JP4732643B2 - カルボン酸ジアリールエステルの製造法 - Google Patents

カルボン酸ジアリールエステルの製造法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、不活性溶媒中、アルカリおよび窒素塩基の存在下でモノフェノールおよびホスゲンを界面法において低い反応温度で反応させることによる、カルボン酸ジアリールエステルの製造方法に関する。
【0002】
【発明の要旨】
カルボン酸ジアリールエステルを製造するための界面境界法の改良点を開示している。不活性溶媒中、アルカリ存在下および窒素塩基触媒の存在下でのホスゲンおよびモノフェノールの反応を伴う2段階法における改良点は、第1および第2段階において温度を50℃以下に保持することを包含する。
【0003】
【発明の背景】
相界面法によるカルボン酸ジアリールエステルの製造は、基本的に文献公知である(ケイミストリー・アンド・フィジックス・オブ・ポリカーボネーツ、ポリマー・レヴューズ、エイチ・シュネル著、第9巻、ジョン・ワイリー・アンドサンズ・インコーポレイテッド(1964年)、50/51頁を参照)。米国特許第4016190号公報に記載のカルボン酸ジアリールエステルの製造方法は、65℃を超える温度で行われ、かつ触媒として窒素塩基が使用されている。
【0004】
アリールジアルキルウレタンは、通常、以下の反応スキームに従って前記相界面法を行うと、触媒として用いられる第3級アミンとホスゲンとの反応によってカルバミン酸クロライドを形成した後、それをフェノールと反応させてウレタンを形成する反応(1)あるいはフェノールとホスゲンからのアリールクロロカルボン酸エステルと第3級アミンとの反応(2)のいずれかに起因して、副生成物として形成される。
【0005】
【化1】
Figure 0004732643
(上記スキーム中、Rは、後述する式(1)の基を表し、そしてR'、R''およびR'''は、一般には有機基を表す。)
【0006】
前記アリールジアルキルウレタン化合物は、特にカルボン酸ジフェニルエステルサイクルでは、ポリカーボネートへの溶融エステル交換プロセスを妨げて濃厚化する。そのため、このアリールジアルキルウレタンの形成を抑制して、それをカルボン酸ジアリールエステルから除去することが特に重要である。
【0007】
しかしながら、溶媒中で触媒として窒素塩基を用いるモノフェノールとホスゲンをベースとする先行技術の記載から公知の前記方法は、得られる生成物の純度、特に生成物の塩素含量およびウレタン含量に関して満足な結果が得られない。このため、このような方法で得られる生成物は、更に別の精製プロセスに付されなければならない。
【0008】
従って、先行技術の記載を起点とする、本発明の目的は、塩素含量が少なく、特に副生成物が少なく、とりわけウレタン含量の少ないカルボン酸ジアリールエステルの製造方法を提供することであった。
【0009】
ここで、驚くべきことに、不活性溶媒中、アルカリ存在下でかつ同時に窒素系触媒を用いて相界面法によりモノフェノールとホスゲンを反応させてカルボン酸ジアリールエステルを製造するときには、高い生成物純度のカルボン酸ジアリールエステルを得るためおよび前記の副反応を回避するために、低い反応温度が必要であることが分かった。
【0010】
本発明の方法で使用される触媒は、第3級アミン、N-アルキルピペリジンまたはオニウム塩である。トリブチルアミン、トリエチルアミンおよびN-エチルピペリジンが好ましく使用される。N-エチルピペリジンが特に好ましい。このような触媒の濃度は、使用されるフェノールに対して0.0001モル%〜0.1モル%、好ましくは0.01モル%〜0.075モル%である。
【0011】
本発明において、好適なアルカリは、アルカリ液(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム)、好ましくは水酸ナトリウム溶液を包含し、そして好ましくは20〜55重量%溶液、特に好ましくは30〜50重量%溶液として使用される。
【0012】
ホスゲンは、液体、気体、または不活性溶媒に溶解した形態で使用され得る。
【0013】
本発明の方法での使用に適したモノフェノールは、下記の式(I)のフェノール類:
【化2】
Figure 0004732643
(式中、Rは、水素、tert-ブチル、ハロゲンまたは分岐もしくは非分岐のCおよび/またはCアルキル基である。)
を包含することから、フェノールそのものや、クレゾール、p-tert-ブチルフェノール、p-クミルフェノール、p-n-オクチルフェノール、p-イソオクチルフェノール、p-ノニルフェノールおよびp-イソノニルフェノールのようなアルキルフェノール、そしてp-クロロフェノール、2,4-ジクロロフェノール、p-ブロモフェノールおよび2,4,6-トリブロモフェノールのようなハロゲン化フェノールが使用できる。フェノールが好ましい。
【0014】
不活性な有機溶媒、例えばジクロロメタン、トルエン、種々のジクロロエタンおよびクロロプロパン化合物、クロロベンゼンおよびクロロトルエンが、本発明の方法において使用できる。ジクロロメタンが好ましく使用される。
【0015】
反応は、不連続的(バッチ方式)および連続的のどちらでも、好ましくは連続的に行われてよく、そして好ましくは、栓流中ではあまりバックミキシングを生じさせないで行われる。これは、例えば、管状反応器内で行ってよい。2つの相(水相および有機相)は、隔膜備品、静的ミキサーおよび/またはポンプにより、完全に混合され得る。
【0016】
前記反応は、ホスゲンと、好ましくはホスゲン用溶媒としてのみ供給される不活性溶媒と、好ましくは予めアルカリ液中に溶解したフェノールとを混合することによって開始される。一般には、本発明の方法の第1段階のpHは、アルカリ液/フェノール/ホスゲンの比率によって、pHが11.0〜12.0の範囲、好ましくは11.2〜11.8となるように好ましく調整される。反応温度は、冷却することにより50℃未満、好ましくは40℃未満、特に好ましくは35℃未満に保持される。第1段階における滞留時間は、本発明の方法を連続的に行う場合は、2秒〜300秒の範囲内、好ましくは4秒〜200秒の範囲内である。
【0017】
本発明の方法の第2段階では、前記反応が完了して、カルボン酸ジアリールエステルが形成される。触媒は、好ましくはこの段階で供給される。本発明の方法では、反応混合物は、触媒の添加直後または添加中、冷却される。反応温度は、冷却により50℃未満、好ましくは40℃未満、特に好ましくは35℃未満に保持される。触媒は、本発明の第2段階の複数の時点で、好ましくは2回で添加することが有利である。
【0018】
本発明の方法では、得られるカルボン酸ジアリールエステル中のクロロ蟻酸アリールエステル含量は、2ppm未満、好ましくは0.5ppm未満である。
【0019】
本発明の方法により得られるカルボン酸ジアリールエステル中のアリールピペリジルウレタン含量は、100ppm未満、好ましくは75ppm未満、特に好ましくは50ppm未満である。
【0020】
本発明の第2段階におけるpHは、pHを測定し(好ましくは連続法においてオンラインで測定される)、そしてアルカリ液を添加することでpHを相応して調節することにより、好ましく制御される。供給されるアルカリ液の量は、本発明の方法の第2段階におけるpHが7.5〜10.5、好ましくは8〜9の範囲となるように調節される。
【0021】
本発明の方法では、ホスゲンは、フェノールに対して1.01〜1.15モル%、好ましくは1.05〜1.12モル%の比率で供給される。溶媒は、カルボン酸ジフェニルエステルが、反応後、5〜60%溶液、好ましくは20〜45%溶液中に存在するように添加される。
【0022】
反応後、カルボン酸ジアリールエステルを含有する有機相は、通常、水性液体で洗浄され、洗浄手順毎に水相からできる限り分離される。洗浄は、好ましくは、脱イオン水を用いて行われる。カルボン酸ジアリールエステル溶液は、通常、洗浄および洗浄液の分離後には濁っている。水性液体、例えば、塩酸またはリン酸などの希釈した無機酸を使用して触媒を分離し、そして更なる精製には、完全に脱イオン化した水を使用する。洗浄液中の塩酸またはリン酸の濃度は、例えば、0.5〜1.0重量%であってよい。有機相は、例えば2回、好ましく洗浄される。
【0023】
基本的に公知の分離容器、相分離器、遠心機またはコアレッサー、またはそれら装置の組み合わせが、有機相からの洗浄液の分離のための相分離装置として使用される。
【0024】
溶媒を蒸発すると、高純度のカルボン酸ジアリールエステルが得られる。蒸発は、複数段の蒸発器において行われてよい。蒸発は、例えば、溶媒をカルボン酸ジアリールエステルから分離するのに1個以上の連続した蒸留カラムを介して行われる。
【0025】
