JP4743006B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

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本発明は、静電破壊防止装置を備えた半導体装置に関するものである。
図5に半導体装置の従来の一実施例の回路図を示す。1は定電流源、2はカレントミラー回路、3は出力電流のオン・オフを制御するスイッチングMOSトランジスタ、4は出力端子、5はカスコードトランジスタ、6は定電圧源、7は静電破壊防止装置である。通常動作時に出力端子4の電圧は高くなるため、静電破壊防止装置7は耐圧の高いバイポーラトランジスタで構成されている。
図5をもとに動作を説明する。定電流源1から供給される電流をカレントミラー回路2により増幅し、カスコードトランジスタ5を介して出力端子4に出力する。出力電流のオン・オフのスイッチング速度は出力端子4に静電破壊防止装置7を接続されているため、静電破壊防止装置の寄生容量への充放電時間の影響を受ける。
サージ電圧が出力端子4に印加された場合、一般的にバイポーラトランジスタよりMOSトランジスタはブレイクダウン電圧が低いため、スイッチングMOSトランジスタ3で静電破壊が起こる。
特開2003−218456号公報
上記従来の構成では出力端子にサージ電圧が印加された場合、内部回路の一つであるスイッチングMOSトランジスタで静電破壊が起こるという課題を有していた。
スイッチングMOSトランジスタの静電破壊を防止するために、安定して保護できるように拡散濃度や構造が同じであるMOSトランジスタを出力端子へ接続するということが考えられる。しかし、MOSトランジスタの耐圧は低いため、MOSトランジスタで静電破壊防止装置を構成すると、出力端子の電圧が静電破壊防止装置の耐圧よりも高くなった場合に静電破壊防止装置に電流が流入し、正常な動作が出来なくなるという課題を有していた。
スイッチングMOSトランジスタの静電破壊を防止するための方法として、トランジスタのサイズを大きくすることも考えられる。しかし、スイッチングMOSトランジスタのサイズを大きくすることは次に示すようにスイッチング特性に悪影響を及ぼす。出力電流がオフする時、スイッチングMOSトランジスタのゲート電圧はHi電圧からLow電圧へ変化し、寄生容量を介して、ドレイン電圧に伝わり電圧が下がる。ドレイン電圧が下がるとカレントミラー回路をバイポーラトランジスタで構成した場合、ベース・エミッタ間電圧が広がるため出力電流は増加する。出力電流がオンからオフへ遷移する直前に増加方向のスパイク電流が発生するため、スイッチング特性が悪くなる。このスパイク電流の量はスイッチングMOSトランジスタのゲートとドレインの寄生容量値に比例するため、トランジスタのサイズを大きくできないという課題を有していた。
また出力電流のオン・オフのスイッチングを行う場合、静電破壊防止装置の寄生容量の充放電が行われるため、高速に動作させることができないという課題を有していた。
本発明は上記課題を解決するものでサージ電圧による静電破壊を防止することができる、静電破壊防止装置に耐圧の低い素子でも用いることができる、且つ、出力端子が静電破壊防止装置の寄生容量の影響を受けないため、出力電流のスイッチングを高速に行うことができる半導体装置を提案することを目的とする。
上記目的を達成するために、静電破壊防止装置をカスコードトランジスタのエミッタへ接続する。またはカレントミラー回路の2次側トランジスタのエミッタへ接続する。
以上のように、本発明に係る半導体装置によれば、サージ電圧が出力端子に印加された場合、このサージ電圧に伴うサージ電荷はカスコードトランジスタを介し、またはカスコードトランジスタとカレントミラー回路の2次側トランジスタを介し、静電破壊防止装置により吸収される。これにより、スイッチングトランジスタの静電破壊を防止することができる。
また、静電破壊防止装置を出力端子に接続しないため、高耐圧の素子が必要でなく出力端子電圧よりも低い耐圧の素子を用いて静電破壊保護装置を実現することができる。
また、静電破壊防止装置の寄生容量の影響を出力端子が受けないため高速に出力電流のスイッチングを行うことができる。
以下、図面を参照して、本発明に係る半導体装置について説明する。
(第1の実施形態)
図1は本発明の第1の実施形態の半導体装置の構成を示す回路図である。1は定電流源、2はバイポーラトランジスタで構成されるカレントミラー回路、3は出力電流のオン・オフを制御するスイッチングMOSトランジスタ、4は出力端子、5はカスコードトランジスタ、6は定電圧源、7はMOSトランジスタで構成される静電破壊防止装置である。
図1をもとに動作を説明する。定電流源1から供給される電流をカレントミラー回路2により増幅し、カスコードトランジスタ5を介して出力端子4に出力する。出力端子4への電流のオン・オフの制御はスイッチングMOSトランジスタ3により行う。
サージ電圧が出力端子4に印加された場合、サージ電荷はカスコードトランジスタ5を介し、MOSトランジスタ7で構成された静電破壊防止装置により吸収される。これにより、スイッチングMOSトランジスタ3の静電破壊を防止することができる。
また、静電破壊防止装置7を出力端子4に接続していないため、静電破壊防止装置7の耐圧は出力端子4の電圧よりも低いMOSトランジスタを用いることができる。
