JPH05256803A - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPH05256803A JPH05256803A JP5247092A JP5247092A JPH05256803A JP H05256803 A JPH05256803 A JP H05256803A JP 5247092 A JP5247092 A JP 5247092A JP 5247092 A JP5247092 A JP 5247092A JP H05256803 A JPH05256803 A JP H05256803A
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- Japan
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- ray
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- gas
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 蛍光Ｘ線分析装置において、分析チャンバ内
のＨeガスによる置換を短時間の内に効率的に行え、し
かも、蛍光Ｘ線の検出強度の時間変化の影響等も殆ど生
じないようにする。 【構成】 分析チャンバ２を照射室６と試料室８とに分
離する仕切壁４には、Ｘ線透過率の高い材料でできた隔
離膜２２がＸ線照射孔１８を密閉する状態で取り付けら
れている。
のＨeガスによる置換を短時間の内に効率的に行え、し
かも、蛍光Ｘ線の検出強度の時間変化の影響等も殆ど生
じないようにする。 【構成】 分析チャンバ２を照射室６と試料室８とに分
離する仕切壁４には、Ｘ線透過率の高い材料でできた隔
離膜２２がＸ線照射孔１８を密閉する状態で取り付けら
れている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は蛍光Ｘ線分析装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の蛍光Ｘ線分析装置としては、中空
の分析チャンバを有し、この分析チャンバ内が仕切壁に
よって一次Ｘ線照射用の照射室と試料装填用の試料室と
にそれぞれ分離されており、照射室内には一次Ｘ線発生
用のＸ線管および試料からの蛍光Ｘ線を分光する分光器
がそれぞれ臨んで配置される一方、仕切壁には、そのＸ
線管との対向位置にＸ線照射孔が形成されるとともに、
このＸ線照射孔を開閉するシャッタが配置された構成の
ものがある。
の分析チャンバを有し、この分析チャンバ内が仕切壁に
よって一次Ｘ線照射用の照射室と試料装填用の試料室と
にそれぞれ分離されており、照射室内には一次Ｘ線発生
用のＸ線管および試料からの蛍光Ｘ線を分光する分光器
がそれぞれ臨んで配置される一方、仕切壁には、そのＸ
線管との対向位置にＸ線照射孔が形成されるとともに、
このＸ線照射孔を開閉するシャッタが配置された構成の
ものがある。
【０００３】ところで、このような蛍光Ｘ線分析装置の
分析対象となる試料は、金属などの固体試料のみなら
ず、液体試料や粉体試料などもある。
分析対象となる試料は、金属などの固体試料のみなら
ず、液体試料や粉体試料などもある。
【０００４】固体試料を分析する場合には、空気中の酸
素等による蛍光Ｘ線の吸収減衰の影響を除くために、ま
ず、シャッタを閉じた状態で照射室を真空排気する一
方、固体試料を試料室内に装填した後、この試料室内を
予備排気する。そして、試料室の真空度が照射室のそれ
に近付くとシャッタを開き、次いで、Ｘ線管から一次Ｘ
線を固体試料に照射して分析を行う。
素等による蛍光Ｘ線の吸収減衰の影響を除くために、ま
ず、シャッタを閉じた状態で照射室を真空排気する一
方、固体試料を試料室内に装填した後、この試料室内を
予備排気する。そして、試料室の真空度が照射室のそれ
に近付くとシャッタを開き、次いで、Ｘ線管から一次Ｘ
線を固体試料に照射して分析を行う。
【０００５】ところが、液体試料等を分析する場合に
