項1または2に記載の装置であって、
    前記入り口ポートが、前記UV透過ガスの流量を制御するように構成された弁を含むことを特徴とする装置。
  4. 請求項1から3のいずれか1項に記載の装置であって、
    前記真空ポンプが、動作中、前記チャンバ内の全圧力が実質的に100〜10,000Paとなるような速度で前記チャンバ内の前記UV透過ガスを大気へ除去するように構成され、かつ/または、前記ガス供給手段が、かかる速度で前記ガスを供給するように構成されることを特徴とする装置。
  5. 請求項1から3のいずれか1項に記載の装置であって、
    前記ガス供給手段が、約0.1リットル/分で前記チャンバ内にガスを流すように構成されることを特徴とする装置。
  6. 請求項1から5のいずれか1項に記載の装置であって、
    前記真空ポンプが乾式ダイヤフラム真空ポンプであることを特徴とする装置。
  7. 請求項1から6のいずれか1項に記載の装置であって、
    前記UV透過ガスが、アルゴン、窒素、またはアルゴンおよび窒素の組合せであることを特徴とする装置。
  8. 請求項1から7のいずれか1項に記載の装置であって、
    前記放射線検出装置が光学分光計を含むことを特徴とする装置。
  9. 請求項に記載の装置であって、
    前記分光計が、真空紫外放射線および別の波長帯における放射線を検出するように構成されることを特徴とする装置。
  10. 請求項1から9のいずれか1項に記載の装置であって、
    前記チャンバが、放射線によって通過され、放射線が前記放射線検出器によって検出されることを可能とするように構成された窓を含むことを特徴とする装置。
  11. 放射線源から紫外放射線を受け取るように配置された放射線検出器と、
    前記検出器が配設されたチャンバと、
    前記チャンバを真空状態にするように構成されたポンプと、
    前記ポンプを動作させた状態において、前記チャンバ内の全圧力が100〜10,000Pa(1〜100mbar)となるような流量で、チャンバ入り口ポートから前記チャンバ内に、実質的にUV透過ガスを供給するように構成されたガス供給手段と、
    を含むことを特徴とする真空紫外放射線検出装置。
  12. チャンバ内に配設された放射線検出器を用いて真空紫外放射線を検出する方法であって、
    真空ポンプにより前記チャンバを実質的に5Pa(0.05mbar)以上の圧力まで真空状態にすることと、
    前記真空ポンプを動作させた状態において、前記チャンバ内の圧力を100〜10,000Pa(1〜100mbar)にするような流量で、前記チャンバ内に実質的にUV透過なガスを供給することと、
    前記放射線検出器に入射したUV放射線を検出することと、
    を含むことを特徴とする方法。
  13. 請求項1に記載の方法であって、
    前記真空ポンプの動作中、前記UV透過ガスが、前記チャンバ内の全圧力が実質的に100〜10,000Paとなるような速度で前記チャンバに供給され、かつ/または、前記チャンバが、かかる速度で真空状態にされることを特徴とする方法。
  14. 請求項1に記載の方法であって、
    前記ガスが約0.1リットル/分の速度で前記チャンバに供給されることを特徴とする方法。
  15. チャンバ内に配設された検出器を用いて真空紫外放射線を検出する方法であって、
    真空ポンプにより前記チャンバを真空状態にすることと、
    前記真空ポンプを動作させた状態において、前記チャンバ内の圧力を100〜10,000Pa(1〜100mbar)に維持するような流量で、前記チャンバ内に実質的にUV透過なガスを供給することと、
    前記放射線検出器に入射したUV放射線を検出することと、
    を含むことを特徴とする方法。
  16. 請求項1から1のいずれか1に記載の方法であって、
    前記UV透過ガスが、前記真空ポンプによって前記チャンバから除去されることを特徴とする方法。
JP2006525715A 2003-09-09 2004-09-03 真空紫外放射線検出装置および方法 Expired - Fee Related JP4758345B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB0321070.5 2003-09-09
GB0321070A GB2405924B (en) 2003-09-09 2003-09-09 Ultraviolet spectroscopy
PCT/EP2004/009821 WO2005024361A1 (en) 2003-09-09 2004-09-03 Apparatus and method for detection of vacuum ultraviolet radiation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007505301A JP2007505301A (ja) 2007-03-08
JP4758345B2 true JP4758345B2 (ja) 2011-08-24

