JP4660881B2 - 着色ガラスおよびその製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、着色ガラスおよびその製造方法に関し、特に、表面に形成される着色セラミックス膜が良好な発色を示し、意匠性、熱線反射性、耐擦傷性および耐薬品性に優れる着色ガラスおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
車両用の窓ガラスの表面には、その用途に応じて、各種の被膜が積層されている。例えば、車両用窓ガラスの周縁部には、ウレタン接着剤の紫外線による劣化防止、あるいは電熱線の端子部等が車外から透視されないようにする等を目的として、不透明層として着色セラミックス膜が設けられている。
【0003】
一方、車両用または建築物用の窓ガラスには、冷房負荷の低減、意匠性の向上、車室内のプライバシーの保護等を図るため、日射エネルギー透過量を低減するとともに、適正な可視光透過率を有することが求められ、さらに、車両デザインを損なわない色調を有することが求められている。日射エネルギー透過量の低減のために、着色ガラスを用いたり、透明なソーダライムガラスあるいは透過率の高い着色ガラスにCo、Cr、Fe等の金属酸化物からなる熱線反射性着色膜を被覆した積層ガラスが用いられている。中でも、ガラスのリサイクル性と熱線反射能の点では、後者の積層ガラスが望ましい。
【0004】
熱線反射性着色膜上の所定の箇所に着色セラミックス膜を積層したガラスを製造する場合、着色セラミックス膜を積層する部分には、Co酸化物等を含む熱線反射性着色膜を成膜する必要はないが、製造工程上、その部分だけ熱線反射性着色膜を積層しないようにすることは困難である。また、着色セラミックス膜を積層する前に、その部分の熱線反射性着色膜を除去する工程を行うのは、コストアップの原因となるため、熱線反射性着色膜の上に着色セラミックスペーストを塗布して着色セラミックス膜を形成せざるを得ない。
【0005】
Co酸化物等を含む熱線反射性着色膜の上に着色セラミックス膜を積層したガラスは、従来、CVD法、スプレー法等によりガラスを加熱してCo酸化物等を含む熱線反射性着色膜を成膜した後、着色セラミックスペーストを着色膜上の所定の箇所に塗布、焼成する方法により製造される。しかし、この方法で製造された積層膜は、Co酸化物等を含む着色膜上に形成した着色セラミックス膜の発色が、ガラス上に直接形成したものと比較すると悪く、意匠性を著しく低下させていた。また、この積層膜は、耐擦傷性にも劣り、さらに、積層膜の上に導電性銀ペースト膜を積層する場合には、その導電性銀ペースト膜の強度が低下したり、発色が不良となったりする等の問題もあった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、表面に着色膜、特にCo酸化物を含む着色膜上に形成した着色セラミックス膜が良好に発色し、意匠性、熱線反射性、耐擦傷性および耐薬品性に優れる着色ガラスおよびその製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明において、Co酸化物を含む着色膜とその上に積層する着色セラミックス膜について鋭意研究した結果、スパッタリングで成膜されたCo酸化物を含む着色膜の上に着色セラミックス膜を形成すると、着色セラミックス膜が良好な発色を示し、優れた意匠性を発揮する着色ガラスが得られることを知見した。
【0008】
すなわち、本発明は、ガラス基板と、該ガラス基板の表面にスパッタリングで成膜されたCo酸化物を含む着色膜と、該着色膜の上に積層された着色セラミックス膜とを有する着色ガラスを提供する。
【0009】
着色膜が、Fe、CrおよびNiから選ばれる少なくとも1種を含む酸化物膜(A)と、Coを含む酸化物膜(B)とを有する積層膜を形成した後、熱処理してなる膜であると、好ましい。
【0010】
また、本発明は、前記着色ガラスを製造する方法として、ガラス基板の表面にスパッタリングによりCo酸化物を含む着色膜を成膜した後、着色セラミックペーストを塗布して熱処理する着色ガラスの製造方法を提供する。
【0011】
本発明の着色ガラスは、ガラス基板と、該ガラス基板の少なくとも一面に、Co酸化物を含む着色膜と、該Co酸化物を含む着色膜上の所定の箇所に積層された着色セラミックス膜とを有する。