は、これらを試料容器に収めた状態で試料室内に装填し
た後、試料室を真空排気したり、あるいはシャッタを開
いたりすると、これらの試料が試料室や照射室内に飛散
して室内が汚染されるという不都合を生じる。したがっ
て、従来は、液体試料等を分析する際には、照射室およ
び試料室内を共に大気圧状態に保持するとともに、空気
中の酸素等による蛍光Ｘ線の吸収減衰の影響をできるだ
け低減するために、各室内の空気をＨeガスで置換する
ようにしている。
は、これらを試料容器に収めた状態で試料室内に装填し
た後、試料室を真空排気したり、あるいはシャッタを開
いたりすると、これらの試料が試料室や照射室内に飛散
して室内が汚染されるという不都合を生じる。したがっ
て、従来は、液体試料等を分析する際には、照射室およ
び試料室内を共に大気圧状態に保持するとともに、空気
中の酸素等による蛍光Ｘ線の吸収減衰の影響をできるだ
け低減するために、各室内の空気をＨeガスで置換する
ようにしている。
【０００６】すなわち、従来、液体試料等を分析する際
の具体的な手順として、まず、シャッタが閉じた状態で
照射室を真空排気した後にＨeガスを流し、照射室内を
短時間の内にＨeガスで満たす。このとき、照射室内は
大気圧となる。また、試料室については、液体試料等の
装填後は真空排気できないので、試料室内にＨeガスを
多量に流し、このＨeガスで試料室内に残存する空気を
押し出す。そして、所定時間が経過した後、シャッタを
開き、次いで、Ｘ線管から一次Ｘ線を試料に照射して分
析を行う。
の具体的な手順として、まず、シャッタが閉じた状態で
照射室を真空排気した後にＨeガスを流し、照射室内を
短時間の内にＨeガスで満たす。このとき、照射室内は
大気圧となる。また、試料室については、液体試料等の
装填後は真空排気できないので、試料室内にＨeガスを
多量に流し、このＨeガスで試料室内に残存する空気を
押し出す。そして、所定時間が経過した後、シャッタを
開き、次いで、Ｘ線管から一次Ｘ線を試料に照射して分
析を行う。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように、液体試料
等を分析する際には、試料室内にこれらの試料を装填し
た後、この試料室にＨeガスを多量に流して室内に残存
する空気を押し出すようにしているが、真空排気するも
のではないから、完全にＨeガスと置換するのは極めて
困難である。すなわち、空気をＨeガスで完全に置換さ
せようとすると、高価なＨeガスが多量に必要となるば
かりでなく、置換までの待機時間が長くなり、分析効率
が低下する。したがって、現状では、一定時間を確保
し、試料室内の空気が有る程度までＨeガスと置換され
た後にシャッタを開いているが、その際、試料室内に残
存していた空気が照射室内に拡散し、照射室内のＨeガ
スと混合する。それ以降も照射室と試料室とにＨeガス
を流し続ければ、空気は次第に外部に排出されることに
なるが、この場合も、残存空気をＨeガスと完全に置換
するには長時間を要するため、所定時間経過後に分析を
開始している。その結果、分析時間が経過するほど空気
濃度が低下して蛍光Ｘ線の吸収減衰の影響が少なくなる
ため、同じ元素を分析する場合にも、蛍光Ｘ線の検出強
度が時間経過とともに変化するといった不都合が生じて
いた。
等を分析する際には、試料室内にこれらの試料を装填し
た後、この試料室にＨeガスを多量に流して室内に残存
する空気を押し出すようにしているが、真空排気するも
のではないから、完全にＨeガスと置換するのは極めて
困難である。すなわち、空気をＨeガスで完全に置換さ
せようとすると、高価なＨeガスが多量に必要となるば
かりでなく、置換までの待機時間が長くなり、分析効率
が低下する。したがって、現状では、一定時間を確保
し、試料室内の空気が有る程度までＨeガスと置換され
た後にシャッタを開いているが、その際、試料室内に残
存していた空気が照射室内に拡散し、照射室内のＨeガ
スと混合する。それ以降も照射室と試料室とにＨeガス
を流し続ければ、空気は次第に外部に排出されることに
なるが、この場合も、残存空気をＨeガスと完全に置換