また、静電破壊防止装置を静電破壊が起こっていたスイッチングトランジスタと拡散濃度や構造が同じであるMOSトランジスタを用いることで、安定に保護することができる。
また、この構成では出力端子4に静電破壊防止装置7を接続していないので、静電破壊防止装置の寄生容量の影響を出力端子が受けないため高速に出力電流のスイッチングを行うことができる。
(第2の実施形態)
図2は本発明の第2の実施形態の半導体装置の構成を示す回路図である。1は定電流源、2はMOSトランジスタで構成されるカレントミラー回路、3は出力電流のオン・オフを制御するスイッチングMOSトランジスタ、4は出力端子、5はカスコードトランジスタ、6は定電圧源、7はMOSトランジスタで構成される静電破壊防止装置である。
第2の実施形態は第1の実施形態のバイポーラトランジスタで構成していたカレントミラー回路2をMOSトランジスタにしたものである。
図2をもとに動作を説明する。定電流源1から供給される電流をカレントミラー回路2により増幅し、カスコードトランジスタ5を介して出力端子4に出力する。出力端子4への電流のオン・オフの制御はスイッチングMOSトランジスタ3により行う。
サージ電圧が出力端子4に印加された場合、サージ電荷はカスコードトランジスタ5を介し、MOSトランジスタで構成された静電破壊防止装置7により吸収される。これにより、スイッチングMOSトランジスタ3の静電破壊を防止することができる。
また、静電破壊防止装置7を出力端子4に接続していないため、静電破壊防止装置7の耐圧は出力端子4の電圧よりも低いMOSトランジスタを用いることができる。
また、静電破壊防止装置を静電破壊が起こっていたスイッチングトランジスタと拡散濃度や構造が同じであるMOSトランジスタを用いることで、安定に保護することができる。
また、この構成では出力端子4に静電破壊防止装置7を接続していないので、静電破壊防止装置の寄生容量の影響を出力端子が受けないため高速に出力電流のスイッチングを行うことができる。
(第3の実施形態)
図3は本発明の第3の実施形態の半導体装置の構成を示す回路図である。1は定電流源、2はバイポーラトランジスタで構成されるカレントミラー回路、3は出力電流のオン・オフを制御するスイッチングMOSトランジスタ、4は出力端子、5はカスコードトランジスタ、6は定電圧源、7はMOSトランジスタで構成される静電破壊防止装置である。第3の実施形態は第1の実施形態でカスコードトランジスタのエミッタに接続していた静電破壊防止装置7をカレントミラー回路2の2次側トランジスタとスイッチングトランジスタ3の間に接続したものである。
図3をもとに動作を説明する。定電流源1から供給される電流をカレントミラー回路2により増幅し、カスコードトランジスタ5を介して出力端子4に出力する。出力端子4への電流のオン・オフの制御はスイッチングMOSトランジスタ3により行う。
サージ電圧が出力端子4に印加された場合、サージ電荷はカスコードトランジスタ5、カレントミラー回路2の2次側トランジスタを介し、静電破壊防止装置7により吸収される。これにより、スイッチングMOSトランジスタ3の静電破壊を防止することができる。
また、静電破壊防止装置7を出力端子4に接続していないため、静電破壊防止装置7の耐圧は出力端子4の電圧よりも低いMOSトランジスタを用いることができる。
また、静電破壊防止装置を静電破壊が起こっていたスイッチングトランジスタと拡散濃度や構造が同じであるMOSトランジスタを用いることで、安定に保護することができる。
また、この構成では出力端子4に静電破壊防止装置7を接続していないので、静電破壊防止装置の寄生容量の影響を出力端子が受けないため高速に出力電流のスイッチングを行うことができる。
(第4の実施形態)
図4は本発明の第4の実施形態の半導体装置の構成を示す回路図である。1は定電流源、2はMOSトランジスタで構成されるカレントミラー回路、3は出力電流のオン・オフを制御するスイッチングMOSトランジスタ、4は出力端子、5はカスコードトランジスタ、6は定電圧源、7はMOSトランジスタで構成される静電破壊防止装置である。第4の実施形態は第3の実施形態のバイポーラトランジスタで構成していたカレントミラー回路2をMOSトランジスタにしたものである。
図4の動作は定電流源1から供給される電流をカレントミラー回路2により増幅し、カスコードトランジスタ5を介して出力端子4に出力する。出力端子4への電流のオン・オフの制御はスイッチングMOSトランジスタ3により行う。
サージ電圧が出力端子4に印加された場合、サージ電荷はカスコードトランジスタ5、カレントミラー回路2の2次側トランジスタを介し、静電破壊防止装置7により吸収される。これにより、スイッチングMOSトランジスタ3の静電破壊を防止することができる。
また、静電破壊防止装置7を出力端子4に接続していないため、静電破壊防止装置7の耐圧は出力端子4の電圧よりも低いMOSトランジスタを用いることができる。
また、静電破壊防止装置に静電破壊が起こっていたスイッチングトランジスタと拡散濃度や構造が同じであるMOSトランジスタを用いることで、安定に保護することができる。
また、この構成では出力端子4に静電破壊防止装置7を接続していないので、静電破壊防止装置の寄生容量の影響を出力端子が受けないため高速に出力電流のスイッチングを行うことができる。
以上のように、静電破壊を防止する半導体装置において有用である。
本発明の第1の実施形態に係る半導体装置の構成を示す回路図 本発明の第2の実施形態に係る半導体装置の構成を示す回路図 本発明の第3の実施形態に係る半導体装置の構成を示す回路図 本発明の第4の実施形態に係る半導体装置の構成を示す回路図 第1の従来の半導体装置の構成を示す回路図
符号の説明
1 定電流源
2 カレントミラー回路
3 スイッチングMOSトランジスタ
4 出力端子
5 カスコードトランジスタ
6 定電圧源
7 静電破壊防止装置

Claims (9)

  1. 出力端子と、
    前記出力端子に接続されたカスコードトランジスタと、
    電流源と、
    前記電流源からの電流を流す第1トランジスタと、
    前記第1トランジスタとでカレントミラーを構成する第2トランジスタを少なくとも含み、前記カスコードトランジスタとGND間に挿入された静電破壊保護対象回路素子群と、
    前記静電破壊保護対象回路素子群中の回路素子と、前記カスコードトランジスタ間との配線上のノードに接続された静電破壊防止回路と、
    を有する半導体集積回路。
  2. 出力端子と、
    前記出力端子と一端が接続されたカスコードトランジスタと、
    前記カスコードトランジスタの他端からGNDまでの配線中に挿入された静電破壊保護対象回路素子と、
    前記カスコードトランジスタから前記静電破壊保護対象回路素子への配線上のノードに接続された静電破壊防止回路と、
    を有する半導体集積回路。
  3. トランジスタの第1の端子に固定電圧が与えられトランジスタの第2の端子が出力端子に接続された出力トランジスタと、
    前記出力トランジスタの第3の端子とGND間に設けられたスイッチングMOSトランジスタと、
    前記出力トランジスタの第3の端子と前記スイッチングMOSトランジスタとを接続する配線に一端が接続されて他端が前記GNDに接続された静電破壊防止回路とを備え、
    前記出力トランジスタと前記スイッチングMOSトランジスタと前記静電破壊防止回路とを集積化した半導体集積回路
  4. 前記スイッチングMOSトランジスタが、ソースを前記GNDに接続し、ドレインを前記トランジスタの第3の端子に接続し、ゲートに信号を供給してスイッチング動作させたことを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路
  5. 前記静電破壊防止回路が、ソース及びゲートを前記GNDに接続し、ドレインを前記出力トランジスタの第3の端子と前記スイッチングMOSトランジスタの共通接続部に接続したMOSトランジスタを備えたことを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路
  6. 前記MOSトランジスタと前記静電破壊防止回路とを同じ構造のMOSトランジスタとで構成したことを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路
  7. 前記出力トランジスタの第3の端子と前記スイッチングMOSトランジスタ間にバイポーラトランジスタを挿入接続して、このバイポーラトランジスタのコレクタを前記出力バイポーラトランジスタのエミッタに接続し、エミッタを前記スイッチングトランジスタに接続し、前記静電破壊防止回路をこのバイポーラトランジスタのエミッタと前記スイッチングトランジスタとの共通接続部に接続したことを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路
  8. 前記出力トランジスタの第3の端子と前記スイッチングMOSトランジスタ間にMOSトランジスタを挿入接続して、このMOSトランジスタのドレインを前記出力トランジスタの第3の端子に接続し、ソースを前記スイッチングトランジスタに接続し、前記静電破壊防止回路をこのMOSトランジスタのソースと前記スイッチングトランジスタとの共通接続部に接続したことを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路
  9. 前記静電破壊防止回路が、ソース及びゲートを前記GNDに接続し、ドレインを前記出力トランジスタの第3の端子と前記スイッチングMOSトランジスタの共通接続部に接続したMOSトランジスタを備えたことを特徴とする請求項7または8に記載の半導体集積回路
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JP2565076B2 (ja) * 1993-03-31 1996-12-18 日本電気株式会社 半導体装置
JP2783241B2 (ja) * 1996-02-20 1998-08-06 日本電気株式会社 発光素子駆動回路
JP4212767B2 (ja) * 2000-12-21 2009-01-21 旭化成エレクトロニクス株式会社 高速電流スイッチ回路および高周波電流源
JP2004039748A (ja) * 2002-07-01 2004-02-05 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体レーザ駆動回路
JP2003318276A (ja) * 2003-04-24 2003-11-07 Rohm Co Ltd 半導体集積回路装置

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