本発明の着色ガラスに用いられるガラス基板は、特に制限されず、着色ガラスの用途、機能等に応じて適宜選択される。例えば、着色ガラスが、車両用窓ガラスとして用いられる熱線反射性着色ガラスである場合には、ガラス基板として、無色透明なソーダライムガラス、緑色、褐色、灰色等の色調に着色されたガラス、Zn、Ag、Ce等の添加により紫外線吸収性を付与されたガラス等のいずれのガラスをも用いることができる。
【0012】
Co酸化物を含む着色膜は、Coを必須成分とする酸化物からなり、Co以外に、Fe、Cr、Ti、Ta、Nb、Mo、Mn、Si、Cu、Ba、Zn、Zr、C等を含む酸化物膜でもよい。Co酸化物を含む着色膜は、単層で構成されていてもよいし、複数層で構成されていてもよい。単層からなるCo酸化物を含む着色膜は、Coを含み、他の成分を含んでいてもよい。複数層からなるCo酸化物を含む着色膜は、少なくとも1層がCoを含む酸化物からなる層であり、他の層がFe、Cr、Ni等を含む酸化物層であってもよいし、複数層の全てがCoを含む酸化物層であってもよい。
【0013】
複数層で構成されているCo酸化物を含む着色膜として、Fe、CrおよびNiから選ばれる少なくとも1種を含む酸化物膜(A)と、その上にCoを含む酸化物膜(B)を積層してなる積層膜が挙げられ、該積層膜は、スパッタリング法によって容易に成膜できる点で、好ましい。
酸化物膜(A)は、Fe、CrおよびNi以外に、他の成分を含んでいてもよい。例えば、Ti、Ta、Nb、Mo、Mn、Si、Cu、Ba、Zn、Zr、C等を含む酸化物膜でもよい。
酸化物膜(B)は、Co以外に、Ti、Ta等を含む酸化物膜でもよい。
【0014】
単層のCo酸化物を含む着色膜においては、Co含有量は50質量%以上であることが好ましい。着色ガラスが熱線反射性着色ガラスである場合は、Co酸化物を含む着色膜は、60質量%のCo含有量であるのが好ましい。
【0015】
複数層で構成されるCo酸化物を含む着色膜、特に酸化物膜(A)と酸化物膜(B)とを有する前記Co酸化物を含む着色膜において、酸化物膜(A)におけるFe、CrおよびNiの含有量は、全金属に対してそれぞれFe60質量%以上、Cr10質量%以上、Ni5質量%以上であることが好ましい。酸化物膜(B)におけるCo含有量は全金属に対して60質量%以上であることが好ましい。
【0016】
本発明において、Co酸化物を含む着色膜は、Co酸化物を含む着色膜の上に積層する着色セラミックス膜の良好な発色が得られる点から、マグネトロンスパッタリング法によって成膜される。マグネトロンスパッタリング法で成膜することによって、工業的生産工程で、大規模かつインラインで、大面積のCo酸化物を含む着色膜を均一な膜厚および膜組成で形成することができる。
【0017】
マグネトロンスパッタリング法によるCo酸化物を含む着色膜の成膜は、前記成分に応じて組成を調整したターゲットを用い、放電電力、雰囲気組成、雰囲気ガス圧力、磁界の強さ、基板上のプラズマ密度、成膜速度等を適宜選択して行うことができる。
複数層で構成されるCo酸化物を含む着色膜は、同じ真空チャンバー内または異なる真空チャンバー内で、それぞれの酸化物膜に応じて選択されたターゲット材を用いて、順次、マグネトロンスパッタリングを行って成膜することができる。
【0018】
Co酸化物を含む着色膜の厚さは、着色ガラスに求められる光学特性等に応じて適宜選択することができる。例えば、着色ガラスが熱線反射着色ガラスである場合には、可視光透過率を20〜40%とし、膜面および他方の面の可視光反射率をそれぞれ20〜40%および10〜25%とする場合には、酸化物膜の厚さを10〜80nmとするのが好ましい。
【0019】
ガラス基板の表面に成膜された着色膜は、熱処理を施されるのが好ましい。熱処理は、着色膜の成膜直後に行ってもよいし、後記の着色セラミックス膜を積層した後、着色セラミックス膜の焼成あるいは着色セラミックス膜の積層後に行う曲げ加工時の加熱処理と同時に行ってもよい。
【0020】
本発明の着色ガラスの着色セラミックス膜は、結晶質ガラスフリット(および/または非晶質ガラスフリット)、耐熱性着色顔料および耐火物フィラーを主成分とするものである。
【0021】
着色セラミックス膜に用いられる結晶質ガラスフリットは、450〜700℃の温度域で結晶化するPbO−SiO2 系のガラスである。
【0022】
非晶質ガラスフリットは、結晶質ガラスフリットの流動性を調整するために添加するものであり、例えば、軟化温度400〜640℃のPbO−SiO2 等を主成分とするガラスである。
