JP4665290B2 - 間隔測定装置及び面形状測定装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光の干渉を利用して、光学素子の間隔や厚さ等を測定する間隔測定装置及び光学素子等の面形状を測定する面形状測定装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、光の干渉を利用して光学素子、例えばレンズ等の被検面の形状を測定する面形状測定装置がある。これらの面形状測定装置は、例えば形状が既知の曲面からなる参照面を有するフィゾーレンズを備えている。光軸に平行な光束をそのフィゾーレンズによって法線方向に広げて被検レンズの被検面に当て、光を参照面と被検面とで反射させて干渉させている。つまり、参照面と被検面との間の空気層を光路長差とした干渉を起こさせ、干渉の結果で得られる干渉縞に基づき、光学素子の形状等を測定している。しかしながら、この方法で得られた形状は、参照面と被検面との間隔が明らかでないため、被検面が法線に沿って一様に拡大または縮小した形状を有していても、それを把握することはできない。従って、真の形状を測定するためには、被検面上の少なく一箇所における参照面からの距離を既知にする必要がある。そこで、被検面と参照面との間の間隔を直接に非接触で測定する間隔測定装置が必要になっている。
【０００３】
この種の間隔測定装置としては、例えば図６に示すようなマイケルソン型干渉計を利用したものが知られている。この間隔測定装置は、所定波長の測定光を出射する光源１０１と、光学系１０２とハーフミラー１０３とを備えている。光学系１０２は、図示しないピンホール及びコリメートレンズ等からなり、光源１０１から出射された測定光を平行光束にしてハーフミラー１０３に入射させるようになっている。ハーフミラー１０３は、入射光束の一部を反射し、残りを透過する機能を有している。これにより、光源１０１側から入射した光束の一部が、間隔測定の対象である２枚のガラス１０４，１０５側へ反射され、残りの光束が反射ミラー１０６側へ透過される。
【０００４】
ガラス１０４，１０５側に反射された光束に対して、ガラス１０４のハーフミラー１０３側の表面、該ガラス１０４の裏面及びガラス１０５のハーフミラー１０３側の表面は、それぞれ反射面１０４ａ，１０４ｂ，１０５ａとなっている。前記反射ミラー１０６は、図示しない移動ステージに取り付けられ、該移動ステージとともに図６中の矢印の方向に移動可能になっている。反射ミラー１０６は、ハーフミラー１０３を透過した光束を反射してハーフミラー１０３に戻すようになっている。
【０００５】
ガラス１０４，１０５で反射した光束は、計測光としてハーフミラー１０３を透過して受光素子１０７に入射する。一方、反射ミラー１０６で反射した光束は、参照光としてハーフミラー１０３で反射されて該受光素子１０７に到る。これらの計測光と参照光とは、受光素子１０７上で干渉されるようになっている。そして、受光素子１０７により、干渉光が光電変換され、干渉信号として外部に出力される。
【０００６】
図７には、光源１０１に可干渉距離が測定する間隔よりも十分小さいものを使用したときの受光素子１０７に入射される干渉光の強度と、反射ミラー１０６の位置との関係が示されている。ここで、計測光が、ハーフミラー１０３で分離され、ガラス１０４の反射面１０４ａで反射され、再びハーフミラー１０３に到る光路の光路長をＡ１とする。また、計測光が、ハーフミラー１０３で分離され、ガラス１０４の反射面１０４ｂで反射され、再びハーフミラー１０３に到る光路の光路長をＡ２とする。さらに、計測光が、ハーフミラー１０３で分離され、ガラス１０５の反射面１０５ａで反射され、再びハーフミラー１０３に到る光路の光路長をＡ３とする。加えて、参照光が、ハーフミラー１０３で分離され、反射ミラー１０６で反射され、再びハーフミラー１０３に到る光路の光路長をＢとする。
【０００７】
ハーフミラー１０３により、反射面１０４ａ，１０４ｂ，１０５ａで反射した計測光は、反射ミラー１０６で反射した参照光と光路長差に応じて干渉することになる。つまり、各計測光と参照光とは、光路長Ａ１，Ａ２，Ａ３と光路長Ｂとがほぼ等しくなった時に干渉し、このときに強度変化する干渉光が得られる。よって、反射ミラー１０６の位置をずらすことにより、光路長Ｂが光路長Ａ１とほぼ等しくなると、受光素子１０７に入射される干渉光の強度は、図７の左側のように変化する。光路長Ｂが光路長Ａ２とほぼ等しくなると、受光素子１０７に入射される干渉光の強度は、図７の中央のように変化する。反射ミラー１０６の位置をさらにずらし、光路長Ｂが光路長Ａ３とほぼ等しくなると、受光素子１０７に入射される干渉光の強度は、図７の右側のように変化する。
【０００８】
なお、計測光と参照光とが分離されてハーフミラー１０３で再び合成されるまでの間で、計測光及び参照光が、例えば屈折率が低い媒質から入射して屈折率の高い媒質との境界面で反射するような場合、例えば反射面１０４ａ、１０５ａで反射する場合では、位相の１８０度反転、いわゆる位相の飛びを生じる。この場合、干渉光の強度分布は、図７の１０４ｂの干渉光の強度変化に対する１０４ａ，１０５ａの干渉光の強度変化のように、その振幅のほぼ中心に対して反転した状態となる。
【０００９】
そして、受光素子１０７が干渉光の強度分布に対応して出力する干渉信号と移動ステージで設定される反射ミラー１０６の位置とに基づいて、ガラス１０４の厚みや、ガラス１０４，１０５の間隔等が求められる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来構成の間隔測定装置では、マイケルソン型干渉計を基本構成にしているので、計測光の光路長Ａ１，Ａ２，Ａ３と参照光の光路長Ｂとをほぼ等しくしないと、強度が変化する干渉光が得られない。そのため、例えばガラス１０４，１０５がハーフミラー１０３から遠くに配置されている場合には、反射ミラー１０６も同様に該ハーフミラー１０３から離す必要があった。
【００１１】
また、例えばガラス１０４をフィゾーレンズにしたときには、光源１０１からの計測光をガラス１０４の光軸に平行にして該ガラス１０４に入射させる。そして、計測光の一部を、参照面をなす該ガラスの反射面１０４ｂからその法線方向に沿って出射させるとともに、被検面をなすガラス１０５の反射面１０５ａにて反射させ、再びガラス１０４に入射させる。
【００１２】
ここで、ガラス１０４にその光軸に平行に計測光を入射させるとともに、ガラス１０４，１０５で反射した計測光を前記光軸に平行にしてハーフミラー１０３に戻すために、複数枚のレンズからなるヌルレンズ系が必要になる。この場合、ヌルレンズ系における光路長が長くなるため光路長Ｂが長くなり、これに伴って光路長Ａが長くなる。よって、装置全体が大きくなるという問題があった。
【００１３】
また、前記従来構成の間隔測定装置では、参照光の光路を筐体内に収容して、空気の揺らぎの影響や埃りの影響を低減することはできる。しかしながら、計測光の光路は、その都度被検物の形状や配置状態が異なるため、前記筐体内に収容するのは困難である。そのため、計測光は空気の揺らぎの影響を受けやすく、参照光と計測光の条件が異なることになり、間隔の測定値に誤差が含まれる可能性があるという問題があった。
【００１４】
さらに、各光路長Ａ１，Ａ２，Ａ３と光路長Ｂとをそれぞれ等しくするために、ガラス１０４，１０５とハーフミラー１０３との距離に応じて、反射ミラー１０６の初期位置や移動可能距離を設定する必要がある。このため、計測対象となるガラス１０４，１０５の形状や配置状態に応じて、装置の構造を設計する必要があり、装置の汎用性を著しく低下させているという問題があった。
【００１５】
本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目されてなされたものである。その目的としては、光学素子の間隔や厚さを高精度で測定できるとともに、小型でかつ汎用性に優れた間隔測定装置を提供することにある。また、その他の目的としては、被検物の形状や配置状態の影響を低減でき、光学素子の面形状を高精度で測定できるとともに、小型でかつ汎用性に優れた面形状測定装置を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本願請求項１に記載の発明では、光源から出射された光束を第１の面に照射させるとともに、前記第１の面を透過した前記光束を第２の面に照射させ、前記第１の面及び第２の面からの反射光に基づいて該第１及び第２の面の間隔を求める間隔測定装置において、前記第１及び第２の面からの反射光を第１の光束及び第２の光束に分割する分割手段と、前記分割手段で分割された前記第１の光束と第２の光束を干渉させる干渉手段と、少なくとも前記第１の光束の光路長を前記第２の光束と干渉させる前に変化させる光路長変更手段と、前記干渉手段で干渉した干渉光の光情報と前記光路長とに基づいて前記第１及び第２の面の間隔を求める測長手段とを、備え、前記干渉手段は前記第１の光束と前記第２の光束とに基づいて互いに位相の反転した第１の干渉光と第２の干渉光とを発生させるとともに、前記測長手段は前記第１及び第２の干渉光をそれぞれ別々に検出する第１検出手段及び第２検出手段を有することを特徴とするものである。
【００１７】
この間隔測定装置では、第１及び第２の面から反射した光が分割手段によって第１及び第２の光束に分割され、この第１及び第２の光束がそれぞれ計測光と参照光として干渉手段によって干渉させられる。ここで、少なくとも第１の光束は光路長変更手段により光路長が変更される。そして、例えば第１の面で反射し第１の光束として干渉手段に入射した光束の光路と、第２の面で反射し第２の光束として干渉手段に入射した光束との光路長とが等しければ、干渉光はそのコントラストが最大の値をとる。また、第１の面で反射し第２の光束として干渉手段に入射した光束の光路と、第１の面で反射し第１の光束として干渉手段に入射した光束との光路長とが等しければ、干渉光はそのコントラストが最大の値をとる。そして、測長手段により、干渉手段で干渉した第１の光束と第２の光束との干渉光の強度分布と各光路長とから第１及び第２の反射面の間隔が求められる。また、この間隔測定装置では、前記干渉手段の前記第１の光束と前記第２の光束との干渉光を無駄なく利用できる。
【００１８】
ここで、第１の光束と第２の光束とでは、その光路長は、分割手段と干渉手段との間のみで変更され、その他の部分は同じになっている。このため、被検物の形状や配置状態に左右されることなく、各光束の光路長を設定することができ、装置全体の小型化を図ることができるとともに装置の汎用性を向上させることができる。
【００１９】
請求項２に記載の発明では、請求項１に記載の発明において、前記測長手段は、前記干渉光のコントラストが最大になったときの前記光路長に基づいて前記第１及び第２の反射面の間隔を求めるようにしたことを特徴とするものである。
【００２０】
この間隔測定装置では、第１及び第２の面の間隔が、干渉光のコントラストが最大になったときの各光束の光路長から、より容易かつより高精度に求められる。
【００２２】
請求項３に記載の発明では、請求項１に記載の発明において、前記測長手段は、前記第１検出手段の検出結果と前記第２検出手段の検出結果との差に基づいて前記第１及び第２の面間の間隔を求めるようにしたことを特徴とするものである。
【００２３】
この間隔測定装置では、位相が反転した第１及び第２の干渉光の差分をとることにより、一方の干渉信号の変化分をほぼ倍に増幅することができる。このため、干渉光におけるＳ／Ｎ比を向上でき、耐ノイズ性を向上できる。
【００２４】
請求項４に記載の発明では、請求項１〜請求項３のうちのいずれか一項に記載の発明において、前記光源と前記第１及び第２の面との間に、前記光源から出射された光束を反射または透過させ、所定方向と直交方向の直線偏光を透過または反射させる光束中継手段と、該所定方向の直線偏光の光束を円偏光の光束に変換する変換手段とを備え、前記第１及び第２の面からの反射光を前記変換手段及び前記光束中継手段を介して前記分割手段に導くようにしたことを特徴とするものである。
【００２５】
この間隔計測装置では、光源から出射された光束が光束中継手段と変換手段により、円偏光の光束となって第１及び第２の面に与えられる。そして、この円偏光の光束は、第１及び第２の面で反射される際に、その回転方向が反転される。そして、この第１及び第２の面から反射した光束が、変換手段を介して前記所定方向とは直交方向の直線偏光に変換される。これにより、この直交方向の直線偏光からなる光束は、光束中継手段を介して光源側に戻ることなく、ほぼ全量が分割手段に入射する。このため、光学素子の間隔を測定する際に、反射光の無駄を著しく低減することができる。
【００２６】
請求項５の発明では、請求項１〜請求項４のうちのいずれか一項に記載の発明において、前記分割手段から前記干渉手段に到る各光路の環境をほぼ一定に保つ環境調節手段を設けている。
【００２７】
この間隔測定装置では、第１及び第２の面からの反射光は前記分割手段にいたるまで光路が共通であるため、空気の揺らぎや埃等の外乱の影響を受けにくい。しかし、前記分割手段から前記干渉手段にいたる各光路は独立しているため、外乱の影響を受けやすい。そこで、環境調節手段により、各光路が受ける外乱を低減することにより、間隔測定の精度を向上することができる。
