JP4697584B2 - 回折光学素子及び回折光学素子の製造方法 - Google Patents

回折光学素子及び回折光学素子の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4697584B2
JP4697584B2 JP2005062710A JP2005062710A JP4697584B2 JP 4697584 B2 JP4697584 B2 JP 4697584B2 JP 2005062710 A JP2005062710 A JP 2005062710A JP 2005062710 A JP2005062710 A JP 2005062710A JP 4697584 B2 JP4697584 B2 JP 4697584B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diffractive optical
diffraction grating
optical element
ultraviolet
curable resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2005062710A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005316414A (ja
Inventor
一政 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2005062710A priority Critical patent/JP4697584B2/ja
Priority to US11/091,412 priority patent/US7256939B2/en
Priority to CNB2005100625136A priority patent/CN100420968C/zh
Priority to AT05251964T priority patent/ATE398782T1/de
Priority to DE602005007530T priority patent/DE602005007530D1/de
Priority to EP05251964A priority patent/EP1584956B1/en
Publication of JP2005316414A publication Critical patent/JP2005316414A/ja
Priority to US11/590,849 priority patent/US7286293B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4697584B2 publication Critical patent/JP4697584B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1847Manufacturing methods
    • G02B5/1852Manufacturing methods using mechanical means, e.g. ruling with diamond tool, moulding
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00Optical: systems and elements
    • Y10S359/90Methods

