JPH05133806A - 紫外線スペクトロメータおよびその使用方法 - Google Patents
紫外線スペクトロメータおよびその使用方法Info
- Publication number
- JPH05133806A JPH05133806A JP4111094A JP11109492A JPH05133806A JP H05133806 A JPH05133806 A JP H05133806A JP 4111094 A JP4111094 A JP 4111094A JP 11109492 A JP11109492 A JP 11109492A JP H05133806 A JPH05133806 A JP H05133806A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- spectrometer
- pressure
- ultraviolet
- container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 8
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 claims description 18
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 11
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 4
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims description 3
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 claims 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 59
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000033991 Device difficult to use Diseases 0.000 description 1
- 101700004678 SLIT3 Proteins 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100027339 Slit homolog 3 protein Human genes 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0286—Constructional arrangements for compensating for fluctuations caused by temperature, humidity or pressure, or using cooling or temperature stabilization of parts of the device; Controlling the atmosphere inside a spectrometer, e.g. vacuum
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/33—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using ultraviolet light
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/33—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using ultraviolet light
- G01N2021/335—Vacuum UV
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/15—Preventing contamination of the components of the optical system or obstruction of the light path
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Optical Measuring Cells (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 本発明は１９０nm以下の波長範囲におけるス
ペクトル強度を測定するための紫外線スペクトロメータ
に関し、ガスの消費量を最小限に抑えた状態で安定な測
定が可能なスペクトロメータを提供することを目的とす
る。 【構成】 光学窓を有し紫外線に対し透明なガスで充た
された気密性のスペクトロメータ容器７が設けられ、ス
ペクトロメータ容器７内で測定すべき放射線を吸収する
残留ガスを捕えるように吸着手段１２が配置され、容器
内におけるフラッシング・ガスの圧力が大気圧よりも高
い値でもって一定に保たれるように圧力調整システムが
配設される。
ペクトル強度を測定するための紫外線スペクトロメータ
に関し、ガスの消費量を最小限に抑えた状態で安定な測
定が可能なスペクトロメータを提供することを目的とす
る。 【構成】 光学窓を有し紫外線に対し透明なガスで充た