するには長時間を要するため、所定時間経過後に分析を
開始している。その結果、分析時間が経過するほど空気
濃度が低下して蛍光Ｘ線の吸収減衰の影響が少なくなる
ため、同じ元素を分析する場合にも、蛍光Ｘ線の検出強
度が時間経過とともに変化するといった不都合が生じて
いた。
【０００８】本発明は、このような問題を解決するため
になされたもので、分析チャンバ内のＨeガスによる置
換を短時間の内に効率的に行え、しかも、蛍光Ｘ線の検
出強度の時間変化の影響等も生じないようにすることを
課題とする。
になされたもので、分析チャンバ内のＨeガスによる置
換を短時間の内に効率的に行え、しかも、蛍光Ｘ線の検
出強度の時間変化の影響等も生じないようにすることを
課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した課題
を解決するために、中空の分析チャンバを有し、この分
析チャンバが仕切壁によって一次Ｘ線照射用の照射室と
試料装填用の試料室とにそれぞれ分離され、前記照射室
には一次Ｘ線発生用のＸ線管および試料からの蛍光Ｘ線
を分光する分光器が配置される一方、前記仕切壁には、
Ｘ線管からのＸ線出射方向に前記両室内を連通するＸ線
照射孔が形成されるとともに、このＸ線照射孔を開閉す
るシャッタが配置されている蛍光Ｘ線分析装置におい
て、次の構成を採る。
を解決するために、中空の分析チャンバを有し、この分
析チャンバが仕切壁によって一次Ｘ線照射用の照射室と
試料装填用の試料室とにそれぞれ分離され、前記照射室
には一次Ｘ線発生用のＸ線管および試料からの蛍光Ｘ線
を分光する分光器が配置される一方、前記仕切壁には、
Ｘ線管からのＸ線出射方向に前記両室内を連通するＸ線
照射孔が形成されるとともに、このＸ線照射孔を開閉す
るシャッタが配置されている蛍光Ｘ線分析装置におい
て、次の構成を採る。
【００１０】すなわち、本発明では、分析チャンバ内の
仕切壁に、Ｘ線透過率の高い材料でできた隔離膜が、前
記Ｘ線照射孔を密閉する状態で取り付けられていること
を特徴とするものである。
仕切壁に、Ｘ線透過率の高い材料でできた隔離膜が、前
記Ｘ線照射孔を密閉する状態で取り付けられていること
を特徴とするものである。
【００１１】
【作用】上記構成において、液体試料等を分析する場合
には、シャッタが閉じた状態で照射室を真空排気した後
にＨeガスを流し、照射室内をＨeガスで満たす一方、試
料室については、真空排気できないので、試料室内にＨ
eガスを多量に流し、このＨeガスで試料室内に残存する
空気を押し出す。そして、所定時間が経過した後にシャ
ッタを開くが、このとき、試料室内に若干残存している
空気は、仕切壁に設けられた隔離膜に遮られて照射室内
には拡散しない。したがって、照射室内はＨeガスのみ
で満たされた状態が維持される。しかも、試料室内にお
いて隔離膜と試料容器との間の空間はＨeガスの通路と
なるため、Ｈeガスの濃度が高くなる。このため、Ｘ線
管から一次Ｘ線を試料に照射して分析を行う場合でも、
蛍光Ｘ線の検出強度の経時変化は極めて低減されること
になる。
には、シャッタが閉じた状態で照射室を真空排気した後
にＨeガスを流し、照射室内をＨeガスで満たす一方、試
料室については、真空排気できないので、試料室内にＨ
eガスを多量に流し、このＨeガスで試料室内に残存する
空気を押し出す。そして、所定時間が経過した後にシャ
ッタを開くが、このとき、試料室内に若干残存している
空気は、仕切壁に設けられた隔離膜に遮られて照射室内
には拡散しない。したがって、照射室内はＨeガスのみ
で満たされた状態が維持される。しかも、試料室内にお
いて隔離膜と試料容器との間の空間はＨeガスの通路と
なるため、Ｈeガスの濃度が高くなる。このため、Ｘ線
管から一次Ｘ線を試料に照射して分析を行う場合でも、
蛍光Ｘ線の検出強度の経時変化は極めて低減されること
になる。
【００１２】
【実施例】図１は本発明の実施例に係る蛍光Ｘ線分析装
置の構成図である。
置の構成図である。
【００１３】この実施例の蛍光Ｘ線分析装置１は、中空