【００２８】
請求項６に記載の発明は、光源からの面形状測定用光束を所定の参照面及び測定対象物の被検面に照射し、該参照面及び被検面から反射した反射光束に基づいて該被検面の形状を求める面形状測定手段を備えた面形状測定装置において、請求項１〜請求項５のうちいずれか一項に記載の間隔測定装置を備え、前記参照面及び被検面からの反射光に基づいて該参照面と前記被検面との間隔を測定するようにしたことを特徴とするものである。
【００２９】
この面形状測定装置では、参照面と被検面との間隔が間隔測定装置にてより高精度に求められ、求められた参照面と被検面との間隔に基づいて被検面の形状が面形状測定手段にてより高精度に求められる。
【００３０】
請求項７に記載の発明では、請求項６に記載の発明において、前記参照面及び前記被検面と前記面形状測定手段との間の前記面形状測定用光束の光路中に配置され、前記面形状測定用光束の光軸とほぼ平行に前記参照面及び前記被検面へ間隔測定用光束を導くための間隔測定用光学手段を備えたことを特徴とするものである。
【００３１】
この面形状測定装置では、面形状測定用光束の光路内において、間隔測定用光束がその面形状測定用光束と平行な状態で参照面及び被検面に導かれる。このため、面形状測定用光束の光路内において、参照面と被検面との間隔をより高精度かつ確実に測定することができる。これにより、被検物の面形状を容易にかつより高精度に測定することができる。
【００３２】
請求項８に記載の発明では、請求項７に記載の発明において、前記間隔測定用光学手段は、前記面形状測定用光束と前記間隔測定用光束との光路を切り替える光路切替手段を備えたことを特徴とするものである。
【００３３】
この面形状測定装置では、光路切換手段による切り替えで、面形状測定用光束または間隔測定用光束が選択され、参照面及び被検面に照射される。これにより、面形状測定時に間隔測定用光束が面形状測定手段側に導かれたり、間隔測定時に面形状測定用光束が間隔測定手段側に導かれたりするのを回避することができる。従って、面形状測定及び間隔測定の精度を高く維持することができる。
【００３４】
請求項９に記載の発明では、請求項７に記載の発明において、前記間隔測定用光学手段は、前記面形状測定用光束の光路内に挿脱可能に配置され、前記間隔測定用光束をほぼ全反射する可動反射手段からなることを特徴とするものである。
【００３５】
この面形状測定装置では、光源からの間隔測定用光束がすべて面形状測定用光束の光路内に導かれるとともに、参照面及び被検面で反射した光がすべて間隔測定手段に入射される。このため、参照面と被検面との間隔測定時において、間隔測定用光束を無駄なく使用することができる。
【００３８】
【発明の実施の形態】
（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態の間隔測定装置の概要を、図１〜図３に基いて説明する。
【００３９】
この間隔測定装置は、光源１１と、該光源１１から出射された光を平行光束にする平行光学系１２と、該平行光学系１２からの平行光束を測定対象側へ反射するビームスプリッタ１３とを備えている。
【００４０】
光源１１としては、白色光を出射する白色光源或いは低コヒーレント光を出射するスーパールミネッセントダイオード（ＳＬＤ）等が使用される。ＳＬＤを使用するときには、コヒーレント長が数μｍから数１０μｍのＳＬＤ光を出射するものを選択することが望ましい。光源１１の近傍には、光束中継手段としての偏光ビームスプリッタ１３を配置する。この偏光ビームスプリッタ１３は、所定方向の直線偏光を反射するとともに、その所定方向に対する直交方向の直線偏光を透過するようになっている。この偏光ビームスプリッタ１３の近傍に変換手段としてのλ／４板１４が置かれており、前記所定方向の直線偏光は、このλ／４板１４を通過する際に、所定方向周りの円偏光に変換される。
【００４１】
図１における測定対象は、偏光ビームスプリッタ１３で反射された平行光束の光軸上に、自身の光軸が一致するように並べて配置された２枚のガラス１５，１６である。偏光ビームスプリッタ１３に近い方のガラス１５において、ガラス１６と対向する裏面は、第１の反射面１５ａを構成し、ビームスプリッタ１３からの光束の一部を反射し、残りを透過する。また、ガラス１６において、ガラス１５と対向する表面は、第２の反射面１６ａを構成し、ガラス１５を透過した光束を反射する。この第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａでの反射に際して、所定方向周りの円偏光は、その向きが反転され逆方向周りの円偏光になる。
【００４２】
ガラス１５，１６で反射した光はλ／４板１４に入射し、前記所定方向に対して直交方向の直線偏光に変換される。λ／４板１４を透過したガラス１５，１６で反射した光は、偏光ビームスプリッタ１３に進むようになっている。ここで、この偏光ビームスプリッタ１３は前記直交方向の直線偏光のみを透過するようになっているため、前記ガラス１５，１６で反射した光はそのほとんどが偏光ビームスプリッタ１３を透過して分割手段を構成する分割ビームスプリッタ１７に進む構成になっている。
【００４３】
分割ビームスプリッタ１７は、偏光ビームスプリッタ１３側から入射した光を第１の光束をなす計測光Ｍと第２の光束をなす参照光Ｒとに分割する。すなわち、この分割ビームスプリッタ１７は、偏光ビームスプリッタ１３側から入射した反射光の一部を参照光Ｒとして透過するとともに、残りを計測光Ｍとして直交方向に反射する。分割ビームスプリッタ１７で反射された計測光Ｍの光軸上には、その計測光Ｍを屈曲させるコーナーキューブ１８が配置されている。分割ビームスプリッタ１７を透過する参照光Ｒの光軸上には、前記コーナーキューブ１８と同様のコーナーキューブ１９が配置されている。
【００４４】
コーナーキューブ１８は、光路長変更手段である移動ステージ２０に取り付けられ、図１中の矢印の方向に移動可能になっている。移動ステージ２０の近傍には、その移動ステージ２０の位置を検出する図示しないステージ位置センサ２０ａが配設されている。前記コーナーキューブ１８で屈曲された計測光Ｍは、反射ミラー２１ａによって反射されて干渉手段である合成ビームスプリッタ２２に入射するようになっている。一方、コーナーキューブ１９は静止状態に固定されており、このコーナーキューブ１９で屈曲された参照光Ｒは、反射ミラー２１ｂによって反射されて合成ビームスプリッタ２２に入射するようになっている。
【００４５】
合成ビームスプリッタ２２は、計測光Ｍと参照光Ｒとを干渉させて、位相が反転した第１の干渉光と第２の干渉光を発生するとともに、これらを２方向に分けて出力する機能を有している。一方の第１の干渉光は、合成ビームスプリッタ２２を透過した計測光Ｍ１と該合成ビームスプリッタ２２で反射された参照光Ｒ１とが合成されたものとなる。この第１の干渉光は、第１検出手段としての第１受光素子２３に入射するようになっている。ここで、この第１の干渉光における計測光Ｍ１は、合成ビームスプリッタ２２を透過するため位相の反転が生じない。また、この第１の干渉光における参照光Ｒ１は、合成ビームスプリッタ２２で反射される。このとき参照光Ｒ１は、屈折率の低い媒質から入射して屈折率の高い媒質の境界面で反射するため、位相は反転する。
【００４６】
他方の第２の干渉光は、合成ビームスプリッタ２２で反射された計測光Ｍ２と該合成ビームスプリッタ２２を透過した参照光Ｒ２とが合成されたものとなる。この第２の干渉光は、第２検出手段としての第２受光素子２４に入射するようになっている。ここで、この第２の干渉光における計測光Ｍ２は、合成ビームスプリッタ２２で反射されるが、屈折率の高い媒質から入射して屈折率の低い媒質の境界面で反射するため、位相の反転は生じない。また、この第２の干渉光における参照光Ｒ２は、合成ビームスプリッタ２２を透過するため、位相の反転が生じない。これにより、第１の干渉光ではＲ１の位相が反転するのに対し、第２の干渉光ではＲ２の位相が反転しないので、第１受光素子２３に入射する第１の干渉光の光情報としての強度と、第２受光素子２４に入射する第２の干渉光の光情報としての強度とは、互いに位相が反転したものとなる。
【００４７】
各受光素子２３，２４及び前記ステージ位置センサ２０ａの出力信号は、測長手段を構成する主制御系２５に入力されるようになっている。この主制御系２５は、それら各受光素子２３，２４及び前記ステージ位置センサ２０ａの出力信号に基づき、第１の反射面１５ａ及び第２の反射面１６ａの間隔を求めるようになっている。また、主制御系２５は、間隔測定装置全体の動作を制御するようになっている。
【００４８】
光源１１、平行光学系１２、ビームスプリッタ１３、ビームスプリッタ１７，２２、コーナーキューブ１８，１９、反射ミラー２１ａ，２１ｂ及び受光素子２３，２４は、環境調節手段である筐体３０に収容されている。この筐体３０内は、前記主制御系２５の制御の下で、温度、湿度等の環境が一定に保たれるようになっている。
【００４９】
次に、図１の間隔測定装置により、第１の反射面１５ａと第２の反射面１６ａとの間隔を測定する場合の測定原理を説明する。
光源１１が出射した光は、平行光学系１２により平行光束となり、偏光ビームスプリッタ１３に入射する。偏光ビームスプリッタ１３は、平行光学系１２から入射した平行光束をλ／４板１４を透過してガラス１５，１６側へ反射する。
【００５０】
ガラス１５の第１の反射面１５ａ及びガラス１６の第２の反射面１６ａは、偏光ビームスプリッタ１３側から入射した平行光束をλ／４板１４を透過してそれぞれ偏光ビームスプリッタ１３側へ反射する。ガラス１５，１６で反射した光は、偏光ビームスプリッタ１３を透過して分割ビームスプリッタ１７に到る。
【００５１】
分割ビームスプリッタ１７は、ガラス１５，１６で反射した光を参照光Ｒと計測光Ｍとに分割し、参照光Ｒをコーナーキューブ１９に、計測光Ｍをコーナーキューブ１８にそれぞれ入射させる。コーナーキューブ１８は計測光Ｍを屈曲させて反射ミラー２１ａへ入射させ、該反射ミラー２１ａが計測光Ｍを反射して合成ビームスプリッタ２２に入射させる。コーナーキューブ１９は、参照光Ｒを屈曲させて反射ミラー２１ｂへ入射させ、該反射ミラー２１ｂが参照光Ｒを反射させて合成ビームスプリッタ２２へ入射させる。
【００５２】
合成ビームスプリッタ２２は、反射ミラー２１ａから入射した計測光Ｍの一部を第１受光素子２３側へ透過させるとともに、該計測光Ｍの残りを第２受光素子２４側へ反射させる。一方、合成ビームスプリッタ２２は、反射ミラー２１ｂから入射した参照光Ｒの一部を第１受光素子２３の方へ透過させるとともに、該参照光Ｒの残りを第２受光素子２４の方へ反射させる。よって、各受光素子２３，２４には、計測光Ｍ１，Ｍ２と参照光Ｒ１，Ｒ２との合成光がそれぞれ入射されることになる。但し、第１受光素子２３に入射される第１の干渉光と第２受光素子２４に入射される第２の干渉光とは、前述したように、成分の参照光Ｒ１，Ｒ２の位相が互いに逆転しているので、干渉光の強度の位相が反転している。
【００５３】
合成ビームスプリッタ２２に実際に入射する参照光Ｒには、反射及び透過によって異なった経路を通過した複数の光束が含まれる。ここで、第１の反射面１５ａと第２の反射面１６ａとの間隔を計測する場合には、反射面１５ａで反射して偏光ビームスプリッタ１３、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由した光束と、ガラス１５を透過して反射面１６ａで反射して偏光ビームスプリッタ１３、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由した光束とを利用する。以下、説明の簡素化のため、これらの２つの光束における光源１１から合成ビームスプリッタ２２に到る光路をＲの光路といい、光路長をｒという。
【００５４】
一方、合成ビームスプリッタ２２に実際に入射する計測光Ｍについても、反射及び透過によって異なった経路を通過した複数の光束が含まれる。ここで、第１の反射面１５ａ及び第２の反射面１６ａの間隔を計測する場合は、反射面１５ａで反射してビームスプリッタ１３、ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由した光束と、ガラス１５を透過して反射面１６ａで反射してビームスプリッタ１３、ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由した光束とを利用する。以下、説明の簡素化のため、これらの２つの光束における光源１１から合成ビームスプリッタ１１に到る光路をＭの光路といい、その光路長をｍという。
【００５５】