された気密性のスペクトロメータ容器７が設けられ、ス
ペクトロメータ容器７内で測定すべき放射線を吸収する
残留ガスを捕えるように吸着手段１２が配置され、容器
内におけるフラッシング・ガスの圧力が大気圧よりも高
い値でもって一定に保たれるように圧力調整システムが
配設される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、１９０nm（ナノメー
タ）以下の波長範囲におけるスペクトル強度を測定する
ための紫外線（ＵＶ：ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）スペク
トロメータに関する。
タ）以下の波長範囲におけるスペクトル強度を測定する
ための紫外線（ＵＶ：ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）スペク
トロメータに関する。
【０００２】
【従来の技術】紫外線スペクトロメータは、一般に、ガ
スの消費量を最小限に抑える目的で使用されるガス・フ
ラッシング装置（ｇａｓ ｆｌｕｓｈｉｎｇ ａｐｐａ
ｒａｔｕｓ）を備えている。このガス・フラッシング装
置は、一方で、光学窓、さらに詳しくは放射線の入口側
において吸収性の付着物が形成されるのを防止し、か
つ、吸収性の残留ガス成分の分圧を無視し得るレベルに
保つ目的にも使用される。本発明による装置は、さら
に、長期間にわたって安定な測定結果を達成する。
スの消費量を最小限に抑える目的で使用されるガス・フ
ラッシング装置（ｇａｓ ｆｌｕｓｈｉｎｇ ａｐｐａ
ｒａｔｕｓ）を備えている。このガス・フラッシング装
置は、一方で、光学窓、さらに詳しくは放射線の入口側
において吸収性の付着物が形成されるのを防止し、か
つ、吸収性の残留ガス成分の分圧を無視し得るレベルに
保つ目的にも使用される。本発明による装置は、さら
に、長期間にわたって安定な測定結果を達成する。
【０００３】１９０nm以下の波長範囲においては、空気
の成分により放射線の光学的吸収が生ずるために、真空
容器内にて残留ガスを０．０１mbar（ミリバール）以下
にした状態でスペクトロメータが動作する。この結果、
通常のスペクトロメータにおいては技術的な費用がかな
り高くついてしまう。
の成分により放射線の光学的吸収が生ずるために、真空
容器内にて残留ガスを０．０１mbar（ミリバール）以下
にした状態でスペクトロメータが動作する。この結果、
通常のスペクトロメータにおいては技術的な費用がかな
り高くついてしまう。
【０００４】いわゆる真空紫外線（ＶＵＶ）のスペクト
ル領域においては、当然のことながら、０．１mbar以下
の圧力までスペクトロメータを真空にする代わりに紫外
線に対し透明なフラッシング・ガスが使用される。この
ようなガスによるガス・フラッシングを利用した公知の
システムは、３０〜３００ｌ／ｈの範囲の比較的高速の
ガスフロー（ｇａｓ ｆｌｏｗ）に基づいており（米国
特許第４，３２２，１６５号参照のこと）、このときに
使用されるガスは、かなり高純度のものが要求される。
５〜１０ｌ／ｈのガス消費量を有する類似のガスフロー
・システムは、刊行物により公知になっている｛例え
ば、中原，和佐（Ｔ．Ｎａｋａｈａｒａ ａｎｄＴ．Ｗ
ａｓａ），アプライド スペクトロスコピィ（Ａｐｐｌ
ｉｅｄ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ），４１巻，１２３
８頁，１９７８；中原（Ｔ．Ｎａｋａｈａｒａ），スペ
クトロケミカル アクタ（Ｓｐｅｃｔｒｏｃｈｉｍ．Ａ
ｃｔａ），４０Ｂ巻，２９３頁，１９８５｝。
ル領域においては、当然のことながら、０．１mbar以下
の圧力までスペクトロメータを真空にする代わりに紫外
線に対し透明なフラッシング・ガスが使用される。この
ようなガスによるガス・フラッシングを利用した公知の
システムは、３０〜３００ｌ／ｈの範囲の比較的高速の
ガスフロー（ｇａｓ ｆｌｏｗ）に基づいており（米国
特許第４，３２２，１６５号参照のこと）、このときに
使用されるガスは、かなり高純度のものが要求される。
５〜１０ｌ／ｈのガス消費量を有する類似のガスフロー
・システムは、刊行物により公知になっている｛例え
ば、中原，和佐（Ｔ．Ｎａｋａｈａｒａ ａｎｄＴ．Ｗ
ａｓａ），アプライド スペクトロスコピィ（Ａｐｐｌ
ｉｅｄ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ），４１巻，１２３
８頁，１９７８；中原（Ｔ．Ｎａｋａｈａｒａ），スペ
クトロケミカル アクタ（Ｓｐｅｃｔｒｏｃｈｉｍ．Ａ
ｃｔａ），４０Ｂ巻，２９３頁，１９８５｝。
【０００５】上記の高速のガスフローは、脱離や漏れに
より発生する残留ガスを充分低い分圧に保つために必要
とされる。この場合、ガス・フラッシングのために高圧
のガス・フラスコ（ｇａｓ ｆｌａｓｋ）を用意しなけ
ればならないので、装置の実際上の取り扱いが難しくな
り、装置が高価なものとなる。
より発生する残留ガスを充分低い分圧に保つために必要
とされる。この場合、ガス・フラッシングのために高圧
のガス・フラスコ（ｇａｓ ｆｌａｓｋ）を用意しなけ
ればならないので、装置の実際上の取り扱いが難しくな
り、装置が高価なものとなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来の真空スペクトロ