の分析チャンバ２を有し、この分析チャンバ２には仕切
壁４が設けられ、この仕切壁４によって分析チャンバ２
が試料sに一次Ｘ線を照射するための照射室６と試料sを
装填するための試料室８とにそれぞれ分離されている。
の分析チャンバ２を有し、この分析チャンバ２には仕切
壁４が設けられ、この仕切壁４によって分析チャンバ２
が試料sに一次Ｘ線を照射するための照射室６と試料sを
装填するための試料室８とにそれぞれ分離されている。
【００１４】そして、照射室６には、一次Ｘ線の発生用
のＸ線管１０および試料sからの蛍光Ｘ線を分光する分
光器１２がそれぞれ配置されるとともに、Ｈeガス導入
管１４および排気管１６が取り付けられている。
のＸ線管１０および試料sからの蛍光Ｘ線を分光する分
光器１２がそれぞれ配置されるとともに、Ｈeガス導入
管１４および排気管１６が取り付けられている。
【００１５】また、仕切壁４には、Ｘ線管１０からのＸ
線出射方向に両室６，８内を連通するＸ線照射孔１８が
形成されるとともに、このＸ線照射孔１８を開閉するシ
ャッタ２０が配置され、さらに、仕切壁４の照射室６側
には、Ｘ線透過率の高いポリプロピレン等の材料ででき
た隔離膜２２が、Ｘ線照射孔１８を密閉する状態で取り
付けられている。
線出射方向に両室６，８内を連通するＸ線照射孔１８が
形成されるとともに、このＸ線照射孔１８を開閉するシ
ャッタ２０が配置され、さらに、仕切壁４の照射室６側
には、Ｘ線透過率の高いポリプロピレン等の材料ででき
た隔離膜２２が、Ｘ線照射孔１８を密閉する状態で取り
付けられている。
【００１６】一方、試料室８には、その下部が下拡がり
状に開放されて試料挿入口２４が形成されるとともに、
この試料挿入口２４を開閉する蓋体２６が上下動可能に
設けられており、さらに、試料室８の側壁は、Ｈeガス
導入管２８および排気管３０が取り付けられている。そ
して、試料室８内には、蓋体２６の上に試料容器３２が
載置されている。
状に開放されて試料挿入口２４が形成されるとともに、
この試料挿入口２４を開閉する蓋体２６が上下動可能に
設けられており、さらに、試料室８の側壁は、Ｈeガス
導入管２８および排気管３０が取り付けられている。そ
して、試料室８内には、蓋体２６の上に試料容器３２が
載置されている。
【００１７】この試料容器３２は、液体の試料sを分析
するためのものであって、円筒状の外ケース３４を有
し、この外ケース３４は、その上端の開口部がポリエス
テル等でできた高分子薄膜３６で封止され、また、内部
にはテフロン等でできた筒状の内ケース３８が配置さ
れ、また、下部には底蓋４０がねじ止めされており、内
ケース３８内に試料sが充填されている。
するためのものであって、円筒状の外ケース３４を有
し、この外ケース３４は、その上端の開口部がポリエス
テル等でできた高分子薄膜３６で封止され、また、内部
にはテフロン等でできた筒状の内ケース３８が配置さ
れ、また、下部には底蓋４０がねじ止めされており、内
ケース３８内に試料sが充填されている。
【００１８】また、４２は照射室６と試料室８内をそれ
ぞれ真空引きするための真空ポンプ、４４a，４４bは各
排気管１６，３０を真空ポンプ４２側とチェック弁４５
a，４５b側とにそれぞれ切り換える三方弁、４６は真空
ポンプ４２と各三方弁４４a，４４bとの間に設けられた
一つの開閉弁、４８a，４８bはＨeガス導入管１４，２
８をそれぞれ開閉する開閉弁である。
ぞれ真空引きするための真空ポンプ、４４a，４４bは各
排気管１６，３０を真空ポンプ４２側とチェック弁４５
a，４５b側とにそれぞれ切り換える三方弁、４６は真空
ポンプ４２と各三方弁４４a，４４bとの間に設けられた
一つの開閉弁、４８a，４８bはＨeガス導入管１４，２
８をそれぞれ開閉する開閉弁である。
【００１９】上記構成において、液体試料sを分析する
場合には、次の手順を踏む。
場合には、次の手順を踏む。
【００２０】まず、照射室６および試料室８内が共に大
気圧で、しかも、試料室８内には試料sを容れる試料容
器３２が装填されていない状態で、シャッタ２０を開
き、次いで、排気管１６，３０が真空ポンプ４２に連通