Family

ID=29226739

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006525715A Expired - Fee Related JP4758345B2 (ja) 2003-09-09 2004-09-03 真空紫外放射線検出装置および方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7476866B2 (ja)
EP (1) EP1664691B1 (ja)
JP (1) JP4758345B2 (ja)
CN (1) CN1846122B (ja)
DE (1) DE602004012760T2 (ja)
GB (1) GB2405924B (ja)
WO (1) WO2005024361A1 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4640057B2 (ja) * 2005-09-09 2011-03-02 株式会社島津製作所 分光光度計
JP5151073B2 (ja) * 2006-06-02 2013-02-27 株式会社島津製作所 光度計
WO2009094584A1 (en) * 2008-01-25 2009-07-30 The Regents Of The University Of California Devices useful for vacuum ultraviolet beam characterization
JP5678408B2 (ja) 2009-03-10 2015-03-04 ウシオ電機株式会社 エキシマランプ用照度測定装置
WO2012033443A1 (en) * 2010-09-06 2012-03-15 Chromalytica Ab Combination of spectrograph barrier gas, carrier gas and cooling of ccd
JP5609932B2 (ja) * 2012-08-07 2014-10-22 株式会社島津製作所 光度計を用いた試料測定方法
CN103148939B (zh) * 2013-02-28 2015-06-17 北京振兴计量测试研究所 一种抑制二级光谱的紫外光谱测量方法及系统
CN103278237B (zh) * 2013-05-30 2015-03-25 中国电子科技集团公司第四十一研究所 一种光辐射校准装置及方法
CN106338471A (zh) * 2015-12-21 2017-01-18 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种用于测试气体对极紫外光吸收率的测试装置及方法
CN109459404B (zh) * 2018-12-26 2021-04-20 上海神开气体技术有限公司 一种红外气体池动态进样方法
US11262664B2 (en) 2019-11-19 2022-03-01 Kla Corporation System and method for protecting optics from vacuum ultraviolet light
GB2589367B (en) * 2019-11-29 2022-01-12 Thermo Fisher Scient Ecublens Sarl Improvements in optical emission spectrometry

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05133806A (ja) * 1991-05-02 1993-05-28 Spectro Analytical Instr Ges Fuer Analytisch Messgeraete Mbh 紫外線スペクトロメータおよびその使用方法
JPH10206330A (ja) * 1997-01-24 1998-08-07 Sumitomo Metal Ind Ltd レーザ発光分光分析方法およびその装置
JP2002289129A (ja) * 2001-03-26 2002-10-04 Jeol Ltd 低真空走査電子顕微鏡
JP2003522941A (ja) * 2000-02-09 2003-07-29 ラムダ フィジーク アーゲー Vuvレーザビーム特徴付けシステム