メータでは、このスペクトロメータの容器内に含まれる
残留ガスの解離により、紫外線が放射される光学窓上や
その他の光学面上に吸収性の付着物が形成される。この
結果、スペクトロメータによる測定の安定性が制限され
ると共に、非常に費用の高い保守が必要になるという問
題が生ずる。さらに、上記真空スペクトロメータに関す
る別の問題は、要求される中程度に高い真空を得るため
に技術的な費用がかなり高くなるという点である。
メータでは、このスペクトロメータの容器内に含まれる
残留ガスの解離により、紫外線が放射される光学窓上や
その他の光学面上に吸収性の付着物が形成される。この
結果、スペクトロメータによる測定の安定性が制限され
ると共に、非常に費用の高い保守が必要になるという問
題が生ずる。さらに、上記真空スペクトロメータに関す
る別の問題は、要求される中程度に高い真空を得るため
に技術的な費用がかなり高くなるという点である。
【０００７】公知のガス・フラッシングによるスペクト
ロメータでは、ガス消費量が５０〜１００標準立方メー
トル／年（Ｎ ｃｂｍ ｐｅｒ ａｎｎｕｍ）であって
比較的高く、このガス消費量の調整状態は外部の気圧に
依存する。
ロメータでは、ガス消費量が５０〜１００標準立方メー
トル／年（Ｎ ｃｂｍ ｐｅｒ ａｎｎｕｍ）であって
比較的高く、このガス消費量の調整状態は外部の気圧に
依存する。
【０００８】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
であり、ガス消費量を最小限に抑えた状態で、紫外線に
対し透明なガスの濃度を一定に保つことにより安定な測
定が可能な紫外線スペクトロメータおよびその使用方法
を提供することを目的とするものである。
であり、ガス消費量を最小限に抑えた状態で、紫外線に
対し透明なガスの濃度を一定に保つことにより安定な測
定が可能な紫外線スペクトロメータおよびその使用方法
を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段および作用】上記問題点を
解決するために、本発明の紫外線スペクトロメータにお
いては、このスペクトロメータの容器内で測定すべき放
射線を吸収する残留ガスを捕えるように、吸着手段が作
製されかつ配置されることを特徴としている。
解決するために、本発明の紫外線スペクトロメータにお
いては、このスペクトロメータの容器内で測定すべき放
射線を吸収する残留ガスを捕えるように、吸着手段が作
製されかつ配置されることを特徴としている。
【００１０】さらに、気密容器内に配置されたスペクト
ロメータは、一定のガス圧で動作し、このガス圧は、外
部の気圧よりも約１０mbar高いのが好ましい。吸着手段
としての吸着部材は、容器内に発生して測定すべき放射
線を吸収する残留ガスを捕える目的で使用される。さら
に、上記吸着部材は、スペクトロメータの容器内に取り
入れられる。あるいは、これに代わる二者択一的な例と
して、ガス封入材が循環ポンプを介して循環し、かつ、
フロー吸着セル（ｆｌｏｗ−ｓｏｒｐｔｉｏｎｃｅｌ
ｌ）がポンプの循環路の中に組み込まれる。本発明にて
使用される吸着手段は、化学的な吸着，物理的な吸着ま
たは電気化学反応に基づくセルである。圧力計や電子制
御システムや電気的に作動するバルブや貯蔵容器を備え
た圧力調整システムを使用することにより、フラッシン
グ・ガス圧が、スペクトロメータの容器内において限ら
れた範囲内で一定に保たれる。このような構成にすれ
ば、スペクトロメータの調整の状態が、外部の気圧また
は温度変動により起こり得る圧力変化に影響されないよ
うにすることが可能となる。
ロメータは、一定のガス圧で動作し、このガス圧は、外
部の気圧よりも約１０mbar高いのが好ましい。吸着手段
としての吸着部材は、容器内に発生して測定すべき放射
線を吸収する残留ガスを捕える目的で使用される。さら
に、上記吸着部材は、スペクトロメータの容器内に取り
入れられる。あるいは、これに代わる二者択一的な例と
して、ガス封入材が循環ポンプを介して循環し、かつ、
フロー吸着セル（ｆｌｏｗ−ｓｏｒｐｔｉｏｎｃｅｌ
ｌ）がポンプの循環路の中に組み込まれる。本発明にて
使用される吸着手段は、化学的な吸着，物理的な吸着ま
たは電気化学反応に基づくセルである。圧力計や電子制
御システムや電気的に作動するバルブや貯蔵容器を備え
た圧力調整システムを使用することにより、フラッシン
グ・ガス圧が、スペクトロメータの容器内において限ら
れた範囲内で一定に保たれる。このような構成にすれ
ば、スペクトロメータの調整の状態が、外部の気圧また
は温度変動により起こり得る圧力変化に影響されないよ
うにすることが可能となる。
【００１１】スペクトロメータが動作している間は、こ
のスペクトロメータのすべての構成要素が大気圧になっ
ているので、ほんのわずかな量のガス抜きを行っても光
学要素を汚染する結果になる。一方、スペクトロメータ
容器内に余分の圧力が存在すれば、漏れによって周囲の
大気中の光学的吸収作用を行う成分が圧力調整システム
内に浸透するのを確実に防止することが可能となる。本
発明による圧力調整システムにおいては、例えば５０標
準リットル／年（Ｎｌ ｐｅｒ ａｎｎｕｍ）より少な
いガスの量がスペクトロメータの動作に対し適切である
ように、装置のガス消費量を非常に低い値に抑えること
ができる。それゆえに、本発明の装置は、フラッシング