また、第１の反射面１５ａと第２の反射面１６ａとの間隔をＤとすると、反射面１５ａで反射された光束が分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由して合成ビームスプリッタ２２に到る参照光Ｒの光路と、反射面１６ａで反射された光束が同様の光路を経由して合成ビームスプリッタ２２に到る参照光Ｒの光路との差は、２Ｄとなる。同様に、反射面１５ａで反射された光束が分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由して合成ビームスプリッタ２２に到る計測光Ｍの光路と、反射面１６ａで反射された光束が同様の光路を経由して合成ビームスプリッタ２２に到る計測光Ｍの光路との差は、２Ｄとなる。
【００５６】
本実施形態では、合成ビームスプリッタ２２により、参照光Ｒと計測光Ｍとを干渉させ、コーナーキューブ１８の位置に応じて強度変化する干渉光を発生させる。ここで、参照光Ｒの光路長ｒは固定であるのに対して、計測光Ｍの光路長ｍは移動ステージ２０によって可変である。
【００５７】
移動ステージ２０によって光路長ｍと光路長ｒとがほぼ等しいとき（ｍ＝ｒ）、図２のように、光源１１から放射されてガラス１５の第１の反射面１５ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ15r と、光源１１から放射されて該反射面１５ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及反射ミラー２１ａを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ15m1とは、図２の破線枠内に示すように、光路長がほぼ等しくなる。このため、各受光素子２３，２４では、干渉によって強度が変化する干渉信号が得られる。また、光源１１から放射されてガラス１６の第２の反射面１６ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ16r と、光源１１から放射されてガラス１６の第２の反射面１６ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由してビームスプリッタ２２に至る光Ｌ16m1とは、図７の破線枠内に示すように、光路長がほぼ等しくなる。このため、各受光素子２３，２４では、干渉によって強度が変化する干渉信号が得られる。したがって、光路長ｍと光路長ｒとが等しくなる近辺では、第１受光素子２３は、図３の中央の波形を干渉信号として主制御系２５に出力する。
【００５８】
一方、光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ短い場合（ｍ＜ｒ）、光源１１から放射されてガラス１５の第１の反射面１５ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ15r の光路長と、光源１１から放射されてガラス１６の第２の反射面１６ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ16m2の光路長とがほぼ等しくなる。このため、各受光素子２３，２４では、干渉によって強度が変化する干渉信号が得られる。したがって、光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ短い場合では、第１受光素子２３は、図３の左側の波形を干渉信号として主制御系２５に出力する。
【００５９】
光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ長い場合（ｍ＞ｒ）、光源１１から放射されてガラス１６の第２の反射面１５ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ16r の光路長と、光源１１から放射されてガラス１５の第１の反射面１５ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ15m3の光路長とがほぼ等しくなる。このため、各受光素子２３，２４では、干渉によって強度が変化する干渉信号が得られる。したがって、光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ長い場合では、第１受光素子２３は図３の右側の波形を干渉信号として主制御系２５に出力する。
【００６０】
一方、第２受光素子２４は、前記第１受光素子２３とは位相が反転した干渉信号を主制御系２５に出力する。つまり、第２受光素子２４は、図３の干渉信号の強度を中心値ＣＶで反転させた干渉信号を出力する。主制御系２５は、各受光素子２３，２４がそれぞれ出力する干渉信号の差信号を求める。差信号を求めることにより、干渉信号の強度変化を２倍に増幅できＳ／Ｎ比が向上するとともにオフセット分をキャンセルすることができる。主制御系２５は、差信号における包絡線の極大値或いは極小値を補間等で推定する。
【００６１】
ここで、光路長ｍと光路長ｒとがほぼ等しい場合において、干渉信号の差が極大値或いは極小値を取るときの移動ステージ２０の位置をＸ０とする。また、光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ短い場合において、干渉信号の差が極大値或いは極小値を取るときの移動ステージ２０の位置をＸ１とする。さらに、光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ短い場合において、干渉信号の差が極大値或いは極小値を取るときの移動ステージ２０の位置をＸ２とする。そして、主制御系２５は、（Ｘ１＋Ｘ２）／２の計算或いは、｜Ｘ０−Ｘ１｜または｜Ｘ０−Ｘ２｜の計算を行うことにより、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの距離、つまり間隔を求める。
【００６２】
以上のように構成した第１の実施形態の間隔測定装置は、以下のような効果が得られる。
（イ） この間隔測定装置では、第１の反射面１５ａ及び第２の反射面１６ａで反射した光束を、分割ビームスプリッタ１７に入射させ、該分割ビームスプリッタ１７で参照光Ｒと計測光Ｍとに分割する構成となっている。そして、それらの参照光Ｒと計測光Ｍとを、合成ビームスプリッタ２２で干渉させるようになっている。このため、偏光ビームスプリッタ１３からガラス１５，１６までの距離が長くても、この間の計測光Ｍ及び参照光Ｒの受ける空気の揺らぎ等の影響が共通になるので、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を、より高精度に測定することができる。
【００６３】
（ロ） この間隔測定装置では、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を求めるために、移動ステージ２０及びコーナーキューブ１８で調整する計測光Ｍの光路長ｍを、偏光ビームスプリッタ１３からガラス１５，１６までの距離に関わらず任意に設定できる。このため、偏光ビームスプリッタ１３からガラス１５，１６までの距離が長くなっても、間隔測定装置が大型化することがないだけでなく、小型化することも可能となる。
【００６４】
（ハ） この間隔測定装置では、偏光ビームスプリッタ１３からガラス１５，１６までの距離に関わらず、筐体３０内の構成を共通化できる。このため、間隔測定装置に広い汎用性を持たせることができ、その生産効率が向上して低コスト化することができる。
【００６５】
（ニ） この間隔測定装置では、第１及び第２受光素子２３，２４を備え、両受光素子２３，２４が互いに位相の逆転した干渉信号を出力し、両方の干渉信号の差を求めるようになっている。このため、例えば１つの受光素子２３のみを使用した場合よりも、参照光Ｒと計測光Ｍとの干渉による強度変化をほぼ２倍に増幅して取り出すことができ、間隔測定における感度が向上できる。従って、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を、さらに高精度に測定することができる。また、分割ビームスプリッタ１７及び合成ビームスプリッタ２２で透過または反射される光束をもれなく受光することができて、無駄がない。さらに、
（ホ） この間隔測定装置では、各受光素子２３，２４から出力される干渉信号の強度が最大または最小となったときの参照光Ｒと計測光Ｍとの光路長ｒ，ｍの差から第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を求めるようになっている。ここで、参照光Ｒの光路長ｒは固定であり、計測光Ｍの光路長ｍは移動ステージ２０の位置を検出することで容易かつ正確に求まる。このため、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を、容易かつ高精度に求めることができる。
【００６６】
（ヘ） この間隔測定装置では、光源１１は所定方向の直線偏光を出射するとともに、ガラス１５，１６との間に偏光ビームスプリッタ１３及びλ／４板１４が配設されている。このため、平行光学系１２からの平行光束のほとんど全てをガラス１５，１６に供給できるとともに、ガラス１５，１６で反射された光束のほとんど全てを、分割ビームスプリッタ１７に無駄なく導くことができる。従って、第１及び第２受光素子２３，２４により多くの光束を入射させることができ、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を、さらに高精度に測定することができる。
【００６７】
（ト） この間隔測定装置では、その構成の大部分が環境が一定に保たれた筐体３０内に収容されている。このため、計測光Ｍ及び参照光Ｒの受ける空気の揺らぎ等の影響を著しく低減することができ、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔をより高精度に測定することができる。
（第２の実施形態）
前記第１の実施形態では、間隔測定装置の基本構成をマッハツェンダ型干渉計で構成したが、図４のように、マイケルソン型干渉計で構成することも可能である。
【００６８】
図４において、図１中の要素と共通する要素には、共通の符号が付されている。この間隔測定装置は、第１の実施形態と同様の光源１１、平行光学系１２、偏光ビームスプリッタ１３及びλ／４板１４を有し、ガラス１５，１６に対して光束を入射する構成になっている。ガラス１５の第１の反射面１５ａ及びガラス１６の第２の反射面１６ａで反射した光束は、偏光ビームスプリッタ１３を透過して分割手段及び干渉手段を構成するハーフミラー４１に入射する。ハーフミラー４１は、ガラス１５，１６側から入射された光の一部を可動反射ミラー４２側に計測光Ｍとして反射させ、残りを参照光Ｒとして透過させて固定反射ミラー４３へ入射する機能を持っている。
【００６９】
可動反射ミラー４２は、移動ステージ２０に固定されて第１の実施形態のコーナーキューブ１８と同様に移動するようになっており、ハーフミラー４１から入射された計測光Ｍを該ハーフミラー４１へ向けて反射する。固定反射ミラー４３は固定され、ハーフミラー４１から入射された参照光Ｒを再び該ハーフミラー４１へ反射する。ハーフミラー４１は、反射ミラー４２側から入射された計測光Ｍの一部を受光素子４４側へ透過させ、反射ミラー４３側から入射した参照光Ｒの一部を受光素子４４側へ反射させるようになっている。
【００７０】
よって，受光素子４４には，計測光Ｍと参照光Ｒの干渉光が入射されることになる。受光素子４４は、入射された光の強度に対応する干渉信号を主制御系２５に出力するものである。
【００７１】
この間隔測定装置では、ハーフミラー４１が計測光Ｍと参照光Ｒとを分割するとともに計測光Ｍと参照光Ｒとを干渉させる。ここで、計測光Ｍと参照光Ｒとが干渉する前に、移動ステージ２０で可動反射ミラー４２の位置をずらせて計測光Ｍの光路長を変化させる。これにより，第１の実施形態の図３と同様の干渉信号が得られる。図３と同様の干渉信号が得られると、主制御系２５は、干渉信号の包絡線における極大値或いは極小値から反射面１５ａ，１６ａの間隔が求められる。そして、主制御系２５は、極大値或いは極少値を干渉信号の補間によって求め、第１の実施形態と同様に、移動ステージ２０の位置からガラス１５，１６の間隔を求める。
【００７２】
以上の構成の第２の実施形態の間隔測定装置では、第１の実施形態と同様の効果に加えて、下記の効果が得られる。
（チ） この間隔測定装置では、ハーフミラー４１が計測光Ｍと参照光Ｒとを分離するとともに計測光Ｍと参照光Ｒとを干渉させるようになっている。このため、合成ビームスプリッタ２２等が不要になり、装置のさらなる小型化が可能になる。
（第３の実施形態）
本発明の第３の実施形態の面形状測定装置の概要を、図５を参照しつつ説明する。
【００７３】
図５の面形状測定装置は、面形状測定手段であるフィゾー型干渉計５１と、ヌルレンズ系５２と、フィゾーレンズ５３とを有している。前記フィゾー型干渉計５１は、例えばＨｅ−Ｎｅレーザ光からなる面形状測定用光束Ｌｓを発生する光源としてのレーザ光源５４を内蔵している。
【００７４】
前記ヌルレンズ系５２は、干渉計５１から出射された前記光束Ｌｓ及び干渉計５１に戻る前記光束Ｌｓをフィゾーレンズ５３の光軸に平行にする役割を担っている。ヌルレンズ系５２を通過した前記光束Ｌｓは、フィゾーレンズ５３に入射するようになっている。
【００７５】
前記フィゾーレンズ５３は、参照面５３ａを有しており、その参照面５３ａがレンズ、ミラー等の光学素子からなる測定対象物の被検面５５に対向するように配置されている。前記フィゾーレンズ５３は、参照面５３ａにおいてヌルレンズ系５２側から入射した前記光束Ｌｓの一部を反射させるとともに、残りを透過する機能を有している。フィゾーレンズ５３を透過した前記光束Ｌｓは、該レンズ５３の参照面５３ａの法線方向に進み、測定対象物の被検面５５で反射され、同じ光路を戻る構成になっている。
【００７６】
この面形状測定装置には、さらに、筐体３０内に収容された第１の実施形態の間隔測定装置が、間隔測定手段の間隔測定ユニット５６として組み込まれている。間隔測定ユニット５６から出射された間隔測定用光束Ｌｄは、間隔測定用光学手段としてのダイクロイックミラー５７に入射するようになっている。このダイクロイックミラー５７は、ヌルレンズ系５２と干渉計５１との間に常時配置されている。ダイクロイックミラー５７は、間隔測定用光束Ｌｄをその光軸が面形状測定用光束Ｌｓの光軸に平行になるように折り曲げ、該間隔測定用光束Ｌｄをヌルレンズ系５２を介してフィゾーレンズ５３及び被検面５５に入射させるように機能する。
【００７７】
この面形状測定装置は、フィゾーレンズ５３の参照面５３ａと被検面５５との相対距離を求めるとともに該被検面５５の形状を測定をする装置である。すなわち、フィゾー型干渉計５１が出射した面形状測定用光束Ｌｓは、ダイクロイックミラー５７を透過してヌルレンズ系５２に入射する。ヌルレンズ系５２は、干渉計５１側から入射した面形状測定用光束Ｌｓを平行にしてフィゾーレンズ５３へと透過させる。フィゾーレンズ５３は、ヌルレンズ系５２から入射した面形状測定用光束Ｌｓの一部を反射してヌルレンズ系５２側へ戻す。フィゾーレンズ５３を透過した面形状測定用光束Ｌｓは法線方向に広がり、被検面５５で反射されて該フィゾーレンズ５３を透過してヌルレンズ系５２に戻る。
【００７８】
ヌルレンズ系５２は、参照面５３ａ及び被検面５５側から反射された面形状測定用光束Ｌｓを干渉計５１に戻す。干渉計５１には、参照面５３ａで反射した面形状測定用光束Ｌｓと被検面５５で反射した面形状測定用光束Ｌｓとが、同じ光路を通過して入射する。このため、これらの反射した面形状測定用光束Ｌｓが干渉し、干渉計５１にて干渉縞が生じることになる。干渉計５１では、図示しない受光素子により、干渉縞を電気信号に変換し、該電気信号に基づき被検面の形状データを得る。
【００７９】
一方、間隔測定ユニット５６が出射する間隔測定用光束Ｌｄは、ダイクロイックミラー５７で反射して面形状測定用光束Ｌｓの光軸と平行に進み、ヌルレンズ系５２を介して参照面５３ａ及び被検面５５に達する。間隔測定用光束Ｌｄは、面形状測定用光束Ｌｓと同様に、参照面５３ａ及び被検面５５で反射し、ヌルレンズ系５２を透過してダイクロイックミラー５７に入射する。ダイクロイックミラー５７は、ヌルレンズ系５２側から進んできた間隔測定用光束Ｌｄを反射して間隔測定ユニット５６に入射させる。間隔測定ユニット５６は、内部で第１の実施形態と同様の処理を行って参照面５３ａ及び被検面５５の間隔を求める。この結果、フィゾーレンズ５３の参照面５３ａの曲率半径が既知であれば、該曲率半径に、面形状測定の結果と間隔測定の結果を加味することで、被検面５５の曲率半径の値もより高精度に求められる。
【００８０】
なお、被検面５５や参照面５３ａから反射した面形状測定用光束Ｌｓ及び間隔測定用光束Ｌｄは、両方ともダイクロイックミラー５７に進む。ここで、面形状測定用光束Ｌｓに、例えばＨｅ−Ｎｅレーザを使用した場合、その波長は６３３ｎｍである。この場合、間隔測定用光束Ｌｄに、波長が６８０ｎｍのＬＳＤ光を使用することが望ましい。このようにすることで、両光束Ｌｓ，Ｌｄを十分に分離することができるとともに、その波長が比較的近いためヌルレンズ系５２等で発生する収差を少なくすることができる。
【００８１】
このような構成の面形状計測装置では、以下のような効果が得られる。
（リ） この面形状測定装置では、第１の実施形態の間隔測定装置が間隔測定ユニット５６として組み込まれている。このため、間隔測定ユニット５６での被検面５５と参照面５３ａとの間の間隔測定結果を勘案して、フィゾー型干渉計５１により被検面５５の形状をより高精度に測定できるようになる。
（変形例）
なお、上記各実施形態は、例えば以下のようなが種々の変形が可能である。
【００８２】
・ 第３の実施形態では、ダイクロイックミラー５７をフィゾー型干渉計５１からの面形状測定用光束Ｌｓの光路内に常時配置して、間隔測定及び面形状測定の両方を同時にできるようにした。これに対して、例えば図５に一点鎖線で示すように、例えば面形状測定用光束Ｌｓの光路内に出没する光路切替手段としてのシャッタ６１を設けるとともに、間隔測定用光束Ｌｄの光路内に出没する光路切替手段としてのシャッタ６２を設けて、面形状測定用光束Ｌｓ及び間隔測定用光束Ｌｄの光路を適宜切り替えるように構成してもよい。
【００８３】
この場合、参照面５３ａと被検面５５との間隔測定を行う場合には、面形状測定用光束Ｌｓの光路内にシャッタ６１を挿入するととも間隔測定用光束Ｌｄの光路内からシャッタ６２を退避させて、間隔測定ユニット５６からの間隔測定用光束Ｌｄを参照面５３ａ及び被検面５５に導く。一方、面形状の測定を行う場合には、面形状測定用光束Ｌｓの光路内からシャッタ６１を退避させるととも間隔測定用光束Ｌｄの光路内にシャッタ６２を挿入し、フィゾー型干渉計５１からの面形状測定用光束Ｌｓを参照面５３ａ及び被検面５５に導く。このようにした場合、間隔測定用光束Ｌｄが干渉計５１内に導かれたり、面形状測定用光束Ｌｓが間隔測定ユニット５６内に導かれたりすることがなく、面形状測定及び間隔測定の精度を高く維持することができる。
【００８４】
・ 第３の実施形態では、ダイクロイックミラー５７をフィゾー型干渉計５１からの面形状測定用光束Ｌｓの光路内に常時配置して、間隔測定及び面形状測定の両方を同時にできるようにした。これに対して、例えば図５に二点鎖線で示すように、ダイクロイックミラー５７を可動反射手段としての全反射ミラー６５に変更し、その全反射ミラー６５を面形状測定用光束Ｌｓの光路内に挿脱可能に配置してもよい。
【００８５】
この場合、参照面５３ａと被検面５５との間隔測定を行う場合には、面形状測定用光束Ｌｓの光路内に全反射ミラー６５を挿入して、間隔測定ユニット５６からの間隔測定用光束Ｌｄを参照面５３ａ及び被検面５５に導く。一方、面形状の測定を行う場合には、面形状測定用光束Ｌｓの光路内から全反射ミラー６５を退避させ、フィゾー型干渉計５１からの面形状測定用光束Ｌｓを参照面５３ａ及び被検面５５に導く。このようにした場合、前記各実施形態の効果に加えて、間隔測定用光束Ｌｄを、無駄なく使用することができる。
【００８６】
・ 第１の実施形態では、２個の受光素子２３，２４を設け、位相が反転した干渉信号を出力させてＳ／Ｎ比を向上させていたが、Ｓ／Ｎ比を向上させる必要がないときには、第２の実施形態のように、１個の受光素子２３のみを設けて干渉信号を出力するようにしてもよい。
【００８７】
・ 第１及び第２の実施形態では、光源１１とガラス１５，１６との間に、偏光ビームスプリッタ１３とをλ／４板１４とを配置したが、λ／４板１４を省略するとともに偏光ビームスプリッタ１３を通常のビームスプリッタに変更してもよい。
【００８８】
・ 第３の実施形態では、第１の実施形態の間隔測定装置を組み込んだ構成にしているが、第２の実施形態の間隔測定装置を組み込んでもよい。
・ 第１の実施形態において、２つのコーナーキューブ１８，１９をともに、移動可能に配置してもよい。この場合、両コーナーキューブ１８，１９の位置から、参照光Ｒと計測光Ｍとの光路長の差を求め、その光路長の差に基づいて第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を求める。
【００８９】
・ 第３の実施形態において、ダイクロイックミラー５７に代えて、ハーフミラーを採用してもよい。
【００９０】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、請求項１に記載の発明によれば、装置から第１及び第２の面までの距離とは無関係にその干渉光の状態が変化するので、装置全体を小型化することができる装置の汎用性を向上させることができる。また、第１の面からの反射光と第２の面からの反射光を無駄なく利用できる。
【００９１】
請求項２に記載の発明によれば、第１の面と第２の面との間隔を、より容易かつより高精度に求めることができる。
【００９２】
請求項３に記載の発明によれば、干渉光におけるＳ／Ｎ比を向上でき、耐ノイズ性を向上でき、一層高精度に間隔測定を行うことができる。
請求項４に記載の発明によれば、反射面から反射する光の無駄を著しく低減することができる。
【００９３】
請求項５に記載の発明によれば、第１及び第２の反射面で反射する光束が受ける空気の揺らぎや埃等の外乱の影響を共通化でき、間隔測定の精度を向上することができる。
【００９４】
請求項６に記載の発明によれば、より高精度に求められた参照面と被検面との間隔に基づいて、被検面の形状をより高精度に求めることができる。
請求項７に記載の発明によれば、面形状測定用光束の光路内において、参照面と被検面との間隔をより高精度かつ確実に測定することができ、被検物の面形状を容易にかつより高精度に測定することができる。
【００９５】
請求項８に記載の発明によれば、面形状測定時に間隔測定用光束が面形状測定手段側に導かれたり、間隔測定時に面形状測定用光束が間隔測定装置側に導かれたりするのを回避することができる。従って、面形状測定及び間隔測定の精度を高く維持することができる。
【００９６】
請求項９に記載の発明によれば、参照面と被検面との間隔測定時において、間隔測定用光束を無駄なく有効に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施形態の間隔測定装置を示す概略構成図。
【図２】 図１の間隔測定装置における光路長の説明図。
【図３】 図１の受光素子の入射する干渉光の特性図。
【図４】 本発明の第２の実施形態の間隔測定装置を示す概略構成図。
【図５】 本発明の第３の実施形態及び変更例の面形状測定装置を示す概略構成図。
【図６】 従来の間隔測定装置の一例を示す概略構成図。
【図７】 図６の受光素子に入射する干渉光の特性図。
【符号の説明】
１１…光源、１３…光束中継手段としての変更ビームスプリッタ、１４…変換手段としてのλ／４板、１７…分割手段としての分割ビームスプリッタ、１５ａ…第１の面としての第１の反射面、１６ａ…第２の面としての第２の反射面、２０…光路長変更手段としての移動ステージ、２２…干渉手段としての合成ビームスプリッタ、２３…第１検出手段としての第１受光素子、２４…第２検出手段としての第２受光素子、２５…測長手段を構成する主制御系、３０…環境調節手段としての筐体、４１…分割手段及び干渉手段を構成するハーフミラー、５１…面形状測定手段を構成するフィゾー型干渉計、５３ａ…参照面、５４…被検面、５６…間隔測定手段を構成する間隔測定ユニット、５７…間隔測定用光学手段としてのダイクロイックミラー、６１，６２…光路切替手段をなすシャッタ、６５…可動反射手段をなす全反射ミラー、Ｍ…第１の光束としての計測光、Ｍ１…第１の干渉光の１成分をなす計測光、Ｍ２…第２の干渉光の１成分をなす計測光、Ｌｄ…間隔測定用光束、Ｌｓ…面形状測定用光束、Ｒ…第２の光束としての参照光、Ｒ１…第１の干渉光の１成分をなす参照光、Ｒ２…第２の干渉光の１成分をなす参照光。
【発明の属する技術分野】
本発明は、光の干渉を利用して、光学素子の間隔や厚さ等を測定する間隔測定装置及び光学素子等の面形状を測定する面形状測定装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、光の干渉を利用して光学素子、例えばレンズ等の被検面の形状を測定する面形状測定装置がある。これらの面形状測定装置は、例えば形状が既知の曲面からなる参照面を有するフィゾーレンズを備えている。光軸に平行な光束をそのフィゾーレンズによって法線方向に広げて被検レンズの被検面に当て、光を参照面と被検面とで反射させて干渉させている。つまり、参照面と被検面との間の空気層を光路長差とした干渉を起こさせ、干渉の結果で得られる干渉縞に基づき、光学素子の形状等を測定している。しかしながら、この方法で得られた形状は、参照面と被検面との間隔が明らかでないため、被検面が法線に沿って一様に拡大または縮小した形状を有していても、それを把握することはできない。従って、真の形状を測定するためには、被検面上の少なく一箇所における参照面からの距離を既知にする必要がある。そこで、被検面と参照面との間の間隔を直接に非接触で測定する間隔測定装置が必要になっている。
【０００３】
この種の間隔測定装置としては、例えば図６に示すようなマイケルソン型干渉計を利用したものが知られている。この間隔測定装置は、所定波長の測定光を出射する光源１０１と、光学系１０２とハーフミラー１０３とを備えている。光学系１０２は、図示しないピンホール及びコリメートレンズ等からなり、光源１０１から出射された測定光を平行光束にしてハーフミラー１０３に入射させるようになっている。ハーフミラー１０３は、入射光束の一部を反射し、残りを透過する機能を有している。これにより、光源１０１側から入射した光束の一部が、間隔測定の対象である２枚のガラス１０４，１０５側へ反射され、残りの光束が反射ミラー１０６側へ透過される。
【０００４】
ガラス１０４，１０５側に反射された光束に対して、ガラス１０４のハーフミラー１０３側の表面、該ガラス１０４の裏面及びガラス１０５のハーフミラー１０３側の表面は、それぞれ反射面１０４ａ，１０４ｂ，１０５ａとなっている。前記反射ミラー１０６は、図示しない移動ステージに取り付けられ、該移動ステージとともに図６中の矢印の方向に移動可能になっている。反射ミラー１０６は、ハーフミラー１０３を透過した光束を反射してハーフミラー１０３に戻すようになっている。
【０００５】
ガラス１０４，１０５で反射した光束は、計測光としてハーフミラー１０３を透過して受光素子１０７に入射する。一方、反射ミラー１０６で反射した光束は、参照光としてハーフミラー１０３で反射されて該受光素子１０７に到る。これらの計測光と参照光とは、受光素子１０７上で干渉されるようになっている。そして、受光素子１０７により、干渉光が光電変換され、干渉信号として外部に出力される。
【０００６】
図７には、光源１０１に可干渉距離が測定する間隔よりも十分小さいものを使用したときの受光素子１０７に入射される干渉光の強度と、反射ミラー１０６の位置との関係が示されている。ここで、計測光が、ハーフミラー１０３で分離され、ガラス１０４の反射面１０４ａで反射され、再びハーフミラー１０３に到る光路の光路長をＡ１とする。また、計測光が、ハーフミラー１０３で分離され、ガラス１０４の反射面１０４ｂで反射され、再びハーフミラー１０３に到る光路の光路長をＡ２とする。さらに、計測光が、ハーフミラー１０３で分離され、ガラス１０５の反射面１０５ａで反射され、再びハーフミラー１０３に到る光路の光路長をＡ３とする。加えて、参照光が、ハーフミラー１０３で分離され、反射ミラー１０６で反射され、再びハーフミラー１０３に到る光路の光路長をＢとする。
【０００７】
ハーフミラー１０３により、反射面１０４ａ，１０４ｂ，１０５ａで反射した計測光は、反射ミラー１０６で反射した参照光と光路長差に応じて干渉することになる。つまり、各計測光と参照光とは、光路長Ａ１，Ａ２，Ａ３と光路長Ｂとがほぼ等しくなった時に干渉し、このときに強度変化する干渉光が得られる。よって、反射ミラー１０６の位置をずらすことにより、光路長Ｂが光路長Ａ１とほぼ等しくなると、受光素子１０７に入射される干渉光の強度は、図７の左側のように変化する。光路長Ｂが光路長Ａ２とほぼ等しくなると、受光素子１０７に入射される干渉光の強度は、図７の中央のように変化する。反射ミラー１０６の位置をさらにずらし、光路長Ｂが光路長Ａ３とほぼ等しくなると、受光素子１０７に入射される干渉光の強度は、図７の右側のように変化する。
【０００８】
なお、計測光と参照光とが分離されてハーフミラー１０３で再び合成されるまでの間で、計測光及び参照光が、例えば屈折率が低い媒質から入射して屈折率の高い媒質との境界面で反射するような場合、例えば反射面１０４ａ、１０５ａで反射する場合では、位相の１８０度反転、いわゆる位相の飛びを生じる。この場合、干渉光の強度分布は、図７の１０４ｂの干渉光の強度変化に対する１０４ａ，１０５ａの干渉光の強度変化のように、その振幅のほぼ中心に対して反転した状態となる。
【０００９】
そして、受光素子１０７が干渉光の強度分布に対応して出力する干渉信号と移動ステージで設定される反射ミラー１０６の位置とに基づいて、ガラス１０４の厚みや、ガラス１０４，１０５の間隔等が求められる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来構成の間隔測定装置では、マイケルソン型干渉計を基本構成にしているので、計測光の光路長Ａ１，Ａ２，Ａ３と参照光の光路長Ｂとをほぼ等しくしないと、強度が変化する干渉光が得られない。そのため、例えばガラス１０４，１０５がハーフミラー１０３から遠くに配置されている場合には、反射ミラー１０６も同様に該ハーフミラー１０３から離す必要があった。
【００１１】
また、例えばガラス１０４をフィゾーレンズにしたときには、光源１０１からの計測光をガラス１０４の光軸に平行にして該ガラス１０４に入射させる。そして、計測光の一部を、参照面をなす該ガラスの反射面１０４ｂからその法線方向に沿って出射させるとともに、被検面をなすガラス１０５の反射面１０５ａにて反射させ、再びガラス１０４に入射させる。
【００１２】
ここで、ガラス１０４にその光軸に平行に計測光を入射させるとともに、ガラス１０４，１０５で反射した計測光を前記光軸に平行にしてハーフミラー１０３に戻すために、複数枚のレンズからなるヌルレンズ系が必要になる。この場合、ヌルレンズ系における光路長が長くなるため光路長Ｂが長くなり、これに伴って光路長Ａが長くなる。よって、装置全体が大きくなるという問題があった。
【００１３】
また、前記従来構成の間隔測定装置では、参照光の光路を筐体内に収容して、空気の揺らぎの影響や埃りの影響を低減することはできる。しかしながら、計測光の光路は、その都度被検物の形状や配置状態が異なるため、前記筐体内に収容するのは困難である。そのため、計測光は空気の揺らぎの影響を受けやすく、参照光と計測光の条件が異なることになり、間隔の測定値に誤差が含まれる可能性があるという問題があった。
【００１４】
さらに、各光路長Ａ１，Ａ２，Ａ３と光路長Ｂとをそれぞれ等しくするために、ガラス１０４，１０５とハーフミラー１０３との距離に応じて、反射ミラー１０６の初期位置や移動可能距離を設定する必要がある。このため、計測対象となるガラス１０４，１０５の形状や配置状態に応じて、装置の構造を設計する必要があり、装置の汎用性を著しく低下させているという問題があった。
【００１５】
本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目されてなされたものである。その目的としては、光学素子の間隔や厚さを高精度で測定できるとともに、小型でかつ汎用性に優れた間隔測定装置を提供することにある。また、その他の目的としては、被検物の形状や配置状態の影響を低減でき、光学素子の面形状を高精度で測定できるとともに、小型でかつ汎用性に優れた面形状測定装置を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本願請求項１に記載の発明では、光源から出射された光束を第１の面に照射させるとともに、前記第１の面を透過した前記光束を第２の面に照射させ、前記第１の面及び第２の面からの反射光に基づいて該第１及び第２の面の間隔を求める間隔測定装置において、前記第１及び第２の面からの反射光を第１の光束及び第２の光束に分割する分割手段と、前記分割手段で分割された前記第１の光束と第２の光束を干渉させる干渉手段と、少なくとも前記第１の光束の光路長を前記第２の光束と干渉させる前に変化させる光路長変更手段と、前記干渉手段で干渉した干渉光の光情報と前記光路長とに基づいて前記第１及び第２の面の間隔を求める測長手段とを、備え、前記干渉手段は前記第１の光束と前記第２の光束とに基づいて互いに位相の反転した第１の干渉光と第２の干渉光とを発生させるとともに、前記測長手段は前記第１及び第２の干渉光をそれぞれ別々に検出する第１検出手段及び第２検出手段を有することを特徴とするものである。
【００１７】
この間隔測定装置では、第１及び第２の面から反射した光が分割手段によって第１及び第２の光束に分割され、この第１及び第２の光束がそれぞれ計測光と参照光として干渉手段によって干渉させられる。ここで、少なくとも第１の光束は光路長変更手段により光路長が変更される。そして、例えば第１の面で反射し第１の光束として干渉手段に入射した光束の光路と、第２の面で反射し第２の光束として干渉手段に入射した光束との光路長とが等しければ、干渉光はそのコントラストが最大の値をとる。また、第１の面で反射し第２の光束として干渉手段に入射した光束の光路と、第１の面で反射し第１の光束として干渉手段に入射した光束との光路長とが等しければ、干渉光はそのコントラストが最大の値をとる。そして、測長手段により、干渉手段で干渉した第１の光束と第２の光束との干渉光の強度分布と各光路長とから第１及び第２の反射面の間隔が求められる。また、この間隔測定装置では、前記干渉手段の前記第１の光束と前記第２の光束との干渉光を無駄なく利用できる。
【００１８】
ここで、第１の光束と第２の光束とでは、その光路長は、分割手段と干渉手段との間のみで変更され、その他の部分は同じになっている。このため、被検物の形状や配置状態に左右されることなく、各光束の光路長を設定することができ、装置全体の小型化を図ることができるとともに装置の汎用性を向上させることができる。
【００１９】
請求項２に記載の発明では、請求項１に記載の発明において、前記測長手段は、前記干渉光のコントラストが最大になったときの前記光路長に基づいて前記第１及び第２の反射面の間隔を求めるようにしたことを特徴とするものである。
【００２０】
この間隔測定装置では、第１及び第２の面の間隔が、干渉光のコントラストが最大になったときの各光束の光路長から、より容易かつより高精度に求められる。
【００２２】
請求項３に記載の発明では、請求項１に記載の発明において、前記測長手段は、前記第１検出手段の検出結果と前記第２検出手段の検出結果との差に基づいて前記第１及び第２の面間の間隔を求めるようにしたことを特徴とするものである。
【００２３】
この間隔測定装置では、位相が反転した第１及び第２の干渉光の差分をとることにより、一方の干渉信号の変化分をほぼ倍に増幅することができる。このため、干渉光におけるＳ／Ｎ比を向上でき、耐ノイズ性を向上できる。
【００２４】
請求項４に記載の発明では、請求項１〜請求項３のうちのいずれか一項に記載の発明において、前記光源と前記第１及び第２の面との間に、前記光源から出射された光束を反射または透過させ、所定方向と直交方向の直線偏光を透過または反射させる光束中継手段と、該所定方向の直線偏光の光束を円偏光の光束に変換する変換手段とを備え、前記第１及び第２の面からの反射光を前記変換手段及び前記光束中継手段を介して前記分割手段に導くようにしたことを特徴とするものである。
【００２５】
この間隔計測装置では、光源から出射された光束が光束中継手段と変換手段により、円偏光の光束となって第１及び第２の面に与えられる。そして、この円偏光の光束は、第１及び第２の面で反射される際に、その回転方向が反転される。そして、この第１及び第２の面から反射した光束が、変換手段を介して前記所定方向とは直交方向の直線偏光に変換される。これにより、この直交方向の直線偏光からなる光束は、光束中継手段を介して光源側に戻ることなく、ほぼ全量が分割手段に入射する。このため、光学素子の間隔を測定する際に、反射光の無駄を著しく低減することができる。
【００２６】
請求項５の発明では、請求項１〜請求項４のうちのいずれか一項に記載の発明において、前記分割手段から前記干渉手段に到る各光路の環境をほぼ一定に保つ環境調節手段を設けている。
【００２７】
この間隔測定装置では、第１及び第２の面からの反射光は前記分割手段にいたるまで光路が共通であるため、空気の揺らぎや埃等の外乱の影響を受けにくい。しかし、前記分割手段から前記干渉手段にいたる各光路は独立しているため、外乱の影響を受けやすい。そこで、環境調節手段により、各光路が受ける外乱を低減することにより、間隔測定の精度を向上することができる。
【００２８】
請求項６に記載の発明は、光源からの面形状測定用光束を所定の参照面及び測定対象物の被検面に照射し、該参照面及び被検面から反射した反射光束に基づいて該被検面の形状を求める面形状測定手段を備えた面形状測定装置において、請求項１〜請求項５のうちいずれか一項に記載の間隔測定装置を備え、前記参照面及び被検面からの反射光に基づいて該参照面と前記被検面との間隔を測定するようにしたことを特徴とするものである。
【００２９】
この面形状測定装置では、参照面と被検面との間隔が間隔測定装置にてより高精度に求められ、求められた参照面と被検面との間隔に基づいて被検面の形状が面形状測定手段にてより高精度に求められる。
【００３０】
請求項７に記載の発明では、請求項６に記載の発明において、前記参照面及び前記被検面と前記面形状測定手段との間の前記面形状測定用光束の光路中に配置され、前記面形状測定用光束の光軸とほぼ平行に前記参照面及び前記被検面へ間隔測定用光束を導くための間隔測定用光学手段を備えたことを特徴とするものである。
【００３１】
この面形状測定装置では、面形状測定用光束の光路内において、間隔測定用光束がその面形状測定用光束と平行な状態で参照面及び被検面に導かれる。このため、面形状測定用光束の光路内において、参照面と被検面との間隔をより高精度かつ確実に測定することができる。これにより、被検物の面形状を容易にかつより高精度に測定することができる。
【００３２】
請求項８に記載の発明では、請求項７に記載の発明において、前記間隔測定用光学手段は、前記面形状測定用光束と前記間隔測定用光束との光路を切り替える光路切替手段を備えたことを特徴とするものである。
【００３３】
この面形状測定装置では、光路切換手段による切り替えで、面形状測定用光束または間隔測定用光束が選択され、参照面及び被検面に照射される。これにより、面形状測定時に間隔測定用光束が面形状測定手段側に導かれたり、間隔測定時に面形状測定用光束が間隔測定手段側に導かれたりするのを回避することができる。従って、面形状測定及び間隔測定の精度を高く維持することができる。
【００３４】
請求項９に記載の発明では、請求項７に記載の発明において、前記間隔測定用光学手段は、前記面形状測定用光束の光路内に挿脱可能に配置され、前記間隔測定用光束をほぼ全反射する可動反射手段からなることを特徴とするものである。
【００３５】
この面形状測定装置では、光源からの間隔測定用光束がすべて面形状測定用光束の光路内に導かれるとともに、参照面及び被検面で反射した光がすべて間隔測定手段に入射される。このため、参照面と被検面との間隔測定時において、間隔測定用光束を無駄なく使用することができる。
【００３８】
【発明の実施の形態】
（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態の間隔測定装置の概要を、図１〜図３に基いて説明する。
【００３９】
この間隔測定装置は、光源１１と、該光源１１から出射された光を平行光束にする平行光学系１２と、該平行光学系１２からの平行光束を測定対象側へ反射するビームスプリッタ１３とを備えている。
【００４０】
光源１１としては、白色光を出射する白色光源或いは低コヒーレント光を出射するスーパールミネッセントダイオード（ＳＬＤ）等が使用される。ＳＬＤを使用するときには、コヒーレント長が数μｍから数１０μｍのＳＬＤ光を出射するものを選択することが望ましい。光源１１の近傍には、光束中継手段としての偏光ビームスプリッタ１３を配置する。この偏光ビームスプリッタ１３は、所定方向の直線偏光を反射するとともに、その所定方向に対する直交方向の直線偏光を透過するようになっている。この偏光ビームスプリッタ１３の近傍に変換手段としてのλ／４板１４が置かれており、前記所定方向の直線偏光は、このλ／４板１４を通過する際に、所定方向周りの円偏光に変換される。
【００４１】
図１における測定対象は、偏光ビームスプリッタ１３で反射された平行光束の光軸上に、自身の光軸が一致するように並べて配置された２枚のガラス１５，１６である。偏光ビームスプリッタ１３に近い方のガラス１５において、ガラス１６と対向する裏面は、第１の反射面１５ａを構成し、ビームスプリッタ１３からの光束の一部を反射し、残りを透過する。また、ガラス１６において、ガラス１５と対向する表面は、第２の反射面１６ａを構成し、ガラス１５を透過した光束を反射する。この第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａでの反射に際して、所定方向周りの円偏光は、その向きが反転され逆方向周りの円偏光になる。
【００４２】
ガラス１５，１６で反射した光はλ／４板１４に入射し、前記所定方向に対して直交方向の直線偏光に変換される。λ／４板１４を透過したガラス１５，１６で反射した光は、偏光ビームスプリッタ１３に進むようになっている。ここで、この偏光ビームスプリッタ１３は前記直交方向の直線偏光のみを透過するようになっているため、前記ガラス１５，１６で反射した光はそのほとんどが偏光ビームスプリッタ１３を透過して分割手段を構成する分割ビームスプリッタ１７に進む構成になっている。
【００４３】
分割ビームスプリッタ１７は、偏光ビームスプリッタ１３側から入射した光を第１の光束をなす計測光Ｍと第２の光束をなす参照光Ｒとに分割する。すなわち、この分割ビームスプリッタ１７は、偏光ビームスプリッタ１３側から入射した反射光の一部を参照光Ｒとして透過するとともに、残りを計測光Ｍとして直交方向に反射する。分割ビームスプリッタ１７で反射された計測光Ｍの光軸上には、その計測光Ｍを屈曲させるコーナーキューブ１８が配置されている。分割ビームスプリッタ１７を透過する参照光Ｒの光軸上には、前記コーナーキューブ１８と同様のコーナーキューブ１９が配置されている。
【００４４】
コーナーキューブ１８は、光路長変更手段である移動ステージ２０に取り付けられ、図１中の矢印の方向に移動可能になっている。移動ステージ２０の近傍には、その移動ステージ２０の位置を検出する図示しないステージ位置センサ２０ａが配設されている。前記コーナーキューブ１８で屈曲された計測光Ｍは、反射ミラー２１ａによって反射されて干渉手段である合成ビームスプリッタ２２に入射するようになっている。一方、コーナーキューブ１９は静止状態に固定されており、このコーナーキューブ１９で屈曲された参照光Ｒは、反射ミラー２１ｂによって反射されて合成ビームスプリッタ２２に入射するようになっている。
【００４５】
合成ビームスプリッタ２２は、計測光Ｍと参照光Ｒとを干渉させて、位相が反転した第１の干渉光と第２の干渉光を発生するとともに、これらを２方向に分けて出力する機能を有している。一方の第１の干渉光は、合成ビームスプリッタ２２を透過した計測光Ｍ１と該合成ビームスプリッタ２２で反射された参照光Ｒ１とが合成されたものとなる。この第１の干渉光は、第１検出手段としての第１受光素子２３に入射するようになっている。ここで、この第１の干渉光における計測光Ｍ１は、合成ビームスプリッタ２２を透過するため位相の反転が生じない。また、この第１の干渉光における参照光Ｒ１は、合成ビームスプリッタ２２で反射される。このとき参照光Ｒ１は、屈折率の低い媒質から入射して屈折率の高い媒質の境界面で反射するため、位相は反転する。
【００４６】
他方の第２の干渉光は、合成ビームスプリッタ２２で反射された計測光Ｍ２と該合成ビームスプリッタ２２を透過した参照光Ｒ２とが合成されたものとなる。この第２の干渉光は、第２検出手段としての第２受光素子２４に入射するようになっている。ここで、この第２の干渉光における計測光Ｍ２は、合成ビームスプリッタ２２で反射されるが、屈折率の高い媒質から入射して屈折率の低い媒質の境界面で反射するため、位相の反転は生じない。また、この第２の干渉光における参照光Ｒ２は、合成ビームスプリッタ２２を透過するため、位相の反転が生じない。これにより、第１の干渉光ではＲ１の位相が反転するのに対し、第２の干渉光ではＲ２の位相が反転しないので、第１受光素子２３に入射する第１の干渉光の光情報としての強度と、第２受光素子２４に入射する第２の干渉光の光情報としての強度とは、互いに位相が反転したものとなる。
【００４７】
各受光素子２３，２４及び前記ステージ位置センサ２０ａの出力信号は、測長手段を構成する主制御系２５に入力されるようになっている。この主制御系２５は、それら各受光素子２３，２４及び前記ステージ位置センサ２０ａの出力信号に基づき、第１の反射面１５ａ及び第２の反射面１６ａの間隔を求めるようになっている。また、主制御系２５は、間隔測定装置全体の動作を制御するようになっている。
【００４８】
光源１１、平行光学系１２、ビームスプリッタ１３、ビームスプリッタ１７，２２、コーナーキューブ１８，１９、反射ミラー２１ａ，２１ｂ及び受光素子２３，２４は、環境調節手段である筐体３０に収容されている。この筐体３０内は、前記主制御系２５の制御の下で、温度、湿度等の環境が一定に保たれるようになっている。
【００４９】
次に、図１の間隔測定装置により、第１の反射面１５ａと第２の反射面１６ａとの間隔を測定する場合の測定原理を説明する。
光源１１が出射した光は、平行光学系１２により平行光束となり、偏光ビームスプリッタ１３に入射する。偏光ビームスプリッタ１３は、平行光学系１２から入射した平行光束をλ／４板１４を透過してガラス１５，１６側へ反射する。
【００５０】
ガラス１５の第１の反射面１５ａ及びガラス１６の第２の反射面１６ａは、偏光ビームスプリッタ１３側から入射した平行光束をλ／４板１４を透過してそれぞれ偏光ビームスプリッタ１３側へ反射する。ガラス１５，１６で反射した光は、偏光ビームスプリッタ１３を透過して分割ビームスプリッタ１７に到る。
【００５１】
分割ビームスプリッタ１７は、ガラス１５，１６で反射した光を参照光Ｒと計測光Ｍとに分割し、参照光Ｒをコーナーキューブ１９に、計測光Ｍをコーナーキューブ１８にそれぞれ入射させる。コーナーキューブ１８は計測光Ｍを屈曲させて反射ミラー２１ａへ入射させ、該反射ミラー２１ａが計測光Ｍを反射して合成ビームスプリッタ２２に入射させる。コーナーキューブ１９は、参照光Ｒを屈曲させて反射ミラー２１ｂへ入射させ、該反射ミラー２１ｂが参照光Ｒを反射させて合成ビームスプリッタ２２へ入射させる。
【００５２】
合成ビームスプリッタ２２は、反射ミラー２１ａから入射した計測光Ｍの一部を第１受光素子２３側へ透過させるとともに、該計測光Ｍの残りを第２受光素子２４側へ反射させる。一方、合成ビームスプリッタ２２は、反射ミラー２１ｂから入射した参照光Ｒの一部を第１受光素子２３の方へ透過させるとともに、該参照光Ｒの残りを第２受光素子２４の方へ反射させる。よって、各受光素子２３，２４には、計測光Ｍ１，Ｍ２と参照光Ｒ１，Ｒ２との合成光がそれぞれ入射されることになる。但し、第１受光素子２３に入射される第１の干渉光と第２受光素子２４に入射される第２の干渉光とは、前述したように、成分の参照光Ｒ１，Ｒ２の位相が互いに逆転しているので、干渉光の強度の位相が反転している。
【００５３】
合成ビームスプリッタ２２に実際に入射する参照光Ｒには、反射及び透過によって異なった経路を通過した複数の光束が含まれる。ここで、第１の反射面１５ａと第２の反射面１６ａとの間隔を計測する場合には、反射面１５ａで反射して偏光ビームスプリッタ１３、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由した光束と、ガラス１５を透過して反射面１６ａで反射して偏光ビームスプリッタ１３、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由した光束とを利用する。以下、説明の簡素化のため、これらの２つの光束における光源１１から合成ビームスプリッタ２２に到る光路をＲの光路といい、光路長をｒという。
【００５４】
一方、合成ビームスプリッタ２２に実際に入射する計測光Ｍについても、反射及び透過によって異なった経路を通過した複数の光束が含まれる。ここで、第１の反射面１５ａ及び第２の反射面１６ａの間隔を計測する場合は、反射面１５ａで反射してビームスプリッタ１３、ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由した光束と、ガラス１５を透過して反射面１６ａで反射してビームスプリッタ１３、ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由した光束とを利用する。以下、説明の簡素化のため、これらの２つの光束における光源１１から合成ビームスプリッタ１１に到る光路をＭの光路といい、その光路長をｍという。
【００５５】
また、第１の反射面１５ａと第２の反射面１６ａとの間隔をＤとすると、反射面１５ａで反射された光束が分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由して合成ビームスプリッタ２２に到る参照光Ｒの光路と、反射面１６ａで反射された光束が同様の光路を経由して合成ビームスプリッタ２２に到る参照光Ｒの光路との差は、２Ｄとなる。同様に、反射面１５ａで反射された光束が分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由して合成ビームスプリッタ２２に到る計測光Ｍの光路と、反射面１６ａで反射された光束が同様の光路を経由して合成ビームスプリッタ２２に到る計測光Ｍの光路との差は、２Ｄとなる。
【００５６】
本実施形態では、合成ビームスプリッタ２２により、参照光Ｒと計測光Ｍとを干渉させ、コーナーキューブ１８の位置に応じて強度変化する干渉光を発生させる。ここで、参照光Ｒの光路長ｒは固定であるのに対して、計測光Ｍの光路長ｍは移動ステージ２０によって可変である。
【００５７】
移動ステージ２０によって光路長ｍと光路長ｒとがほぼ等しいとき（ｍ＝ｒ）、図２のように、光源１１から放射されてガラス１５の第１の反射面１５ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ15r と、光源１１から放射されて該反射面１５ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及反射ミラー２１ａを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ15m1とは、図２の破線枠内に示すように、光路長がほぼ等しくなる。このため、各受光素子２３，２４では、干渉によって強度が変化する干渉信号が得られる。また、光源１１から放射されてガラス１６の第２の反射面１６ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ16r と、光源１１から放射されてガラス１６の第２の反射面１６ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由してビームスプリッタ２２に至る光Ｌ16m1とは、図７の破線枠内に示すように、光路長がほぼ等しくなる。このため、各受光素子２３，２４では、干渉によって強度が変化する干渉信号が得られる。したがって、光路長ｍと光路長ｒとが等しくなる近辺では、第１受光素子２３は、図３の中央の波形を干渉信号として主制御系２５に出力する。
【００５８】
一方、光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ短い場合（ｍ＜ｒ）、光源１１から放射されてガラス１５の第１の反射面１５ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ15r の光路長と、光源１１から放射されてガラス１６の第２の反射面１６ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ16m2の光路長とがほぼ等しくなる。このため、各受光素子２３，２４では、干渉によって強度が変化する干渉信号が得られる。したがって、光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ短い場合では、第１受光素子２３は、図３の左側の波形を干渉信号として主制御系２５に出力する。
【００５９】
光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ長い場合（ｍ＞ｒ）、光源１１から放射されてガラス１６の第２の反射面１５ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１９及び反射ミラー２１ｂを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ16r の光路長と、光源１１から放射されてガラス１５の第１の反射面１５ａで反射し、分割ビームスプリッタ１７、コーナーキューブ１８及び反射ミラー２１ａを経由して合成ビームスプリッタ２２に至る光Ｌ15m3の光路長とがほぼ等しくなる。このため、各受光素子２３，２４では、干渉によって強度が変化する干渉信号が得られる。したがって、光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ長い場合では、第１受光素子２３は図３の右側の波形を干渉信号として主制御系２５に出力する。
【００６０】
一方、第２受光素子２４は、前記第１受光素子２３とは位相が反転した干渉信号を主制御系２５に出力する。つまり、第２受光素子２４は、図３の干渉信号の強度を中心値ＣＶで反転させた干渉信号を出力する。主制御系２５は、各受光素子２３，２４がそれぞれ出力する干渉信号の差信号を求める。差信号を求めることにより、干渉信号の強度変化を２倍に増幅できＳ／Ｎ比が向上するとともにオフセット分をキャンセルすることができる。主制御系２５は、差信号における包絡線の極大値或いは極小値を補間等で推定する。
【００６１】
ここで、光路長ｍと光路長ｒとがほぼ等しい場合において、干渉信号の差が極大値或いは極小値を取るときの移動ステージ２０の位置をＸ０とする。また、光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ短い場合において、干渉信号の差が極大値或いは極小値を取るときの移動ステージ２０の位置をＸ１とする。さらに、光路長ｒに対して光路長ｍが約２Ｄ短い場合において、干渉信号の差が極大値或いは極小値を取るときの移動ステージ２０の位置をＸ２とする。そして、主制御系２５は、（Ｘ１＋Ｘ２）／２の計算或いは、｜Ｘ０−Ｘ１｜または｜Ｘ０−Ｘ２｜の計算を行うことにより、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの距離、つまり間隔を求める。
【００６２】
以上のように構成した第１の実施形態の間隔測定装置は、以下のような効果が得られる。
（イ） この間隔測定装置では、第１の反射面１５ａ及び第２の反射面１６ａで反射した光束を、分割ビームスプリッタ１７に入射させ、該分割ビームスプリッタ１７で参照光Ｒと計測光Ｍとに分割する構成となっている。そして、それらの参照光Ｒと計測光Ｍとを、合成ビームスプリッタ２２で干渉させるようになっている。このため、偏光ビームスプリッタ１３からガラス１５，１６までの距離が長くても、この間の計測光Ｍ及び参照光Ｒの受ける空気の揺らぎ等の影響が共通になるので、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を、より高精度に測定することができる。
【００６３】
（ロ） この間隔測定装置では、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を求めるために、移動ステージ２０及びコーナーキューブ１８で調整する計測光Ｍの光路長ｍを、偏光ビームスプリッタ１３からガラス１５，１６までの距離に関わらず任意に設定できる。このため、偏光ビームスプリッタ１３からガラス１５，１６までの距離が長くなっても、間隔測定装置が大型化することがないだけでなく、小型化することも可能となる。
【００６４】
（ハ） この間隔測定装置では、偏光ビームスプリッタ１３からガラス１５，１６までの距離に関わらず、筐体３０内の構成を共通化できる。このため、間隔測定装置に広い汎用性を持たせることができ、その生産効率が向上して低コスト化することができる。
【００６５】
（ニ） この間隔測定装置では、第１及び第２受光素子２３，２４を備え、両受光素子２３，２４が互いに位相の逆転した干渉信号を出力し、両方の干渉信号の差を求めるようになっている。このため、例えば１つの受光素子２３のみを使用した場合よりも、参照光Ｒと計測光Ｍとの干渉による強度変化をほぼ２倍に増幅して取り出すことができ、間隔測定における感度が向上できる。従って、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を、さらに高精度に測定することができる。また、分割ビームスプリッタ１７及び合成ビームスプリッタ２２で透過または反射される光束をもれなく受光することができて、無駄がない。さらに、
（ホ） この間隔測定装置では、各受光素子２３，２４から出力される干渉信号の強度が最大または最小となったときの参照光Ｒと計測光Ｍとの光路長ｒ，ｍの差から第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を求めるようになっている。ここで、参照光Ｒの光路長ｒは固定であり、計測光Ｍの光路長ｍは移動ステージ２０の位置を検出することで容易かつ正確に求まる。このため、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を、容易かつ高精度に求めることができる。
【００６６】
（ヘ） この間隔測定装置では、光源１１は所定方向の直線偏光を出射するとともに、ガラス１５，１６との間に偏光ビームスプリッタ１３及びλ／４板１４が配設されている。このため、平行光学系１２からの平行光束のほとんど全てをガラス１５，１６に供給できるとともに、ガラス１５，１６で反射された光束のほとんど全てを、分割ビームスプリッタ１７に無駄なく導くことができる。従って、第１及び第２受光素子２３，２４により多くの光束を入射させることができ、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を、さらに高精度に測定することができる。
【００６７】
（ト） この間隔測定装置では、その構成の大部分が環境が一定に保たれた筐体３０内に収容されている。このため、計測光Ｍ及び参照光Ｒの受ける空気の揺らぎ等の影響を著しく低減することができ、第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔をより高精度に測定することができる。
（第２の実施形態）
前記第１の実施形態では、間隔測定装置の基本構成をマッハツェンダ型干渉計で構成したが、図４のように、マイケルソン型干渉計で構成することも可能である。
【００６８】
図４において、図１中の要素と共通する要素には、共通の符号が付されている。この間隔測定装置は、第１の実施形態と同様の光源１１、平行光学系１２、偏光ビームスプリッタ１３及びλ／４板１４を有し、ガラス１５，１６に対して光束を入射する構成になっている。ガラス１５の第１の反射面１５ａ及びガラス１６の第２の反射面１６ａで反射した光束は、偏光ビームスプリッタ１３を透過して分割手段及び干渉手段を構成するハーフミラー４１に入射する。ハーフミラー４１は、ガラス１５，１６側から入射された光の一部を可動反射ミラー４２側に計測光Ｍとして反射させ、残りを参照光Ｒとして透過させて固定反射ミラー４３へ入射する機能を持っている。
【００６９】
可動反射ミラー４２は、移動ステージ２０に固定されて第１の実施形態のコーナーキューブ１８と同様に移動するようになっており、ハーフミラー４１から入射された計測光Ｍを該ハーフミラー４１へ向けて反射する。固定反射ミラー４３は固定され、ハーフミラー４１から入射された参照光Ｒを再び該ハーフミラー４１へ反射する。ハーフミラー４１は、反射ミラー４２側から入射された計測光Ｍの一部を受光素子４４側へ透過させ、反射ミラー４３側から入射した参照光Ｒの一部を受光素子４４側へ反射させるようになっている。
【００７０】
よって，受光素子４４には，計測光Ｍと参照光Ｒの干渉光が入射されることになる。受光素子４４は、入射された光の強度に対応する干渉信号を主制御系２５に出力するものである。
【００７１】
この間隔測定装置では、ハーフミラー４１が計測光Ｍと参照光Ｒとを分割するとともに計測光Ｍと参照光Ｒとを干渉させる。ここで、計測光Ｍと参照光Ｒとが干渉する前に、移動ステージ２０で可動反射ミラー４２の位置をずらせて計測光Ｍの光路長を変化させる。これにより，第１の実施形態の図３と同様の干渉信号が得られる。図３と同様の干渉信号が得られると、主制御系２５は、干渉信号の包絡線における極大値或いは極小値から反射面１５ａ，１６ａの間隔が求められる。そして、主制御系２５は、極大値或いは極少値を干渉信号の補間によって求め、第１の実施形態と同様に、移動ステージ２０の位置からガラス１５，１６の間隔を求める。
【００７２】
以上の構成の第２の実施形態の間隔測定装置では、第１の実施形態と同様の効果に加えて、下記の効果が得られる。
（チ） この間隔測定装置では、ハーフミラー４１が計測光Ｍと参照光Ｒとを分離するとともに計測光Ｍと参照光Ｒとを干渉させるようになっている。このため、合成ビームスプリッタ２２等が不要になり、装置のさらなる小型化が可能になる。
（第３の実施形態）
本発明の第３の実施形態の面形状測定装置の概要を、図５を参照しつつ説明する。
【００７３】
図５の面形状測定装置は、面形状測定手段であるフィゾー型干渉計５１と、ヌルレンズ系５２と、フィゾーレンズ５３とを有している。前記フィゾー型干渉計５１は、例えばＨｅ−Ｎｅレーザ光からなる面形状測定用光束Ｌｓを発生する光源としてのレーザ光源５４を内蔵している。
【００７４】
前記ヌルレンズ系５２は、干渉計５１から出射された前記光束Ｌｓ及び干渉計５１に戻る前記光束Ｌｓをフィゾーレンズ５３の光軸に平行にする役割を担っている。ヌルレンズ系５２を通過した前記光束Ｌｓは、フィゾーレンズ５３に入射するようになっている。
【００７５】
前記フィゾーレンズ５３は、参照面５３ａを有しており、その参照面５３ａがレンズ、ミラー等の光学素子からなる測定対象物の被検面５５に対向するように配置されている。前記フィゾーレンズ５３は、参照面５３ａにおいてヌルレンズ系５２側から入射した前記光束Ｌｓの一部を反射させるとともに、残りを透過する機能を有している。フィゾーレンズ５３を透過した前記光束Ｌｓは、該レンズ５３の参照面５３ａの法線方向に進み、測定対象物の被検面５５で反射され、同じ光路を戻る構成になっている。
【００７６】
この面形状測定装置には、さらに、筐体３０内に収容された第１の実施形態の間隔測定装置が、間隔測定手段の間隔測定ユニット５６として組み込まれている。間隔測定ユニット５６から出射された間隔測定用光束Ｌｄは、間隔測定用光学手段としてのダイクロイックミラー５７に入射するようになっている。このダイクロイックミラー５７は、ヌルレンズ系５２と干渉計５１との間に常時配置されている。ダイクロイックミラー５７は、間隔測定用光束Ｌｄをその光軸が面形状測定用光束Ｌｓの光軸に平行になるように折り曲げ、該間隔測定用光束Ｌｄをヌルレンズ系５２を介してフィゾーレンズ５３及び被検面５５に入射させるように機能する。
【００７７】
この面形状測定装置は、フィゾーレンズ５３の参照面５３ａと被検面５５との相対距離を求めるとともに該被検面５５の形状を測定をする装置である。すなわち、フィゾー型干渉計５１が出射した面形状測定用光束Ｌｓは、ダイクロイックミラー５７を透過してヌルレンズ系５２に入射する。ヌルレンズ系５２は、干渉計５１側から入射した面形状測定用光束Ｌｓを平行にしてフィゾーレンズ５３へと透過させる。フィゾーレンズ５３は、ヌルレンズ系５２から入射した面形状測定用光束Ｌｓの一部を反射してヌルレンズ系５２側へ戻す。フィゾーレンズ５３を透過した面形状測定用光束Ｌｓは法線方向に広がり、被検面５５で反射されて該フィゾーレンズ５３を透過してヌルレンズ系５２に戻る。
【００７８】
ヌルレンズ系５２は、参照面５３ａ及び被検面５５側から反射された面形状測定用光束Ｌｓを干渉計５１に戻す。干渉計５１には、参照面５３ａで反射した面形状測定用光束Ｌｓと被検面５５で反射した面形状測定用光束Ｌｓとが、同じ光路を通過して入射する。このため、これらの反射した面形状測定用光束Ｌｓが干渉し、干渉計５１にて干渉縞が生じることになる。干渉計５１では、図示しない受光素子により、干渉縞を電気信号に変換し、該電気信号に基づき被検面の形状データを得る。
【００７９】
一方、間隔測定ユニット５６が出射する間隔測定用光束Ｌｄは、ダイクロイックミラー５７で反射して面形状測定用光束Ｌｓの光軸と平行に進み、ヌルレンズ系５２を介して参照面５３ａ及び被検面５５に達する。間隔測定用光束Ｌｄは、面形状測定用光束Ｌｓと同様に、参照面５３ａ及び被検面５５で反射し、ヌルレンズ系５２を透過してダイクロイックミラー５７に入射する。ダイクロイックミラー５７は、ヌルレンズ系５２側から進んできた間隔測定用光束Ｌｄを反射して間隔測定ユニット５６に入射させる。間隔測定ユニット５６は、内部で第１の実施形態と同様の処理を行って参照面５３ａ及び被検面５５の間隔を求める。この結果、フィゾーレンズ５３の参照面５３ａの曲率半径が既知であれば、該曲率半径に、面形状測定の結果と間隔測定の結果を加味することで、被検面５５の曲率半径の値もより高精度に求められる。
【００８０】
なお、被検面５５や参照面５３ａから反射した面形状測定用光束Ｌｓ及び間隔測定用光束Ｌｄは、両方ともダイクロイックミラー５７に進む。ここで、面形状測定用光束Ｌｓに、例えばＨｅ−Ｎｅレーザを使用した場合、その波長は６３３ｎｍである。この場合、間隔測定用光束Ｌｄに、波長が６８０ｎｍのＬＳＤ光を使用することが望ましい。このようにすることで、両光束Ｌｓ，Ｌｄを十分に分離することができるとともに、その波長が比較的近いためヌルレンズ系５２等で発生する収差を少なくすることができる。
【００８１】
このような構成の面形状計測装置では、以下のような効果が得られる。
（リ） この面形状測定装置では、第１の実施形態の間隔測定装置が間隔測定ユニット５６として組み込まれている。このため、間隔測定ユニット５６での被検面５５と参照面５３ａとの間の間隔測定結果を勘案して、フィゾー型干渉計５１により被検面５５の形状をより高精度に測定できるようになる。
（変形例）
なお、上記各実施形態は、例えば以下のようなが種々の変形が可能である。
【００８２】
・ 第３の実施形態では、ダイクロイックミラー５７をフィゾー型干渉計５１からの面形状測定用光束Ｌｓの光路内に常時配置して、間隔測定及び面形状測定の両方を同時にできるようにした。これに対して、例えば図５に一点鎖線で示すように、例えば面形状測定用光束Ｌｓの光路内に出没する光路切替手段としてのシャッタ６１を設けるとともに、間隔測定用光束Ｌｄの光路内に出没する光路切替手段としてのシャッタ６２を設けて、面形状測定用光束Ｌｓ及び間隔測定用光束Ｌｄの光路を適宜切り替えるように構成してもよい。
【００８３】
この場合、参照面５３ａと被検面５５との間隔測定を行う場合には、面形状測定用光束Ｌｓの光路内にシャッタ６１を挿入するととも間隔測定用光束Ｌｄの光路内からシャッタ６２を退避させて、間隔測定ユニット５６からの間隔測定用光束Ｌｄを参照面５３ａ及び被検面５５に導く。一方、面形状の測定を行う場合には、面形状測定用光束Ｌｓの光路内からシャッタ６１を退避させるととも間隔測定用光束Ｌｄの光路内にシャッタ６２を挿入し、フィゾー型干渉計５１からの面形状測定用光束Ｌｓを参照面５３ａ及び被検面５５に導く。このようにした場合、間隔測定用光束Ｌｄが干渉計５１内に導かれたり、面形状測定用光束Ｌｓが間隔測定ユニット５６内に導かれたりすることがなく、面形状測定及び間隔測定の精度を高く維持することができる。
【００８４】
・ 第３の実施形態では、ダイクロイックミラー５７をフィゾー型干渉計５１からの面形状測定用光束Ｌｓの光路内に常時配置して、間隔測定及び面形状測定の両方を同時にできるようにした。これに対して、例えば図５に二点鎖線で示すように、ダイクロイックミラー５７を可動反射手段としての全反射ミラー６５に変更し、その全反射ミラー６５を面形状測定用光束Ｌｓの光路内に挿脱可能に配置してもよい。
【００８５】
この場合、参照面５３ａと被検面５５との間隔測定を行う場合には、面形状測定用光束Ｌｓの光路内に全反射ミラー６５を挿入して、間隔測定ユニット５６からの間隔測定用光束Ｌｄを参照面５３ａ及び被検面５５に導く。一方、面形状の測定を行う場合には、面形状測定用光束Ｌｓの光路内から全反射ミラー６５を退避させ、フィゾー型干渉計５１からの面形状測定用光束Ｌｓを参照面５３ａ及び被検面５５に導く。このようにした場合、前記各実施形態の効果に加えて、間隔測定用光束Ｌｄを、無駄なく使用することができる。
【００８６】
・ 第１の実施形態では、２個の受光素子２３，２４を設け、位相が反転した干渉信号を出力させてＳ／Ｎ比を向上させていたが、Ｓ／Ｎ比を向上させる必要がないときには、第２の実施形態のように、１個の受光素子２３のみを設けて干渉信号を出力するようにしてもよい。
【００８７】
・ 第１及び第２の実施形態では、光源１１とガラス１５，１６との間に、偏光ビームスプリッタ１３とをλ／４板１４とを配置したが、λ／４板１４を省略するとともに偏光ビームスプリッタ１３を通常のビームスプリッタに変更してもよい。
【００８８】
・ 第３の実施形態では、第１の実施形態の間隔測定装置を組み込んだ構成にしているが、第２の実施形態の間隔測定装置を組み込んでもよい。
・ 第１の実施形態において、２つのコーナーキューブ１８，１９をともに、移動可能に配置してもよい。この場合、両コーナーキューブ１８，１９の位置から、参照光Ｒと計測光Ｍとの光路長の差を求め、その光路長の差に基づいて第１及び第２の反射面１５ａ，１６ａの間隔を求める。
【００８９】
・ 第３の実施形態において、ダイクロイックミラー５７に代えて、ハーフミラーを採用してもよい。
【００９０】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、請求項１に記載の発明によれば、装置から第１及び第２の面までの距離とは無関係にその干渉光の状態が変化するので、装置全体を小型化することができる装置の汎用性を向上させることができる。また、第１の面からの反射光と第２の面からの反射光を無駄なく利用できる。
【００９１】
請求項２に記載の発明によれば、第１の面と第２の面との間隔を、より容易かつより高精度に求めることができる。
【００９２】
請求項３に記載の発明によれば、干渉光におけるＳ／Ｎ比を向上でき、耐ノイズ性を向上でき、一層高精度に間隔測定を行うことができる。
請求項４に記載の発明によれば、反射面から反射する光の無駄を著しく低減することができる。
【００９３】
請求項５に記載の発明によれば、第１及び第２の反射面で反射する光束が受ける空気の揺らぎや埃等の外乱の影響を共通化でき、間隔測定の精度を向上することができる。
【００９４】
請求項６に記載の発明によれば、より高精度に求められた参照面と被検面との間隔に基づいて、被検面の形状をより高精度に求めることができる。
請求項７に記載の発明によれば、面形状測定用光束の光路内において、参照面と被検面との間隔をより高精度かつ確実に測定することができ、被検物の面形状を容易にかつより高精度に測定することができる。
【００９５】
請求項８に記載の発明によれば、面形状測定時に間隔測定用光束が面形状測定手段側に導かれたり、間隔測定時に面形状測定用光束が間隔測定装置側に導かれたりするのを回避することができる。従って、面形状測定及び間隔測定の精度を高く維持することができる。
【００９６】
請求項９に記載の発明によれば、参照面と被検面との間隔測定時において、間隔測定用光束を無駄なく有効に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施形態の間隔測定装置を示す概略構成図。
【図２】 図１の間隔測定装置における光路長の説明図。
【図３】 図１の受光素子の入射する干渉光の特性図。
【図４】 本発明の第２の実施形態の間隔測定装置を示す概略構成図。
【図５】 本発明の第３の実施形態及び変更例の面形状測定装置を示す概略構成図。
【図６】 従来の間隔測定装置の一例を示す概略構成図。
【図７】 図６の受光素子に入射する干渉光の特性図。
【符号の説明】
１１…光源、１３…光束中継手段としての変更ビームスプリッタ、１４…変換手段としてのλ／４板、１７…分割手段としての分割ビームスプリッタ、１５ａ…第１の面としての第１の反射面、１６ａ…第２の面としての第２の反射面、２０…光路長変更手段としての移動ステージ、２２…干渉手段としての合成ビームスプリッタ、２３…第１検出手段としての第１受光素子、２４…第２検出手段としての第２受光素子、２５…測長手段を構成する主制御系、３０…環境調節手段としての筐体、４１…分割手段及び干渉手段を構成するハーフミラー、５１…面形状測定手段を構成するフィゾー型干渉計、５３ａ…参照面、５４…被検面、５６…間隔測定手段を構成する間隔測定ユニット、５７…間隔測定用光学手段としてのダイクロイックミラー、６１，６２…光路切替手段をなすシャッタ、６５…可動反射手段をなす全反射ミラー、Ｍ…第１の光束としての計測光、Ｍ１…第１の干渉光の１成分をなす計測光、Ｍ２…第２の干渉光の１成分をなす計測光、Ｌｄ…間隔測定用光束、Ｌｓ…面形状測定用光束、Ｒ…第２の光束としての参照光、Ｒ１…第１の干渉光の１成分をなす参照光、Ｒ２…第２の干渉光の１成分をなす参照光。
Claims (9)
- 光源から出射された光束を第１の面に照射させるとともに、前記第１の面を透過した前記光束を第２の面に照射させ、前記第１の面及び第２の面からの反射光に基づいて該第１及び第２の面の間隔を求める間隔測定装置において、
前記第１及び第２の面からの反射光を第１の光束及び第２の光束に分割する分割手段と、
前記分割手段で分割された前記第１の光束と第２の光束を干渉させる干渉手段と、
少なくとも前記第１の光束の光路長を前記第２の光束と干渉させる前に変化させる光路長変更手段と、
前記干渉手段で干渉した干渉光の光情報と前記光路長とに基づいて前記第１及び第２の面の間隔を求める測長手段とを、備え、
前記干渉手段は前記第１の光束と前記第２の光束とに基づいて互いに位相の反転した第１の干渉光と第２の干渉光とを発生させるとともに、前記測長手段は前記第１及び第２の干渉光をそれぞれ別々に検出する第１検出手段及び第２検出手段を有することを特徴とする間隔測定装置。 - 前記測長手段は、前記干渉光の光情報として、前記干渉光のコントラストが最大になったときの前記光路長に基づいて前記第１及び第２の反射面の間隔を求めるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の間隔測定装置。
- 前記測長手段は、前記第１検出手段の検出結果と前記第２検出手段の検出結果との差に基づいて前記第１及び第２の面間の間隔を求めるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の間隔測定装置。
- 前記光源と前記第１及び第２の面との間に、前記光源から出射された光束を反射または透過させ、所定方向と直交方向の直線偏光を透過または反射させる光束中継手段と、所定方向の直線偏光の光束を円偏光の光束に変換する変換手段とを備え、前記第１及び第２の面からの反射光を前記変換手段及び前記光束中継手段を介して前記分割手段に導くようにしたことを特徴とする請求項１〜請求項３のうちのいずれか一項に記載の間隔測定装置。
- 前記分割手段から前記干渉手段に到る各光路の環境をほぼ一定に保つ環境調節手段を備えたことを特徴とする請求項１〜請求項４のうちいずれか一項に記載の間隔測定装置。
- 光源からの面形状測定用光束を所定の参照面及び測定対象物の被検面に照射し、該参照面及び被検面から反射した反射光束に基づいて該被検面の形状を求める面形状測定手段を備えた面形状測定装置において、
請求項１〜請求項５のうちいずれか一項に記載の間隔測定装置を備え、前記参照面及び被検面からの反射光に基づいて該参照面と前記被検面との間隔を測定するようにしたことを特徴とする面形状測定装置。 - 前記参照面及び前記被検面と前記面形状測定手段との間の前記面形状測定用光束の光路中に配置され、前記面形状測定用光束の光軸とほぼ平行に前記参照面及び前記被検面へ間隔測定用光束を導くための間隔測定用光学手段を備えたことを特徴とする請求項６に記載の面形状測定装置。
- 前記間隔測定用光学手段は、前記面形状測定用光束と前記間隔測定用光束との光路を切り替える光路切替手段を備えたことを特徴とする請求項７に記載の面形状測定装置。
- 前記間隔測定用光学手段は、前記面形状測定用光束の光路内に挿脱可能に配置され、前記間隔測定用光束をほぼ全反射する可動反射手段からなることを特徴とする請求項７に記載の面形状測定装置。
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