この精製段階は、例えば、蒸留中の排水溜め温度が150℃を超え310℃まで、好ましくは160℃を超え230℃までであるように連続して行われてよい。この蒸留プロセスを行うのに必要な圧力は、1〜1000mbar(1×10〜1×10Pa)、好ましくは5〜100mbar(5×10〜1×10Pa)の間である。
【0026】
得られるカルボン酸ジエステルは、ガスクロマトグラフィー(GC、カラム上冷却法)純度により99.99%超、好ましくは99.9925%超、特に好ましくは99.995%超の非常に高い純度と、極めて良好なエステル交換特性を特徴とすることから、このカルボン酸ジエステルから、優れた品質のポリカーボネートが製造できる。
【0027】
溶融エステル交換法による芳香族オリゴ-/ポリ-カーボネートの製造は、文献から公知であり、例えば、エンサイクロペディア・オブ・ポリマー・サイエンス、第10巻(1969年)や、ケミストリー・アンド・フィジックス・オブ・ポリカーボネーツ、ポリマー・レヴュー、エイチシュネル著、第9巻、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド(1964年)、あるいは米国特許第5340905号公報にも開示されている。
【0028】
【実施例】
実施例1
毎時117kgの完全に脱イオン化した水と毎時48kgの50%NaOHおよび毎時54.9kgのフェノールとの混合物を、毎時98kgの塩化メチレンおよび毎時31.2kgのホスゲン(フェノールに対して8モル%過剰)の溶液と冷却した管状反応器内で連続して混合する。平均滞留時間15秒後、本発明の方法の第2段階において、毎時6.5kgの50%NaOHをこの反応混合物にしかるべく添加し、その直後に、触媒であるN-エチルピペリジンを毎時1.1kg(塩化メチレン中、0.9%)で添加して、反応混合物を即座に30℃まで冷却する。次いで、反応混合物を、圧縮したパイプを通して定期的に続いて混合する。その後、有機相を水相から分離する。0.6%塩酸と水による洗浄および最終的な相分離の後、塩化メチレンを蒸発すると、99.996%(GC法、カラム上冷却法)のジフェニルカーボネートが得られる。フェニルピペリジルウレタン含量は、40ppmであり、クロロ蟻酸フェニルエステル含量は、0.5ppm未満である。
【0029】
比較例1
触媒の添加後に反応温度を下げないため、温度が55℃であること以外は、実施例1の手順と同様である。0.6%塩酸と水による洗浄および最終的な分離の後で、塩化メチレンを蒸発すると、99.97%(GC法、カラム上冷却法)のジフェニルカーボネートが得られる。フェニルピペリジルウレタン含量は、300ppmであり、クロロ蟻酸フェニルエステル含量は、0.1ppm未満である。
【0030】
実施例2
15秒後に毎時0.55kgのN-エチルピペリジン(塩化メチレン中、0.9%)を添加して、反応溶液を即座に30℃まで冷却し、そして1分の滞留時間後、反応混合物を圧縮したパイプを通して定期的に続いて混合した時点で更に毎時0.55kgのN-エチルピペリジン(塩化メチレン中、0.9%)を添加すること以外は、実施例1の手順と同様である。その後、混合物を再度30℃まで冷却する。次いで、有機相を水相から分離する。0.6%塩酸と水による洗浄および最終的な分離の後で、塩化メチレンを蒸発すると、99.998%(GC法、カラム上冷却法)のジフェニルカーボネートが得られる。フェニルピペリジルウレタン含量は、20ppmであり、クロロ蟻酸フェニルエステル含量は、0.5ppm未満である。
【0031】
例示目的のために本発明を前述の通り詳細に記載したが、このような詳細は、単に前記目的のためだけであって、クレームによって限定されること以外は、本発明の精神および範囲から逸脱することなく当業者によって変更できるものと理解されるべきである。

Claims (1)

  1. 不活性溶媒中、アルカリ溶液および窒素塩基触媒の存在下でホスゲンおよびモノフェノールからカルボン酸ジアリールエステルを製造するための界面境界法であって、ホスゲン、不活性溶媒およびアルカリ溶液中のモノフェノールを混合して、pH11.0〜12.0の材料系を形成する第1段階と、カルボン酸ジアリールエステルを形成するための反応を完了させる第2段階とを含み、第1段階における滞留時間が4〜200秒であり、窒素塩基触媒が第2段階だけで供給され、第1および第2段階において温度を50℃未満に保持することを特徴とする、カルボン酸ジアリールエステルを製造するための界面境界法。
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