されるように、三方弁４４a，４４bを切り換えるととも
に、開閉弁４６を開く。続いて、真空ポンプ４２を起動
して、両室６，８内の間に差圧が生じないように排気管
１６，３０を介して同時に真空排気する。
気圧で、しかも、試料室８内には試料sを容れる試料容
器３２が装填されていない状態で、シャッタ２０を開
き、次いで、排気管１６，３０が真空ポンプ４２に連通
されるように、三方弁４４a，４４bを切り換えるととも
に、開閉弁４６を開く。続いて、真空ポンプ４２を起動
して、両室６，８内の間に差圧が生じないように排気管
１６，３０を介して同時に真空排気する。
【００２１】両室６，８内が十分に真空排気された後、
真空ポンプ４２の開閉弁４６を閉じるとともに、三方弁
４４a，４４bをチェック弁４５a，４５b側に切り換え
る。次に、Ｈeガスの開閉弁４８a，４８bを開き、Ｈeガ
ス導入管１４，２８を通じてＨeガスを照射室６と試料
室８の内部にそれぞれ導入する。そして、両室６，８が
共に大気圧になってチェック弁４５a，４５bからＨeガ
スが流出するようになれば、シャッタ２０を閉じる。こ
の状態では、照射室６と試料室８が共にＨeガスで満た
されているのみならず、シャッタ２０と隔離膜２２との
間の空間部５０もＨeガスで満たされているため、この
空間部５０と照射室６内との間に気圧差は生じない。
真空ポンプ４２の開閉弁４６を閉じるとともに、三方弁
４４a，４４bをチェック弁４５a，４５b側に切り換え
る。次に、Ｈeガスの開閉弁４８a，４８bを開き、Ｈeガ
ス導入管１４，２８を通じてＨeガスを照射室６と試料
室８の内部にそれぞれ導入する。そして、両室６，８が
共に大気圧になってチェック弁４５a，４５bからＨeガ
スが流出するようになれば、シャッタ２０を閉じる。こ
の状態では、照射室６と試料室８が共にＨeガスで満た
されているのみならず、シャッタ２０と隔離膜２２との
間の空間部５０もＨeガスで満たされているため、この
空間部５０と照射室６内との間に気圧差は生じない。
【００２２】次いで、蓋体２６を除いて試料挿入口２４
を開放し、蓋体２６の上に液体試料sを収めた試料容器
３２を乗せた後、再び蓋体２６で試料挿入口２４を閉じ
る。この過程で、試料室８内に空気が入り混むが、Ｈe
ガス導入管２８を通じてＨeガスを試料室８内に継続し
て導入することにより、試料室８内に残存する空気がＨ
eガスと置換される。
を開放し、蓋体２６の上に液体試料sを収めた試料容器
３２を乗せた後、再び蓋体２６で試料挿入口２４を閉じ
る。この過程で、試料室８内に空気が入り混むが、Ｈe
ガス導入管２８を通じてＨeガスを試料室８内に継続し
て導入することにより、試料室８内に残存する空気がＨ
eガスと置換される。
【００２３】そして、所定時間が経過して試料室８内が
殆どＨeガスで置換された状態となれば、シャッタ２０
を開く。このとき、試料室８内に若干空気が残存してい
たとしても、この空気は、仕切壁４に設けられた隔離膜
２２に遮られて照射室６内には拡散しない。したがっ
て、照射室６はＨeガスのみで満たされた状態が維持さ
れる。しかも、試料室８内において隔離膜２２と試料容
器３２との間の隙間部分はＨeガスの通路となるため、
Ｈeガスの濃度が高くなる。
殆どＨeガスで置換された状態となれば、シャッタ２０
を開く。このとき、試料室８内に若干空気が残存してい
たとしても、この空気は、仕切壁４に設けられた隔離膜
２２に遮られて照射室６内には拡散しない。したがっ
て、照射室６はＨeガスのみで満たされた状態が維持さ
れる。しかも、試料室８内において隔離膜２２と試料容
器３２との間の隙間部分はＨeガスの通路となるため、
Ｈeガスの濃度が高くなる。
【００２４】したがって、次に、Ｘ線管１０から一次Ｘ
線を試料sに照射して分析を行う場合には、Ｘ線の通過
経路に空気が介在することが殆ど無くなるため、従来の
ように、蛍光Ｘ線の検出強度が経時変化する等の不具合
が生じなくなる。また、隔離膜２２は、Ｘ線透過率が高
いため、蛍光Ｘ線の検出感度に殆ど影響しない。
線を試料sに照射して分析を行う場合には、Ｘ線の通過
経路に空気が介在することが殆ど無くなるため、従来の