・ガスの取り替えに関してはほぼ自律状態になっている
とみなされる。
のスペクトロメータのすべての構成要素が大気圧になっ
ているので、ほんのわずかな量のガス抜きを行っても光
学要素を汚染する結果になる。一方、スペクトロメータ
容器内に余分の圧力が存在すれば、漏れによって周囲の
大気中の光学的吸収作用を行う成分が圧力調整システム
内に浸透するのを確実に防止することが可能となる。本
発明による圧力調整システムにおいては、例えば５０標
準リットル／年（Ｎｌ ｐｅｒ ａｎｎｕｍ）より少な
いガスの量がスペクトロメータの動作に対し適切である
ように、装置のガス消費量を非常に低い値に抑えること
ができる。それゆえに、本発明の装置は、フラッシング
・ガスの取り替えに関してはほぼ自律状態になっている
とみなされる。
【００１２】浄化セル（フロー吸着セル）を介してフラ
ッシング・ガスを繰り返し通過させることにより、真空
容器の内側表面ならびにこの真空容器内に組み込まれた
要素に対し実質的なガス抜きが可能となる。この結果、
１８０nm以下の波長範囲においても最高の光学的透過が
達成される。
ッシング・ガスを繰り返し通過させることにより、真空
容器の内側表面ならびにこの真空容器内に組み込まれた
要素に対し実質的なガス抜きが可能となる。この結果、
１８０nm以下の波長範囲においても最高の光学的透過が
達成される。
【００１３】なお、本発明の有利な特徴はサブ・クレー
ムに記載されている。かくして、本発明では、フラッシ
ング・ガスの循環路内に浄化セル等の吸着手段を配置し
てスペクトル容器内の残留ガスを捕えるようにし、か
つ、圧力調整システムにより容器内のフラッシング・ガ
スの圧力を大気圧より高くして一定に保つようにしてい
るので、ガス消費量を最小限に抑えた状態で安定なスペ
クトル強度測定が可能な紫外線スペクトロメータおよび
その使用方法が提供される。
ムに記載されている。かくして、本発明では、フラッシ
ング・ガスの循環路内に浄化セル等の吸着手段を配置し
てスペクトル容器内の残留ガスを捕えるようにし、か
つ、圧力調整システムにより容器内のフラッシング・ガ
スの圧力を大気圧より高くして一定に保つようにしてい
るので、ガス消費量を最小限に抑えた状態で安定なスペ
クトル強度測定が可能な紫外線スペクトロメータおよび
その使用方法が提供される。
【００１４】
【実施例】図１は本発明の紫外線スペクトロメータの一
実施例を示すブロック図である。図１においては、紫外
線スペクトロメータとして紫外線ポリクロメータを使用
しており、かつ、上記スペクトロメータは、ガス圧調整
機能およびガス再封入機能を有している。
実施例を示すブロック図である。図１においては、紫外
線スペクトロメータとして紫外線ポリクロメータを使用
しており、かつ、上記スペクトロメータは、ガス圧調整
機能およびガス再封入機能を有している。
【００１５】ここでは、気密容器（スペクトロメータ容
器）７内に配置されると共に、入口パイプ１と、入口窓
として作用する結像レンズ２と、入口スリット３と、回
折格子４と、出口スリット５と、放射線受信部６とを具
備する光学システムが、循環ポンプ９としての薄膜ポン
プ（以下、薄膜ポンプ（ｍｅｍｂｒａｎｅｐｕｍｐ）９
と称する）を使用することによってガス・パイプ８を介
し開状態のフロー・バルブ１１ａより減圧される。浄化
セル１２は、フローバルブ１１ｂ，１１ｃを閉じること
により閉状態になる。フロー・バルブ１３もまた閉状態
になる。残留ガス圧が充分低い値に達してポンプがスイ
ッチ・オフの状態になったときに、バルブ１３が開いて
スペクトロメータ容器７が供給タンク１５からのガスで
充たされる。このスペクトロメータ容器７の排気そして
その後に封入を繰り返すことによって残留ガス成分の分
圧を低い値にすることが可能となる。
器）７内に配置されると共に、入口パイプ１と、入口窓
として作用する結像レンズ２と、入口スリット３と、回
折格子４と、出口スリット５と、放射線受信部６とを具
備する光学システムが、循環ポンプ９としての薄膜ポン
プ（以下、薄膜ポンプ（ｍｅｍｂｒａｎｅｐｕｍｐ）９
と称する）を使用することによってガス・パイプ８を介
し開状態のフロー・バルブ１１ａより減圧される。浄化
セル１２は、フローバルブ１１ｂ，１１ｃを閉じること
により閉状態になる。フロー・バルブ１３もまた閉状態
になる。残留ガス圧が充分低い値に達してポンプがスイ
ッチ・オフの状態になったときに、バルブ１３が開いて
スペクトロメータ容器７が供給タンク１５からのガスで
充たされる。このスペクトロメータ容器７の排気そして
その後に封入を繰り返すことによって残留ガス成分の分
圧を低い値にすることが可能となる。
【００１６】紫外線に対し透明なスペクトロメータ容器
内のフラッシング・ガスを、予め明確に定められた余分
な圧力に設定するために、バルブ１３を開いた後に、圧
力計２０を使用することにより、電子制御装置１９を介
して必要とされる圧力に達するまで圧力が測定される。
フラッシング・ガスが供給されているときは、このフラ
ッシング・ガスは薄膜ポンプ９により循環し、三方バル
ブ（逆転バルブともいう）１０の位置は浄化セル１２の
方向にある。スペクトロメータが動作している間は、脱
離した残留ガス成分が浄化セルにより除去されるよう
に、ポンプ９はスイッチ・オンのままでいる。浄化セル
１２として、例えば、シリカゲル支持体上に形成された
亜酸化銅や分子状のふるい形をした粒状の吸着剤が考え
られる。
内のフラッシング・ガスを、予め明確に定められた余分
な圧力に設定するために、バルブ１３を開いた後に、圧
力計２０を使用することにより、電子制御装置１９を介
して必要とされる圧力に達するまで圧力が測定される。
フラッシング・ガスが供給されているときは、このフラ
ッシング・ガスは薄膜ポンプ９により循環し、三方バル
ブ（逆転バルブともいう）１０の位置は浄化セル１２の
方向にある。スペクトロメータが動作している間は、脱
離した残留ガス成分が浄化セルにより除去されるよう
に、ポンプ９はスイッチ・オンのままでいる。浄化セル
１２として、例えば、シリカゲル支持体上に形成された
亜酸化銅や分子状のふるい形をした粒状の吸着剤が考え
られる。
【００１７】もし、装置（紫外線スペクトロメータ）内
の漏れによりガスが減損して圧力値が予め定められた必
要な値よりも低くなった場合は、バルブ１３を開くこと
により電子制御装置１９を介してガスが補充される。
の漏れによりガスが減損して圧力値が予め定められた必
要な値よりも低くなった場合は、バルブ１３を開くこと
により電子制御装置１９を介してガスが補充される。
【００１８】スペクトロメータ容器内の温度変化により
システム内の圧力が増加すれば、おそらくスペクトロメ
ータの調整の状態が変化するであろう。この場合は、圧
力が上がったときに３方バルブ１０を貯蔵タンク１７の
方向に開くことによって予め選定された上限以下の値に
スペクトロメータ容器内の圧力を保つようにしている。
上記の３方バルブの位置は、結果として生ずるガスの余
剰分が貯蔵タンクに排出されるまで保持される。その
後、３方バルブ１０の位置を切り換えることによってガ
ス循環動作への再切り換えがなされる。温度が下降した
ときは、既に述べたように、貯蔵タンクからのガスがバ
ルブ１３を介して装置内に入り込む。フロー抵抗１４に
より圧力変化の安定性が保証される。ここでは、上記の
ような方法によって装置内の漏れによるガスの減損を補
償することができるように、圧力調整バルブ１６を利用
して最小限の余分な圧力が貯蔵タンク１７内で常に維持
されるようにしている。このときに使用されるフラッシ
ング・ガスとしては、要求されるスペクトルの範囲によ
って窒素（Ｎ2 ），アルゴン（Ａｒ）またはヘリウム
（Ｈｅ）が考えられる。
システム内の圧力が増加すれば、おそらくスペクトロメ
ータの調整の状態が変化するであろう。この場合は、圧
力が上がったときに３方バルブ１０を貯蔵タンク１７の
方向に開くことによって予め選定された上限以下の値に
スペクトロメータ容器内の圧力を保つようにしている。
上記の３方バルブの位置は、結果として生ずるガスの余
剰分が貯蔵タンクに排出されるまで保持される。その
後、３方バルブ１０の位置を切り換えることによってガ
ス循環動作への再切り換えがなされる。温度が下降した
ときは、既に述べたように、貯蔵タンクからのガスがバ
ルブ１３を介して装置内に入り込む。フロー抵抗１４に
より圧力変化の安定性が保証される。ここでは、上記の
ような方法によって装置内の漏れによるガスの減損を補
償することができるように、圧力調整バルブ１６を利用
して最小限の余分な圧力が貯蔵タンク１７内で常に維持
されるようにしている。このときに使用されるフラッシ
ング・ガスとしては、要求されるスペクトルの範囲によ
って窒素（Ｎ2 ），アルゴン（Ａｒ）またはヘリウム
（Ｈｅ）が考えられる。
【００１９】スペクトロメータの特性の如何によって圧
力調整が要求されない場合は、図１に示す構成はより簡
略化される。この場合には、外側のガス循環路において
単に循環ポンプと浄化セル（浄化装置）とを配設するだ
けでよい。
力調整が要求されない場合は、図１に示す構成はより簡
略化される。この場合には、外側のガス循環路において
単に循環ポンプと浄化セル（浄化装置）とを配設するだ
けでよい。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、フ
ラッシング・ガスの循環路内に吸着手段を配置してスペ
クトロメータ容器内の残留ガスを捕えるようにし、電子
制御装置や逆転バルブ等を含む圧力調整システムにより
容器内のガス圧を一定に保つようにしているので、ガス
消費量を最小限にした状態で安定なスペクトル強度測定
が可能である。その上、簡単な装置構成により従来より
も保守が容易になりそのための費用が安くなる。
ラッシング・ガスの循環路内に吸着手段を配置してスペ
クトロメータ容器内の残留ガスを捕えるようにし、電子
制御装置や逆転バルブ等を含む圧力調整システムにより
容器内のガス圧を一定に保つようにしているので、ガス
消費量を最小限にした状態で安定なスペクトル強度測定
が可能である。その上、簡単な装置構成により従来より
も保守が容易になりそのための費用が安くなる。
【図１】本発明の紫外線スペクトロメータの一実施例を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
７…スペクトロメータ容器 ８…ガス管 ９…循環ポンプ １０…逆転バルブ １１ａ，１１ｂ，１１ｃ…フローバルブ １２…吸着手段 １３…バルブ １５…供給タンク １６…圧力調整バルブ １７…貯蔵タンク １９…電子制御装置 ２０…圧力計
Claims (9)
- 【請求項１】 １９０nm以下の波長範囲におけるスペク
トル強度を測定するための紫外線スペクトロメータであ
って、 光学窓を有すると共に、紫外線に対し透明なガスで充た
された気密性のスペクトロメータ容器（７）を備え、 スペクトロメータ容器内で測定すべき放射線を吸収する
残留ガスを捕えるように、吸着手段（１２）が作製され
かつ配置されることを特徴とする紫外線スペクトロメー
タ。 - 【請求項２】 前記スペクトロメータ容器（７）内にお
けるフラッシング・ガスの圧力を外部の大気圧よりも高
い値でもって一定に保つために、圧力調整システムが配
設される請求項１記載の紫外線スペクトロメータ。 - 【請求項３】 吸着部材が外部のガス循環路内に配置さ
れており、該ガス循環路を通して、前記スペクトロメー
タ容器（７）内に含まれるガスの量が循環ポンプ（９）
により絶え間なく循環しており、前記吸着部材が、存在
するすべての残留ガスを捕える請求項１または２記載の
紫外線スペクトロメータ。 - 【請求項４】 ガス循環路が前記圧力調整システムの一
部をなし、かつ、前記スペクトロメータ容器（７）内の
ガス圧が測定され、さらに、該測定されたガス圧の値に
応じて、前記循環ポンプ（９）の出口における逆転バル
ブ（１０）が貯蔵タンク（１７）の側に切り換わるか、
または該貯蔵タンク（１７）から他の制御可能な圧力調
整バルブ（１６）を介して前記ガス循環路にガスが供給
される請求項１または２記載の紫外線スペクトロメー
タ。 - 【請求項５】 圧力調整バルブ（１６）を介してガスの
供給タンク（１５）を前記貯蔵タンク（１７）に接続す
ることによって、現在生じているガスの減損が補償され
る請求項３記載の紫外線スペクトロメータ。 - 【請求項６】 残留ガスを捕えるための吸着手段がスペ
クトロメータ容器内に直接取り入れられる請求項１記載
の紫外線スペクトロメータ。 - 【請求項７】 電気化学的なガス消費セルが、残留ガス
を吸着するために配設される請求項１，２，３，４，５
または６記載の紫外線スペクトロメータ。 - 【請求項８】 前記の配設された循環ポンプ（９）が薄
膜ポンプである請求項１，２，３，４，５，６，７また
は８記載の紫外線スペクトロメータ。 - 【請求項９】 紫外線スペクトロメータを使用する方法
であって、前記循環ポンプ（９）により部分的な減圧排
気を繰り返して前記スペクトロメータ容器（７）のガス
抜きを行った後にフラッシング・ガスでもって前記スペ
クトロメータ容器（７）を充たし、さらに、吸着手段
（１２）により残留ガスを除去することによってガス封
入が遂行される請求項１，２，３，４，５，６，７また
は８記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4114276A DE4114276C2 (de) | 1991-05-02 | 1991-05-02 | Gasgefülltes UV-Spektrometer |
| DE41142764 | 1991-05-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05133806A true JPH05133806A (ja) | 1993-05-28 |
Family
ID=6430784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4111094A Pending JPH05133806A (ja) | 1991-05-02 | 1992-04-30 | 紫外線スペクトロメータおよびその使用方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5225681A (ja) |
| EP (1) | EP0512204A3 (ja) |
| JP (1) | JPH05133806A (ja) |
| DE (1) | DE4114276C2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007505301A (ja) * | 2003-09-09 | 2007-03-08 | サーモ フィッシャー サイエンティフィック インク | 真空紫外放射線検出装置および方法 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5506149A (en) * | 1995-03-03 | 1996-04-09 | Thermo Jarrell Ash Corporation | Spectroanalytical system and method |
| CA2179338C (en) * | 1995-08-07 | 2000-04-25 | Gordon Albert Thomas | Apparatus and method for spectroscopic product recognition and identification |
| DE19651677A1 (de) * | 1996-12-12 | 1998-06-18 | Spectro Analytical Instr | Optisches Emmissionsspektrometer mit steuerbarer Blende |
| DE10010514B4 (de) * | 1999-03-08 | 2004-09-30 | Steag Microparts Gmbh | Optoelektronisches Mikrospektrometer |
| KR100332802B1 (ko) * | 2000-02-07 | 2002-04-18 | 구자홍 | Ｕｖ 스펙트로미터를 이용한 플라즈마로 중합된 고분자막성능 평가 장치 |
| DE10138302A1 (de) * | 2001-08-10 | 2003-02-27 | Kendro Lab Prod Gmbh | Messvorrichtung zur Konzentrationsbestimmung von Gasen durch IR-Absorption |
| EP1423679A2 (de) * | 2001-09-25 | 2004-06-02 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Verfahren und vorrichtung zur unterdrückung von lichtabsorption, lichtstreuung und kontamination bei wellenlängen unterhalb von 200nm |
| IL158344A (en) | 2003-10-09 | 2011-06-30 | Nova Measuring Instr Ltd | System and method for optical measurements by UV vacuum |
| US7518380B2 (en) * | 2005-05-17 | 2009-04-14 | Honeywell International Inc. | Chemical impedance detectors for fluid analyzers |
| CZ305797B6 (cs) * | 2010-05-24 | 2016-03-16 | Labio A. S. | Zařízení pro měření spekter plynných látek nebo par v UV oblasti pod 190 nm v průtokovém uspořádání |
| WO2012033443A1 (en) * | 2010-09-06 | 2012-03-15 | Chromalytica Ab | Combination of spectrograph barrier gas, carrier gas and cooling of ccd |
| DE102017010766A1 (de) | 2017-11-21 | 2019-06-13 | OBLF Ges. für Elektronik u. Feinwerktechnik mbH | Transparenzkontrolle optischer Emissions-Spektrometer |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2063713A5 (ja) * | 1969-10-28 | 1971-07-09 | Instr Controle Ana | |
| US3796887A (en) * | 1972-05-17 | 1974-03-12 | Itt | Photometric analyzer |
| US4322165A (en) * | 1979-02-23 | 1982-03-30 | The Dow Chemical Company | VUV Plasma atomic emission spectroscopic instrument and method |
| US4319843A (en) * | 1980-02-25 | 1982-03-16 | Burleigh Instruments, Inc. | Interferometer apparatus for the direct measurement of wavelength and frequency |
| US4596462A (en) * | 1983-03-04 | 1986-06-24 | Beckman Instruments, Inc. | Spectrophotometer purge apparatus |
| JPS59197837A (ja) * | 1983-04-25 | 1984-11-09 | Japan Spectroscopic Co | 光学式同位体ガス分析装置 |
| JPS61195316A (ja) * | 1985-02-25 | 1986-08-29 | Shimadzu Corp | 分光光度計 |
| FI875236A (fi) * | 1987-11-27 | 1989-05-28 | Outokumpu Oy | Maetningsgivare foer baerbar analysator. |
| FI87694C (fi) * | 1989-07-07 | 1993-02-10 | Instrumentarium Oy | Avlaegsnande av gaser som stoer maetningar av en gasindikator |
-
1991
- 1991-05-02 DE DE4114276A patent/DE4114276C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-02-21 EP EP19920102917 patent/EP0512204A3/de not_active Ceased
- 1992-04-03 US US07/863,561 patent/US5225681A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-04-30 JP JP4111094A patent/JPH05133806A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007505301A (ja) * | 2003-09-09 | 2007-03-08 | サーモ フィッシャー サイエンティフィック インク | 真空紫外放射線検出装置および方法 |
| JP4758345B2 (ja) * | 2003-09-09 | 2011-08-24 | サーモ フィッシャー サイエンティフィック インク | 真空紫外放射線検出装置および方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4114276A1 (de) | 1992-11-05 |
| EP0512204A2 (de) | 1992-11-11 |
| DE4114276C2 (de) | 1996-09-19 |
| US5225681A (en) | 1993-07-06 |
| EP0512204A3 (en) | 1993-09-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH05133806A (ja) | 紫外線スペクトロメータおよびその使用方法 | |
| US5597535A (en) | Apparatus for detecting mercury | |
| Akimoto et al. | Design and characterization of the evacuable and bakable photochemical smog chamber | |
| US7612885B2 (en) | Spectroscopy method and apparatus for detecting low concentration gases | |
| JP5178527B2 (ja) | 向上した感度でウエハを検査するシステム及び方法 | |
| US20040093965A1 (en) | Accelerated weathering apparatus having sealed weathering chamber | |
| JP2003214958A (ja) | 波長検出装置、レーザ装置及び波長検出方法 | |
| CN101501817A (zh) | 用于从限定的环境去除污染的方法和装置 | |
| US20080073560A1 (en) | Contamination monitoring and control techniques for use with an optical metrology instrument | |
| JP2003228163A (ja) | 不活性ガス置換方法及び装置、露光装置、レチクル保管庫、レチクル検査装置、レチクル搬送ボックス、デバイスの製造方法 | |
| JP2004253683A (ja) | レジストアウトガス計測装置 | |
| TW201724307A (zh) | 用於測量基板的大氣傳輸和儲存之傳輸箱的汙染之方法及站 | |
| US20180088100A1 (en) | Analysis device | |
| WO2007126612A2 (en) | Contamination monitoring and control techniques for use with an optical metrology instrument | |
| JP4758345B2 (ja) | 真空紫外放射線検出装置および方法 | |
| JP2001041877A (ja) | 分光分析装置及びガス中の不純物の分析方法 | |
| RichardsonJr et al. | Evaluation of a system for generating quantitatively accurate vapor-phase infrared reference spectra | |
| JP7450033B2 (ja) | 発光分光分析の改善 | |
| US5804702A (en) | Process for reducing interfering signals in optical measurements of water vapor | |
| JPH05256803A (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| JP3807105B2 (ja) | 全有機炭素計 | |
| US7663747B2 (en) | Contamination monitoring and control techniques for use with an optical metrology instrument | |
| JP2001102290A (ja) | 露光方法及び装置 | |
| JP2003257826A (ja) | 光学装置及び露光装置 | |
| JPH10239223A (ja) | 珪素化合物ガス中のシロキサンの分析方法とその装置 |