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4322165A (en) * 1979-02-23 1982-03-30 The Dow Chemical Company VUV Plasma atomic emission spectroscopic instrument and method
DD294094A5 (de) * 1988-09-20 1991-09-19 Adw,Heinrich-Hertz-Inst. F. Atmosphaerenforsch. U. Geomagn.,De Anordnung zum hochempfindlichen nachweis von ozon, stickstoffmonoxid und stickstoffdioxid in gasgemischen
CN2166469Y (zh) * 1993-09-07 1994-05-25 中国科学院上海技术物理研究所 用于傅里叶磁光测试的光学传输装置
JP3360097B2 (ja) * 1994-07-06 2002-12-24 株式会社ニコン 真空紫外域の光学装置
US5506149A (en) * 1995-03-03 1996-04-09 Thermo Jarrell Ash Corporation Spectroanalytical system and method
US6327290B1 (en) * 1999-02-12 2001-12-04 Lambda Physik Ag Beam delivery system for molecular fluorine (F2) laser
US6219368B1 (en) * 1999-02-12 2001-04-17 Lambda Physik Gmbh Beam delivery system for molecular fluorine (F2) laser
US6624424B2 (en) * 2000-02-09 2003-09-23 Lambda Physik Ag VUV laser beam characterization system
JP2001351568A (ja) * 2000-06-06 2001-12-21 Anelva Corp イオン付着質量分析の方法および装置
US6813026B2 (en) * 2001-04-11 2004-11-02 Therma-Wave, Inc. Purge system for optical metrology tool
JP2005233828A (ja) * 2004-02-20 2005-09-02 Canon Inc Euv光スペクトル測定装置およびeuv光のパワー算出方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05133806A (ja) * 1991-05-02 1993-05-28 Spectro Analytical Instr Ges Fuer Analytisch Messgeraete Mbh 紫外線スペクトロメータおよびその使用方法
JPH10206330A (ja) * 1997-01-24 1998-08-07 Sumitomo Metal Ind Ltd レーザ発光分光分析方法およびその装置
JP2003522941A (ja) * 2000-02-09 2003-07-29 ラムダ フィジーク アーゲー Vuvレーザビーム特徴付けシステム
JP2002289129A (ja) * 2001-03-26 2002-10-04 Jeol Ltd 低真空走査電子顕微鏡

Also Published As

Publication number Publication date
DE602004012760D1 (de) 2008-05-08
JP2007505301A (ja) 2007-03-08
EP1664691A1 (en) 2006-06-07
GB2405924A (en) 2005-03-16
EP1664691B1 (en) 2008-03-26
GB0321070D0 (en) 2003-10-08
DE602004012760T2 (de) 2009-04-09
CN1846122B (zh) 2012-04-18
WO2005024361A1 (en) 2005-03-17
CN1846122A (zh) 2006-10-11
US20060289778A1 (en) 2006-12-28
GB2405924B (en) 2006-07-26
US7476866B2 (en) 2009-01-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4758345B2 (ja) 真空紫外放射線検出装置および方法
ES2235300T3 (es) Procedimiento para medir la concentracion de vapor de peroxido de hidrogeno.
US6781685B2 (en) Process and device for in-situ decontamination of a EUV lithography device
JP4715759B2 (ja) 水分計
RU2576550C2 (ru) Течеискатель с оптическим обнаружением пробного газа
JP2003214958A (ja) 波長検出装置、レーザ装置及び波長検出方法
JP2003503861A (ja) 真空紫外線レーザーの出力のオンライン制御装置
JP5981834B2 (ja) 紫外線ランプの劣化検出装置及び方法
US6975393B2 (en) Method and apparatus for implementing an afterglow emission spectroscopy monitor
JP5151073B2 (ja) 光度計
JP5670717B2 (ja) オゾンガス供給装置
US6052429A (en) X-ray analyzing apparatus
JP7450033B2 (ja) 発光分光分析の改善
JP2001041877A (ja) 分光分析装置及びガス中の不純物の分析方法
WO2022024407A1 (ja) ガス濃度検知装置
JPH095233A (ja) ガスの分光分析装置
US5153674A (en) Semiconductor production control and/or measuring unit
JP4007708B2 (ja) 真空紫外レーザ
JP5609932B2 (ja) 光度計を用いた試料測定方法
JP2000236125A (ja) 真空紫外レーザ
Gerasimov et al. Parameters of VUV radiation from a DC capillary discharge in a mixture of krypton with xenon
JP2008182135A (ja) 露光装置、光学機器、露光方法及びデバイス製造方法
JPH09196851A (ja) 発光分光分析装置
JP2000146691A (ja) 分光光度計
JP2002033540A (ja) レーザシステム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070328

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100302

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100601

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101130

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20110225

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20110304

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110328

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110510

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110602

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4758345

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140610

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees