JP4681304B2 - 積層研磨パッド - Google Patents
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Description
イソシアネート末端プレポリマーにシリコーン系界面活性剤を添加し、そして非反応性気体と撹拌し、非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とする。イソシアネート末端プレポリマーが常温で固体の場合には適宜の温度に予熱し、溶融して使用する。
上記の気泡分散液に鎖延長剤を添加し、混合撹拌する。
鎖延長剤を混合したイソシアネート末端プレポリマーを注型し、加熱硬化させる。
T1:微細発泡体に無負荷状態から30kPa (300g/cm2)の応力の負荷を60秒間保持した時の発泡体の厚み。
T2:T1の状態から180kPa (1800g/cm2)の応力の負荷を60秒間保持した時の発泡体の厚み。
T1:微細発泡体に無負荷状態から30kPa(300g/cm2)の応力の負荷を60秒間保持した時の微細発泡体の厚み。
T2:T1の状態から180kPa(1800g/cm2)の応力の負荷を60秒間保持した時の微細発泡体の厚み。
T3:T2の状態から無負荷状態で60秒間保持し、その後、30kPa(300g/cm2)の応力の負荷を60秒間保持した時の微細発泡体の厚み。
トルエンジイソシアネート(2,4−体/2,6−体=80/20の混合物)14790重量部、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート3930重量部、ポリテトラメチレングリコール(数平均分子量:1006、分子量分布:1.7)25150重量部、及びジエチレングリコール2756重量部を混合し、80℃で120分間、加熱撹拌してイソシアネート末端プレポリマー(イソシアネート当量:2.1meq/g)を得た。反応容器内に、前記プレポリマー100重量部、及びシリコーン系ノニオン界面活性剤(東レ・ダウシリコーン社製、SH192)3重量部を混合し、温度を80℃に調整した。撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。そこへ予め120℃で溶融した4,4’−メチレンビス(o−クロロアニリン)(イハラケミカル社製、イハラキュアミンMT)26重量部を添加した。約1分間撹拌を続け、その後パン型のオープンモールドへ反応溶液を流し込んだ。この反応溶液の流動性がなくなった時点でオーブン内に入れ、110℃で6時間ポストキュアを行い、ポリウレタン樹脂発泡体ブロックを得た。このポリウレタン樹脂発泡体ブロックをバンドソータイプのスライサー(フェッケン社製)を用いてスライスし、ポリウレタン樹脂発泡体シートを得た。次にこのシートをバフ機(アミテック社製)を使用して、所定の厚さに表面バフをし、厚み精度を整えたシートとした(シート厚み:1.27mm)。このバフ処理をしたシートを所定の直径(61cm)に打ち抜いた。加工機を用いて上記研磨層表面に溝幅2.0mm、溝ピッチ15mm、溝深さ0.6mmのXY格子溝の加工を行った。更に、シート周端から幅(ΔP)5.0mm、及び深さ0.6mmで切削加工を行い、図3−dに示すような階段形状の低位外周部を形成した。このシートの溝加工面の反対面にラミ機を使用して、アクリル系粘着剤両面テープ(積水化学工業社製、ダブルタックテープ)を貼り合わせた。そして、表面バフがけ及びコロナ処理したポリエチレンフォーム(東レ社製、トーレペフ、厚さ:0.8mm)からなるクッション層を前記両面テープの粘着面にラミ機を用いて貼り合わせた。さらに、クッション層表面にアクリル系粘着剤両面テープを貼り合わせて研磨パッドを作製した。
幅(ΔP)を5.0mmから3.0mmに変更した以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。
幅(ΔP)を5.0mmから1.0mmに変更した以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。
幅(ΔP)を5.0mmから0.5mmに変更した以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。
溝幅2.0mm、溝ピッチ15mm、溝深さ0.6mmのXY格子溝を溝幅0.25mm、溝ピッチ1.50mm、溝深さ0.40mmの同心円状溝に変更し、さらに低位外周部の深さ0.6mmを深さ0.4mmに変更した以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。
幅(ΔP)を5.0mmから3.0mmに変更した以外は実施例5と同様の方法で研磨パッドを作製した。
幅(ΔP)を5.0mmから1.0mmに変更した以外は実施例5と同様の方法で研磨パッドを作製した。
幅(ΔP)を5.0mmから0.5mmに変更した以外は実施例5と同様の方法で研磨パッドを作製した。
低位外周部を形成しなかった以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。
低位外周部を形成しなかった以外は実施例5と同様の方法で研磨パッドを作製した。
研磨装置SPP600S(岡本工作機械社製)を用い、作製した研磨パッドを用いて剥がれ評価を行った。評価条件としては、8インチのダミーウエハを保持基盤に装着し、酸性スラリとしてCHS3000EM(芝浦メカトロニクス社製)を研磨中に流量200ml/minにて添加した。研磨荷重としては300g/cm2、研磨定盤回転数60rpm、ウエハ回転数63rpmとした。また、ドレッサーは研磨パッド周端から5cmはみだすように摺動・回転させ、研磨パッドの研磨表面部をドレッシングしながら研磨を行った。ドレッシング条件としては、#100ドレッサーを用い、ドレッサー回転数63rpm、ドレッサー荷重300g/cm2とした。そして、研磨パッドの周端が剥がれ始めるまでの時間を測定した。48時間まで測定を続けた。その結果を表1に示す。
10 :研磨定盤
11 :研磨定盤回転軸
12 :研磨パッド
12a :研磨表面部
20 :保持基盤
21 :保持基盤回転軸
22 :被研磨対象物(半導体ウエハ)
30 :ドレッサー
31 :ドレッサー回転軸
32 :硬質粒子
40 :スラリ(研磨剤)供給部
41 :スラリ(研磨剤)供給ノズル
51 :研磨パッド
51a :研磨層
51b :クッション層
51c :研磨表面部
51d :低位外周部
Claims (5)
- ケミカルメカニカルポリッシングに用いられ、研磨層とクッション層が粘着層を介して積層されている積層研磨パッドにおいて、研磨層周端に研磨表面部より高さの低い階段形状の低位外周部を有し、前記低位外周部の幅が0.5〜5.0mmであることを特徴とする積層研磨パッド。
- 前記低位外周部の下面末端が粘着層の末端に接触している請求項1記載の積層研磨パッド。
- 請求項1又は2に記載の積層研磨パッドを用いて半導体ウエハの表面を研磨する工程を含む半導体ウエハの研磨方法。
- 積層研磨パッドの研磨表面部をドレッシングするためのドレッサーを用いて、前記ドレッサーの少なくとも一部が研磨表面部から外にはみ出した状態で研磨表面部のドレッシングを行う工程を含む請求項3記載の半導体ウエハの研磨方法。
- 請求項1又は2に記載の積層研磨パッドを用いて半導体ウエハの表面を研磨する工程を含む半導体デバイスの製造方法。
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