ように、蛍光Ｘ線の検出強度が経時変化する等の不具合
が生じなくなる。また、隔離膜２２は、Ｘ線透過率が高
いため、蛍光Ｘ線の検出感度に殆ど影響しない。
【００２５】分析終了後は、シャッタ２０を閉じた後、
蓋体２６とともに試料容器３２を試料挿入口２４から取
り出し、試料sを入れ換える。
蓋体２６とともに試料容器３２を試料挿入口２４から取
り出し、試料sを入れ換える。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、分析チャンバを照射室
と試料室とに分離する仕切壁に、Ｘ線透過率の高い材料
でできた隔離膜をＸ線照射孔を密閉する状態で取り付け
たので、試料室をＨeガスで置換した後にシャッタを開
いても、試料室内に若干残存している空気は、この隔離
膜に遮られて照射室内には拡散しなくなる。このため、
分析チャンバ内のＨeガスによる置換を短時間の内に効
率的に行え、しかも、蛍光Ｘ線の検出強度の時間変化の
影響等も殆ど生じないようになる。
と試料室とに分離する仕切壁に、Ｘ線透過率の高い材料
でできた隔離膜をＸ線照射孔を密閉する状態で取り付け
たので、試料室をＨeガスで置換した後にシャッタを開
いても、試料室内に若干残存している空気は、この隔離
膜に遮られて照射室内には拡散しなくなる。このため、
分析チャンバ内のＨeガスによる置換を短時間の内に効
率的に行え、しかも、蛍光Ｘ線の検出強度の時間変化の
影響等も殆ど生じないようになる。
【図１】本発明の実施例に係る蛍光Ｘ線分析装置の構成
図である。
図である。
１…蛍光Ｘ線分析装置、２…分析チャンバ、４…仕切
壁、６…照射室、８…試料室、１８…Ｘ線照射孔、２０
…シャッタ、２２…隔離膜。
壁、６…照射室、８…試料室、１８…Ｘ線照射孔、２０
…シャッタ、２２…隔離膜。
Claims (1)
- 【請求項１】 中空の分析チャンバを有し、この分析チ
ャンバが仕切壁によって一次Ｘ線照射用の照射室と、試
料装填用の試料室とにそれぞれ分離され、前記照射室に
は一次Ｘ線発生用のＸ線管および試料からの蛍光Ｘ線を
分光する分光器がそれぞれ配置される一方、前記仕切壁
には、Ｘ線管からのＸ線出射方向に前記両室内を連通す
るＸ線照射孔が形成されるとともに、このＸ線照射孔を
開閉するシャッタが配置されている蛍光Ｘ線分析装置に
おいて、 前記仕切壁には、Ｘ線透過率の高い材料でできた隔離膜
が、前記Ｘ線照射孔を密閉する状態で取り付けられてい
ることを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5247092A JPH05256803A (ja) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5247092A JPH05256803A (ja) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05256803A true JPH05256803A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=12915604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5247092A Pending JPH05256803A (ja) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05256803A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11132970A (ja) * | 1997-11-01 | 1999-05-21 | Horiba Ltd | 螢光ｘ線分析装置 |
| JP2001255289A (ja) * | 2000-03-08 | 2001-09-21 | Horiba Ltd | 液体試料セルおよびこれを用いた上面照射型ｘ線分析方法および装置 |
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