Description

本発明は、回折光学素子及びその製造方法に関し、より詳しくは、写真用光学系、双眼鏡、望遠鏡、顕微鏡等で用いる複数の波長あるいは帯域で使用する回折光学素子及びその製造方法に関する。
従来、光学系の色収差を低減させる方法の一つとして、レンズ面やあるいは光学系のレンズ面以外の部分に回折作用を有する回折光学素子を設ける方法が知られている。
回折光学素子は、微小間隔(約1mm)当たり数百本程度の細い等間隔のスリット状もしくは溝状の格子構造を備えて作られた光学素子であり、光が入射されるとスリットや溝のピッチ(間隔)と光の波長とで定まる方向に回折光束を生じさせる性質を有している。このような回折光学素子は種々の光学系に用いられており、例えば、色収差を低減させるため、特定次数の回折光を一点に集めてレンズとして使用するものなどが知られている。
このような回折光学素子においては、近年、複層型と呼ばれる回折光学素子が提案されている。このタイプの回折光学素子は、鋸歯状に形成された面を持つ複数の回折素子要素を積み重ねてなるものであり、所望の波長領域(例えば、可視光領域)のほぼ全域で高い回折効率が保たれる、すなわち波長特性が良好であるという特徴を有している。
一般に、複層型の回折光学素子として、例えば、互いに異なる材料である2種類の回折光学素子要素から構成され、同一の回折格子溝で密着している、いわゆる密着複層型の回折光学素子が知られている(例えば、特許文献1を参照)。
特開平9−127321号公報
上記のような密着複層型の回折光学素子を製造方法のひとつとして、転写性及び量産性に優れた、レプリカ成形がある。レプリカ成形は、基板上に滴下した光硬化樹脂に、所望の回折光学溝の反転形状を有する金型を押し当て、光源からの光を照射して硬化させ、基板及び金型を取り外して、光学素子の成形を行う技術である。
このようなレプリカ成形技術を用いて密着複層型の回折光学素子を製造する場合は、例えば、該回折光学素子を構成する材料として互いに異なる第1の紫外線硬化樹脂及び第2の紫外線硬化樹脂を用意し、まず、基板上に滴下した第1の紫外線硬化樹脂に、所望の回折光学溝の反転形状を有する金型を押し当て、紫外線を照射して硬化させ、金型を取り外して、第1の回折光学素子要素の成形を行う。続いて、第1の回折光学素子要素の回折格子溝が形成された面上に第2の紫外線硬化樹脂を滴下する。そして、この滴下した第2の紫外線硬化樹脂に、面形成用の金型を押し当て、紫外線を照射して硬化させ、面形成用の金型を取り外して、第2の回折光学素子要素の成形を行い、第1の紫外線硬化樹脂と第2の紫外線硬化樹脂とが同一の回折格子溝で密着接合した回折光学素子が完成する。
ところで、上記のレプリカ成形技術を用いた製造方法では、第2の紫外線硬化樹脂を硬化させるための紫外線照射を、第1の紫外線硬化樹脂側から行っている。一般に、紫外線硬化樹脂など光によって硬化させる樹脂は光の内部透過率が低いため、光硬化樹脂の厚さが厚い部分は透過率が低くなってしまう。特に、その傾向は短波長領域において顕著である。
このため、上記のように、第2の紫外線硬化樹脂への紫外線照射を第1の紫外線硬化樹脂を通して行うと、第1の紫外線硬化樹脂の表面に形成された回折格子溝の凹凸により、第2の紫外線硬化樹脂の層内部に光強度の傾斜を生じて、硬化収縮量の差を招き、該第2の紫外線硬化樹脂の表面に微小な凹凸、いわゆる浮きが発生する。この微小な凹凸である浮きは、回折格子溝の凹凸に起因しているために周期性を有し、ある程度の回折格子としての作用を持つ。これにより、レプリカ成形技術を用いて製作された回折光学素子では、本来の第1と第2の紫外線硬化樹脂層の境界面以外に、第2の紫外線硬化樹脂の表面にも回折格子を有することになり、所望の光学性能とはかけ離れたものになるという問題があった。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、構成材料の内部透過率及び境界面に形成された回折格子溝に起因する成形誤差(浮き)を軽減し、成形品の転写性を向上させることができる回折光学素子及び回折光学素子の製造方法を提供することを目的とする。
このような目的を達成するため、本発明の回折光学素子は、紫外線を透過させる材料から作られるとともに表面に回折格子溝を有する第1の要素と、前記紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂材料から作られ、前記第1の要素の前記回折格子溝に密着接合して設けられた第2の要素とを有し、前記第1の要素における前記回折格子溝が形成された表面に、液状の前記紫外線硬化樹脂材料を設け、前記第1の要素を通して前記紫外線硬化樹脂材料に前記紫外線を照射して硬化させて前記第2の要素を前記第1の要素に密着接合させて作られる回折光学素子であって、前記回折格子溝の高さをH(単位:μm)とし、前記紫外線の波長における、前記第1の要素の10mm当たりの内部透過率をT1、前記第2の要素の10mm当たりの内部透過率をT2としたとき、式 0.990≦(T2/T1)(H/10000)≦1.010 の条件を満足することを特徴とする。
また、前記第1の要素を通して前記第2の要素を硬化させる前記光が紫外線であることが好ましく、さらに、この紫外線はi線であることが好ましい。
なお、前記第1の要素が紫外線硬化樹脂製であることが好ましい。
本発明の回折光学素子の製造方法は、紫外線を透過させる材料から作られる第1の要素に、前記材料が液体の状態で回折格子溝の反転形状が形成された型を押しつけて表面に前記回折格子溝を形成する工程と、前記型を押しつけて表面に前記回折格子溝を形成した状態の前記第1の要素を硬化させる工程と、硬化された前記第1の要素を前記型から取り外す工程と、前記第1の要素における前記回折格子溝が形成された表面に、前記紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂材料を溶融状態で設ける工程と、前記第1の要素を介して前記紫外線硬化樹脂材料に前記紫外線を照射して硬化させ、前記第1の要素の前記回折格子溝に密着接合した第2の要素を作る工程とを有し、前記回折格子溝の高さをH(単位:μm)とし、前記紫外線の波長における、前記第1の要素の10mm当たりの内部透過率をT1、前記第2の要素の10mm当たりの内部透過率をT2としたとき、式 0.990≦(T2/T1)(H/10000)≦1.010 の条件を満足する。
なお、前記第1の要素を通して前記第2の要素を硬化させる前記光が紫外線であることが好ましく、さらに、前記紫外線がi線であることが好ましい。
以上説明したように、本発明に係る回折光学素子によれば、第1の要素と第2の要素の境界面に形成された回折格子溝に起因する、第2の要素における表面(回折格子溝が形成された面とは反対の面)に発生する浮きを低減できるため、第1の要素と第2の要素(紫外線硬化樹脂)との境界面に形成された本来の回折格子溝以外での光の回折を低減して、所望の光学性能を良好に達成することができる。
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。図1は、本発明に係る回折光学素子の概念図を示すものであり、密着複層型回折光学素子の模式断面図である。本実施形態における回折光学素子1は、図1に示すように、互いに異なる材質からなる第1の要素10と第2の要素20とが密着接合され、これら要素10,20は同一の回折格子溝30で接する形状を有している。なお、少なくとも第2の要素20は、例えば水銀のi線に代表されるような紫外線で硬化するような、光硬化樹脂製である。
本発明の回折光学素子1を構成する第1の要素10及び第2の要素20は、それぞれ紫外線硬化樹脂であることが好ましい。このような構成とすることで、本発明の回折光学素子1は、金型に材料を滴下して、紫外線を照射して固めるという作業を2回繰り返すだけで製造することができるため、効率よく量産できる。また、第1の要素10と第2の要素20とを貼り合わせることで、回折格子溝30での剥離を防ぐ効果が大きくなる。
ところで、本発明の回折光学素子1は、製造する際に、第1の要素10に形成された回折格子溝30上に第2の要素20を滴下し、図1に示すように紫外線UVを第1の要素10を通して第2の要素20に照射して硬化させる(詳しい製造方法については後述する)。このとき、第1の要素10の内部透過率と第2の要素20の内部透過率との違い及び回折格子溝30の凹凸に起因して、第2の要素20の層内部に光強度の傾斜が生じる(図2(A),図3(B)参照)。このような層内部の光強度の傾斜は、樹脂の硬化収縮量の差を招き、該第2の要素20の表面に微小な凹凸、いわゆる浮きDを発生させる。
例えば、第1の要素10における内部透過率をT1とし、第2の要素20における内部透過率をT2とすると、T1>T2のとき、第2の要素20では、層内部で図2(A)に示す光強度分布等高線のような光強度の傾斜が生じて、表面に図2(B)に示すような回折光学溝の凹凸と同じ向きの浮きDが現れる。また、T1<T2のとき、第2の要素20では、層内部で図3(A)に示す光強度分布等高線のような光強度の傾斜が生じて、表面に図3(B)に示すような回折光学溝の凹凸と逆向きの浮きDが現れる。
浮きDは、回折格子溝30の形状に起因するために微小な凹凸が周期的に繰り返される構造を有しており、ある程度の回折作用を持つ。このため、浮きDが発生する回折光学素子1では、本来の(第1の要素10と第2の要素20との境界面に形成された)回折格子溝30以外に、第2の要素20の表面にも回折構造を持つことになり、所望の光学性能とはかけ離れたものになってしまう。よって、良好な光学性能を得るためには、できるだけ浮きDを抑える必要がある。
ここで、上記の浮きDについて定量的に説明する。図1に示すように、第2の要素20に表面における(回折格子溝30の山部分a1の延長線上にある)第2の要素20の厚さが最も薄いA点,(回折格子溝30の谷部分b1の延長線上にある)第2の要素20の厚さが最も厚いB点における光強度IA,IBを求める。
第2の要素20の表面におけるA点,B点の光強度IA,IBは、回折格子溝の高さをH(μm)とし、第2の要素20の厚みをL(μm)とし、第1の要素10における10mmあたりの紫外線(例えば水銀のi線:λ=365.0nm)内部透過率をT1とし、第2の要素における10mmあたりの紫外線(例えば水銀のi線)内部透過率をT2とし、第1の要素10の下面側から入射する光強度を1.0とすると、次式(1),(2)でそれぞれ表せる。
(数1)
IA=T1(H/10000)×T2(L/10000) …(1)
IB=T2((L+H)/10000) …(2)
よって、A点,B点での光強度比IB/IAは、次式(3)で表せる。
(数2)
IB/IA=(T2/T1)(H/10000) …(3)
上記したように、浮きDは、条件式(1)で示すA点の光強度IAと、条件式(2)で示すB点での光強度IBの違いにより、第2の要素20の層内部で硬化収縮量に差が生じて、発生するものである。したがって、浮きDの発生を抑えるためには、A点,B点における光強度IA,IBの違いができるだけ小さくなるように、条件式(3)の範囲を設定する必要がある。
そこで、本発明者は種々の実験検討を重ねて、浮きDによる回折作用の影響を受けず、良好な光学性能が得ることができる条件を見出した。すなわち、本発明の回折光学素子1においては、該第2の要素20を第1の要素10を通したi線で硬化させる場合、回折格子溝30の高さをHとし、第1の要素10のi線での内部透過率をT1とし、第2の要素20のi線での内部透過率をT2としたとき、次式(4)を満足するように構成するのが望ましい。
(数3)
0.990≦IB/IA≦1.010 …(4)
上記の条件式(4)は、式(3)を参照して、次式(5)のように書くことができる。
(数4)
0.990≦(T2/T1)(H/10000)≦1.010 …(5)
上記条件式(5)を満足するような内部透過率T1,T2を有する材料で本発明の回折光学素子1を構成すれば、第1の要素10の層内部を通り回折格子溝30を経て、第2の要素20の表面に到達する光(紫外線)の強度の差がA点とB点で小さくなるため、A点とB点での樹脂の硬化収縮量の差も小さくなり、第2の要素20の表面に発生する浮きDが小さくなる。その結果、本回折光学素子1は、この浮きDにより発生する回折有害光の発生を防止でき、良好な光学性能を得ることが可能となる。なお、条件式(5)の上限値を上回ったり或いは下限値を下回ったりすると、第2の要素20の表面に発生する浮きDが大きくなり、浮きDの大きさが回折光学素子を使用するときの光の波長に近づくにつれて、本来の回折格子溝30に加えて浮きDの光の回折の影響が無視できなくなるため、フレアが発生し、所望の回折光学素子の性能からはかけ離れたものになる。
また、本発明は、第1の要素10の内部透過率T1と、第2の要素20の内部透過率T2とがほぼ等しいことが望ましい(但し、上記したように、本発明の回折光学素子1を構成する第1の要素10と第2の要素20は互いに異なる材質である。よって、第1の要素10と第2の要素20の材質には、内部透過率T1とT2はほぼ等しいが、例えば、屈折率n1とn2が異なるものを選定している)。この条件を満足することで、第1の要素10の層内部を通り回折格子溝30を経て、第2の要素20の表面に到達する光の強度がA点とB点でほぼ均一となるため、A点とB点での樹脂の硬化収縮量もほぼ均一となり、第2の要素20の表面に形成される浮きDの発生を抑えることができる。よって、所望の光学性能を有する回折光学素子1を得ることが可能となる。
以下に、本発明に係る回折光学素子1(本実施形態では円盤状とする)の製造手順について説明する。なお、ここでは、第1の要素10を第1の紫外線硬化樹脂10と称し、第2の要素20を第2の紫外線硬化樹脂20と称する。
まず、所定形状の回折格子溝30が予め形成されている第1の金型50と、所定の面を予め形成してある基板ガラス60(但し、後述する紫外線UVを透過する材料)とを用意する。また、十分に加熱され可塑性を有した第1の紫外線硬化樹脂10´を用意する。第1の紫外線硬化樹脂10´には、後述の実施例1〜実施例8に示す内部透過率T1を有するものを用いるのが好ましい。
次に、基板ガラス60上に、十分に加熱され可塑性を有した上記第1の紫外線硬化樹脂10´を滴下する(図4(A)参照)。そして、滴下した第1の紫外線硬化樹脂10´に所望の回折格子溝30の反転形状が形成された第1の金型50を押し当てる(図4(B)参照)。さらに、基板ガラス60側から紫外線UVを照射することで、第1の紫外線硬化樹脂10´を硬化させる(図4(C)参照)。そして、硬化させた第1の紫外線硬化樹脂10´を第1の金型50及び基板ガラス60より取り外す(図4(D)参照)。これにより、第1の金型50に形成されていた回折格子溝30の形状が、第1の紫外線硬化樹脂10´に転写され、第1の回折光学素子10が形成される。
続いて、上記のようにして作成された第1の回折光学素子10の回折格子溝30が形成された面上に、液状の第2の紫外線硬化樹脂20´を適量滴下する(図4(E)参照)。この第2の紫外線硬化樹脂20´には、後述の実施例1〜実施例8に示す内部透過率T2を有するものを用いるのが好ましい。滴下された第2の紫外線硬化樹脂20´において、回折格子溝30が形成される面とは反対側の面に、面形成用の第2の金型70を押し当てる(図4(F)参照)。さらに、紫外線UVを照射することで、第2の紫外線硬化樹脂20´を硬化させる(図4(G)参照)。これにより、第1の回折光学素子10に密着接合された第2の回折光学素子20が形成される。最後に、面形成用の第2の金型70を取り外せば、第1の回折光学素子(第1の紫外線硬化樹脂)10と第2の回折光学素子(第2の紫外線硬化樹脂)20とから構成される、本発明に係る密着複層型の回折光学素子1が完成する(図4(H)参照)。
なお、本発明の回折光学素子1は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記において、第1の要素(回折光学素子)10は、紫外線硬化樹脂であり紫外線を照射することで硬化させる工程としたが、熱硬化樹脂として熱で硬化させる工程等、他の成型方法による工程としても構わない。また、回折格子溝30の形状は、図1に示すように鋸歯状であったが、例えば、図5(A)に示すような同心円状に形成してもよい(図5(A)では第2の要素20は不図示)。
また、本回折光学素子1は、回折格子溝30を図1に示すような平面状ではなく、曲面に形成してもよい。すなわち、回折格子溝30を凸の形状を有する曲面上に形成しても、凹の形状を有する曲面上に形成してもよい。
さらに、本発明の回折光学素子1は、特定次数の回折光が一点に集まるようにしてレンズのように用いることができ、この場合、本回折光学素子は、全体が円盤状に作られる。また、本回折光学素子の断面形状は、図1に示すように平行平板状であっても、図5(B),(C)に示すようにレンズ状であってもよい。
ここで、本発明の回折光学素子に係る実施例1〜16及び参考例1〜8を示して、条件式(5)の上限値及び下限値を限定した理由について説明する。実施例1〜16及び参考例1〜8では、本発明に係る回折光学素子1において、第2要素20を第1要素10を通したi線(λ=365.0nm)又はh線(λ=404.7nm)で硬化させ、第1要素10のi線又はh線での内部透過率T1及びd線(λ=587.6nm)の屈折率n1と、第2の要素20のi線又はh線での内部透過率T2及びd線(λ=587.6nm)の屈折率n2との組み合わせを変えて、条件式(5)に対応する値及び発生する浮きDの大きさ(図2(B),図3(B)参照)を導出した。表1には、実施例1〜8及び参考例1,2において用いた回折光学素子1を構成する第1の要素10のi線での内部透過率T1及びd線の屈折率n1と、第2の要素20のi線での内部透過率T2及びd線の屈折率n2とを示す。また、表2には、実施例1〜8及び参考例1,2における条件式(5)に対応する値と、発生した浮きDの大きさと、光学性能を判定した結果を示す。ここで、回折格子溝の高さHは、H=50μmを使用している。
表3には、実施例9〜14及び参考例3〜6において用いた回折光学素子1を構成する第1の要素10のi線での内部透過率T1及びd線の屈折率n1と、第2の要素20のi線での内部透過率T2及びd線の屈折率n2とを示す。また、表4、には、実施例1〜6及び参考例1〜4における条件式(5)に対応する値と、発生した浮きDの大きさと、光学性能を判定した結果を示す。ここで、回折格子溝の高さHは、H=75μmを使用している。
表5には、実施例15,16及び参考例7,8において用いた回折光学素子1を構成する第1の要素10のh線での内部透過率T1及びd線の屈折率n1と、第2の要素20のh線での内部透過率T2及びd線の屈折率n2とを示す。また、表6、には、実施例15,16及び参考例7,8における条件式(5)に対応する値と、発生した浮きDの大きさと、光学性能を判定した結果を示す。ここで、回折格子溝の高さHは、H=150μmを使用している。
なお、表2、表4及び表6における光学性能は、発生したフレアの有無で判定しており、フレアの発生が大変良好に抑えられているものについては◎、良好に抑えられているものについては○、抑えられていないものについては×を付している。
(表1)(i線:λ=365.0nm)
第1の要素 第2の要素
内部透過率T1(屈折率n1) 内部透過率T2(屈折率n2)
参考例1 : 0.1468 1.553 0.0053 1.530
実施例1 : 0.0280 1.553 0.0053 1.530
実施例2 : 0.0155 1.553 0.0053 1.530
実施例3 : 0.1468 1.553 0.0533 1.530
実施例4 : 0.0053 1.553 0.0053 1.530
実施例5 : 0.0053 1.530 0.0053 1.553
実施例6 : 0.0533 1.530 0.1468 1.553
実施例7 : 0.0053 1.530 0.0155 1.553
実施例8 : 0.0053 1.530 0.0280 1.553
参考例2 : 0.0053 1.530 0.1468 1.553
(表2)(i線:λ=365.0nm)(H=50μm)
(T2/T1)(H/10000) 浮きD(μm) 光学性能
参考例1 : 0.9835 0.030 ×(フレア大)
実施例1 : 0.9917 0.015 ○(フレア微小)
実施例2 : 0.9946 0.010 ○(フレア微小)
実施例3 : 0.9949 0.010 ○(フレア微小)
実施例4 : 1.0000 0.000 ◎(フレアなし)
実施例5 : 1.0000 0.000 ◎(フレアなし)
実施例6 : 1.0051 0.010 ○(フレア微小)
実施例7 : 1.0054 0.010 ○(フレア微小)
実施例8 : 1.0084 0.015 ○(フレア微小)
参考例2 : 1.0167 0.030 ×(フレア大)
(表3)(i線:λ=365.0nm)
第1の要素 第2の要素
内部透過率T1(屈折率n1) 内部透過率T2(屈折率n2)
参考例3 : 0.1468 1.553 0.0053 1.530
参考例4 : 0.0280 1.553 0.0053 1.530
実施例9 : 0.0155 1.553 0.0053 1.530
実施例10: 0.1468 1.553 0.0533 1.530
実施例11: 0.0053 1.553 0.0053 1.530
実施例12: 0.0053 1.530 0.0053 1.553
実施例13: 0.0533 1.530 0.1468 1.553
実施例14: 0.0053 1.530 0.0155 1.553
参考例5 : 0.0053 1.530 0.0280 1.553
参考例6 : 0.0053 1.530 0.1468 1.553
(表4)(i線:λ=365.0nm)(H=75μm)
(T2/T1)(H/10000) 浮きD(μm) 光学性能
参考例3 : 0.9754 0.042 ×(フレア大)
参考例4 : 0.9876 0.021 ×(フレア大)
実施例9 : 0.9920 0.014 ○(フレア微小)
実施例10: 0.9924 0.014 ○(フレア微小)
実施例11: 1.0000 0.000 ◎(フレアなし)
実施例12: 1.0000 0.000 ◎(フレアなし)
実施例13: 1.0076 0.014 ○(フレア微小)
実施例14: 1.0081 0.014 ○(フレア微小)
参考例5 : 1.0126 0.021 ×(フレア大)
参考例6 : 1.0252 0.042 ×(フレア大)
(表5)(h線:λ=404.7nm)
第1の要素 第2の要素
内部透過率T1(屈折率n1) 内部透過率T2(屈折率n2)
参考例7 : 0.9970 1.591 0.4049 1.554
実施例15: 0.6058 1.530 0.4049 1.554
実施例16: 0.4049 1.554 0.6058 1.530
参考例8 : 0.4049 1.554 0.9970 1.591
(表6)(h線:λ=404.7nm)(H=150μm)
(T2/T1)(H/10000) 浮きD(μm) 光学性能
参考例7 : 0.9865 0.022 ×(フレア大)
実施例15: 0.9940 0.010 ○(フレア微小)
実施例16: 1.0061 0.010 ○(フレア微小)
参考例8 : 1.0136 0.022 ×(フレア大)
上記の表1〜表6に示すように、参考例1〜8の回折光学素子ではそれぞれ浮きDの大きさが0.021以上であり、フレアの発生が大きく、著しく光学性能が低下した。しかしながら、浮きDの大きさが小さい実施例1〜16の回折光学素子では(具体的には、発生した浮きDの大きさは0.000μm〜0.015μmの範囲内であった)、フレアの発生が良好に抑えられ、所望の光学性能が得られた。フレアの発生は、浮きDの大きさが回折光学素子を使用する時の光の波長に近づく程大きくなった。
このような結果に基づいて、条件式(5)の下限値を、表2(i線、H=50μm)における、参考例1の条件式(5)の対応値0.9835(浮きDの大きさは0.030)及び実施例1の条件式(5)の対応値0.9917(浮きDの大きさは0.015)、表4(i線、H=75μm)における、参考例4の条件式(5)の対応値0.9876(浮きDの大きさは0.021)及び実施例9の条件式(5)の対応値0.9920(浮きDの大きさは0.014)、表6(h線、H=150μm)における、参考例7の条件式(5)の対応値0.9865(浮きDの大きさは0.022)及び実施例15の条件式(5)の対応値0.9940(浮きDの大きさは0.010)の結果に基づいて限定した。すなわち、条件式(5)の下限値を0.990とした。
また、条件式(5)の上限値を、表2(i線、H=50μm)における、実施例8の条件式(5)の対応値1.0084(浮きDの大きさは0.015)及び参考例2の条件式(5)の値1.0167(浮きDの大きさは0.030)、表4(i線、H=75μm)における、実施例14の条件式(5)の対応値1.0081(浮きDの大きさは0.014)及び参考例5の条件式(5)の値1.0126(浮きDの大きさは0.021)、表6(h線、H=150μm)における、実施例16の条件式(5)の対応値1.0061(浮きDの大きさは0.010)及び参考例8の条件式(5)の値1.0136(浮きDの大きさは0.022)の結果に基づいて限定した。すなわち、条件式(5)の上限値を1.010とした。
なお、実施例では第2の要素を硬化させる光の例として、紫外線のi線(λ=365.
0nm)と、可視光線のh線(λ=404.7nm)とを示したが、前記以外の異な
る波長の光で硬化させる場合でも、その波長での内部透過率が条件式(5)を満足すれば
同等の効果が得られる。
以上のように、本発明者は、回折光学素子を構成する互いに異なる材料を選択するときには、光学設計の段階で、従来のように屈折率や分散だけでなく、内部透過率の差も調整した樹脂を用いることが望ましいことを見出した。
本発明に係る密着複層型の回折光学素子の模式断面図である。 図2(A)は第1の要素の内部透過率が第2の要素の内部透過率よりも高い場合における光強度分布等高線、図2(B)は第1の要素の内部透過率が第2の要素の内部透過率よりも高い場合における光照射による第2の要素の樹脂硬化の様子を示す概念図である。 図3(A)は第1の要素の内部透過率が第2の要素の内部透過率よりも低い場合における光強度分布等高線、図3(B)は第1の要素の内部透過率が第2の要素の内部透過率よりも低い場合における光照射による第2の要素の樹脂硬化の様子を示す概念図である。 本発明の回折光学素子の製造工程を(A)から(H)の順で示す図である。 本発明の回折光学素子の変形例を示す図であり、図5(A)は回折格子溝が同心円状に形成された場合であり、図5(B),(C)は回折格子溝が曲面を有する面に形成された場合を示す図である。
符号の説明
1 回折光学素子
10 第1の要素(紫外線硬化樹脂)
20 第2の要素(紫外線硬化樹脂)
30 回折格子溝
50 第1の金型
60 基板ガラス(基板)
70 面形成用の金型
UV 紫外線

Claims (5)

  1. 紫外線を透過させる材料から作られるとともに表面に回折格子溝を有する第1の要素と、
    前記紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂材料から作られ、前記第1の要素の前記回折格子溝に密着接合して設けられた第2の要素とを有し、
    前記第1の要素における前記回折格子溝が形成された表面に、液状の前記紫外線硬化樹脂材料を設け、前記第1の要素を通して前記紫外線硬化樹脂材料に前記紫外線を照射して硬化させて前記第2の要素を前記第1の要素に密着接合させて作られる回折光学素子であって、
    前記回折格子溝の高さをH(単位:μm)とし、前記紫外線の波長における、前記第1の要素の10mm当たりの内部透過率をT1、前記第2の要素の10mm当たりの内部透過率をT2としたとき、式
    0.990≦(T2/T1)(H/10000)≦1.010
    の条件を満足することを特徴とする回折光学素子。
  2. 前記紫外線がi線であることを特徴とする請求項1に記載の回折光学素子。
  3. 前記第1の要素が紫外線硬化樹脂であることを特徴とする請求項1もしくは2に記載の回折光学素子。
  4. 紫外線を透過させる材料から作られる第1の要素に、前記材料が液体の状態で回折格子溝の反転形状が形成された型を押しつけて表面に前記回折格子溝を形成する工程と、
    前記型を押しつけて表面に前記回折格子溝を形成した状態の前記第1の要素を硬化させる工程と、
    硬化された前記第1の要素を前記型から取り外す工程と、
    前記第1の要素における前記回折格子溝が形成された表面、前記紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂材料を液体の状態で設ける工程と、
    前記第1の要素を介して前記紫外線硬化樹脂材料に前記紫外線を照射して硬化させ、前記第1の要素の前記回折格子溝に密着接合した第2の要素を作る工程とを有し、
    前記回折格子溝の高さをH(単位:μm)とし、前記紫外線の波長における、前記第1の要素の10mm当たりの内部透過率をT1、前記第2の要素の10mm当たりの内部透過率をT2としたとき、式
    0.990≦(T2/T1)(H/10000)≦1.010
    の条件を満足することを特徴とする回折光学素子の製造方法。
  5. 前記紫外線がi線であることを特徴とする請求項4に記載の回折光学素子の製造方法。
JP2005062710A 2004-03-30 2005-03-07 回折光学素子及び回折光学素子の製造方法 Active JP4697584B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005062710A JP4697584B2 (ja) 2004-03-30 2005-03-07 回折光学素子及び回折光学素子の製造方法
US11/091,412 US7256939B2 (en) 2004-03-30 2005-03-29 Diffractive optical element and fabrication method thereof
AT05251964T ATE398782T1 (de) 2004-03-30 2005-03-30 Herstellungsmethode für beugendes optisches element
DE602005007530T DE602005007530D1 (de) 2004-03-30 2005-03-30 Herstellungsmethode für beugendes optisches Element
CNB2005100625136A CN100420968C (zh) 2004-03-30 2005-03-30 衍射光学元件及其制造方法
EP05251964A EP1584956B1 (en) 2004-03-30 2005-03-30 Fabrication method for diffractive optical element
US11/590,849 US7286293B2 (en) 2004-03-30 2006-11-01 Method of fabricating diffractive optical element

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004099133 2004-03-30
JP2004099133 2004-03-30
JP2005062710A JP4697584B2 (ja) 2004-03-30 2005-03-07 回折光学素子及び回折光学素子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005316414A JP2005316414A (ja) 2005-11-10
JP4697584B2 true JP4697584B2 (ja) 2011-06-08

Family

ID=34914553

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005062710A Active JP4697584B2 (ja) 2004-03-30 2005-03-07 回折光学素子及び回折光学素子の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (2) US7256939B2 (ja)
EP (1) EP1584956B1 (ja)
JP (1) JP4697584B2 (ja)
CN (1) CN100420968C (ja)
AT (1) ATE398782T1 (ja)
DE (1) DE602005007530D1 (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4645407B2 (ja) * 2005-06-21 2011-03-09 株式会社デンソー 計器用表示板とその製造方法およびそれを備えた指針計器
JP4900787B2 (ja) * 2006-06-16 2012-03-21 株式会社ニコン 回折光学素子及びこれを用いた光学系、回折光学素子の製造方法
EP1947488B1 (en) * 2007-01-22 2010-05-12 Canon Kabushiki Kaisha Laminated diffraction optical element
JP5590851B2 (ja) * 2008-12-10 2014-09-17 キヤノン株式会社 回折光学素子、積層型回折光学素子及びその製造方法
JP4603101B1 (ja) * 2008-12-24 2010-12-22 パナソニック株式会社 回折光学素子の製造方法および回折光学素子
JP2011154361A (ja) 2009-12-28 2011-08-11 Panasonic Corp 回折光学素子及び光学機器
JP5854593B2 (ja) * 2010-11-17 2016-02-09 キヤノン株式会社 積層型回折光学素子
JPWO2012114408A1 (ja) * 2011-02-22 2014-07-07 パナソニック株式会社 回折光学素子およびそれを備えた撮像装置
EP2581768A4 (en) * 2011-03-18 2014-12-24 Olympus Medical Systems Corp OPTICAL DIFFRACTION ELEMENT AND ENDOSCOPE
JP6486042B2 (ja) 2014-09-12 2019-03-20 キヤノン株式会社 積層型の回折光学素子
JP2018180364A (ja) * 2017-04-17 2018-11-15 キヤノン株式会社 光学系及びそれを有する撮像装置
US10642057B2 (en) * 2017-07-20 2020-05-05 Benq Materials Corporation Light redirecting film and method for manufacturing the same
TWI649586B (zh) * 2017-07-20 2019-02-01 Benq Materials Corporation 光重導向膜及其製造方法
CN107300731A (zh) * 2017-07-25 2017-10-27 华天科技(昆山)电子有限公司 衍射光学元件结构及制作方法
JP7414399B2 (ja) * 2019-04-01 2024-01-16 キヤノン株式会社 回折光学素子、光学機器、撮像装置および回折光学素子の製造方法
WO2021199761A1 (ja) * 2020-03-31 2021-10-07 株式会社フジクラ 光演算装置、及び、光演算装置の製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07235075A (ja) * 1994-02-23 1995-09-05 Dainippon Printing Co Ltd 光ヘッド用回折格子とその作製方法
JPH10268116A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Minolta Co Ltd 回折光学素子
JPH11109242A (ja) * 1997-09-30 1999-04-23 Canon Inc ズームレンズ
JP2001235608A (ja) * 2000-02-24 2001-08-31 Olympus Optical Co Ltd 回折光学素子の製造方法
JP2001249208A (ja) * 2000-03-02 2001-09-14 Olympus Optical Co Ltd 回折光学素子およびその製造方法
JP2004046093A (ja) * 2002-05-24 2004-02-12 Canon Inc 回折光学素子の製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62238502A (ja) * 1986-04-09 1987-10-19 Toshiba Corp グレ−テイングレンズ
US5114513A (en) * 1988-10-27 1992-05-19 Omron Tateisi Electronics Co. Optical device and manufacturing method thereof
JP3717555B2 (ja) 1994-09-12 2005-11-16 オリンパス株式会社 回折光学素子
US5847877A (en) * 1994-09-12 1998-12-08 Olympus Optical Co., Ltd. Diffractive optical element
US6606200B1 (en) * 1996-09-19 2003-08-12 Canon Kabushiki Kaisha Zoom lens device and optical apparatus provided with the same
TW473615B (en) * 1999-07-23 2002-01-21 Nippon Kogaku Kk Resin-bonded type optical element, production method therefor and optical article
JP2004126394A (ja) * 2002-10-04 2004-04-22 Nikon Corp 回折光学素子
JP2005107298A (ja) 2003-09-30 2005-04-21 Nikon Corp 回折光学素子及び回折光学素子の製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07235075A (ja) * 1994-02-23 1995-09-05 Dainippon Printing Co Ltd 光ヘッド用回折格子とその作製方法
JPH10268116A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Minolta Co Ltd 回折光学素子
JPH11109242A (ja) * 1997-09-30 1999-04-23 Canon Inc ズームレンズ
JP2001235608A (ja) * 2000-02-24 2001-08-31 Olympus Optical Co Ltd 回折光学素子の製造方法
JP2001249208A (ja) * 2000-03-02 2001-09-14 Olympus Optical Co Ltd 回折光学素子およびその製造方法
JP2004046093A (ja) * 2002-05-24 2004-02-12 Canon Inc 回折光学素子の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
ATE398782T1 (de) 2008-07-15
EP1584956B1 (en) 2008-06-18
CN1677135A (zh) 2005-10-05
DE602005007530D1 (de) 2008-07-31
US20070047084A1 (en) 2007-03-01
EP1584956A1 (en) 2005-10-12
JP2005316414A (ja) 2005-11-10
CN100420968C (zh) 2008-09-24
US7256939B2 (en) 2007-08-14
US20050219698A1 (en) 2005-10-06
US7286293B2 (en) 2007-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4697584B2 (ja) 回折光学素子及び回折光学素子の製造方法
JP4623723B2 (ja) 回折光学素子及びこれを利用した光学ローパスフィルター
US7957063B2 (en) Diffractive optical device, optical system using the diffractive optical device and method for manufacturing diffractive optical device
EP0795139B1 (en) Method for making surface relief profilers
JP5590851B2 (ja) 回折光学素子、積層型回折光学素子及びその製造方法
US7400809B2 (en) Optical waveguide devices and method of making the same
JP7127116B2 (ja) 回折導光板および回折導光板の製造方法
JP2005107298A (ja) 回折光学素子及び回折光学素子の製造方法
JP7127931B2 (ja) 回折導光板および回折導光板の製造方法
US20030218803A1 (en) Method for manufacturing diffraction optical element
JP2017211466A (ja) 回折光学素子
JPH11287904A (ja) 回折光学素子及びその製造方法
JP2007206354A (ja) 回折光学素子及び回折光学素子を有する光学系
JPH0322601B2 (ja)
JPH04178601A (ja) グレーティング・アレイおよびその製造方法
JP2003227913A (ja) 回折光学素子
JP3495925B2 (ja) 光学素子の製造方法
WO2023140273A1 (ja) 回折格子、および回折格子形成用モールド
JP4232380B2 (ja) 複合型光学素子の製造方法
JPH03200106A (ja) 光導波路レンズ
JP2006162863A (ja) 回折光学素子の成形型及び成形型の製造方法
JP2006220739A (ja) セラミックスハイブリッドレンズ
JP2004317755A (ja) 光学素子及び光学素子の製造方法
KR20220059512A (ko) 도파로 및 도파로 제조 방법
JP2005346004A (ja) 回折光学素子、積層回折光学素子及び回折光学素子の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080131

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100310

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100312

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100422

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101001

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101221

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20110104

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110204

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110217

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4697584

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140311

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250