【0023】
着色セラミックス膜の厚さは、好ましくは15〜20μm程度である。
【0024】
この着色セラミックス膜の積層は、結晶質ガラスフリット(および/または非晶質ガラスフリット)、耐熱性着色顔料および耐火物フィラーを含む着色セラミックスペーストを、スクリーン印刷等によって、Co酸化物を含む着色膜上の所定の箇所および形状に焼成することにより形成することができる。
【0025】
着色セラミックスペーストの調製は、結晶質ガラスフリット(および/または非晶質ガラスフリット)、耐熱性着色顔料および耐火物フィラーを、有機ビヒクルに均一に混合し、塗布に適した粘度に調整して行うことができる。
【0026】
有機ビヒクルとしては、エチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ブチルメタクリレート、ロジン、ロジン誘導体等の樹脂成分を、バインオイル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等の溶媒に均質溶解させたものを用いることができる。
【0027】
焼成は500〜700℃、好ましくは630〜690℃で、大気雰囲気中で、3〜7分間加熱することにより行うことができる。焼成は、加熱温度および時間が同程度であれば、他の加熱処理と同時に行うことができる。例えば、着色ガラスが、車両用窓ガラスとして用いられる熱線反射性着色ガラスである場合には、着色セラミックスペーストをスクリーン印刷した後、車両用窓ガラスに成形する曲げ加工における加熱処理によって、焼成を同時に行うことができる。
【0028】
【実施例】
以下、本発明の実施例に基づき、本発明をより具体的に説明する。
(実施例1)
真空チャンバー内に配置したマグネトロンスパッタリング装置((株)島津製作所製、HSM−521)の所定の箇所に、Co72質量%、Fe8質量%およびCr20質量%の組成のCo系合金製ターゲットを配置し、さらに、ガラス基板(厚さ3.5mm×縦100mm×横100mmのグリーン着色ソーダライムガラス板)を基板ホルダーに載置した。油拡散ポンプを用いて、真空チャンバー内を2×10-4Paまで減圧した後、酸素ガスを50sccm導入して圧力を2×10-1Paに保った。ガラス基板を加熱しない状態で、室温でカソードに0.3kWの放電電力を投入して、マグネトロンスパッタリングで145秒間成膜し、厚さ60nmのCo酸化物を含む着色膜を形成した。
次に、着色膜上の所定の位置に、PbO−SiO2 を主成分とする結晶質ガラスフリット、PbO−SiO2 を主成分とする非晶質ガラスフリット、耐熱性着色顔料および耐火物フィラーを有機ビヒクルに均一に混合した着色セラミックスペーストを15μmの厚さにスクリーン印刷し、650℃で15分間、大気雰囲気中で加熱して焼付処理を行った。
【0029】
得られた積層ガラス試料は、図1に示すとおり、ガラス基板1の表面に、Co酸化物を含む着色膜2を有し、そのCo酸化物を含む着色膜2上に着色セラミックス膜3が積層された構造を有する。
【0030】
スパッタリング法により作製したものは、従来のCoを63質量%、Feを26質量%、Crを11質量%含有する酸化物膜をスプレー法により成膜したものと比べて明度が低く、かつニュートラルな色調となり、良好な発色を得ることができた。
【0031】
(実施例2)
真空チャンバー内に設置した二つのマグネトロンスパッタリング装置のそれぞれに、SUS304製ターゲットおよび純度99.9%のCo製ターゲットを配置し、さらにガラス基板(厚さ3.5mm×縦100mm×横100mmのグリーン着色ソーダライムガラス板)を基板ホルダーに載置した。次に、ターボ分子ポンプにより真空チャンバー内を1.0×10-4Pa以下まで減圧した後、酸素ガスを50sccm導入して圧力を2.6×10-1Paに保った。ガラス基板を加熱しない状態で室温で、SUS製ターゲットのカソードに0.5kWの放電電力を投入して、マグネトロンスパッタリングで30秒間成膜し、厚さ6nmのFe、Cr、Niを含む第1酸化物膜を形成した。次に、ガラス基板を加熱しない状態で室温で、Co製ターゲットのカソードに0.5kWの放電電力を投入して150秒間成膜し、第1酸化物膜の上に厚さ30nmのCo酸化物(Co100質量%)からなる第2酸化物膜を成膜した。
【0032】
次に、着色膜上の所定の位置に、PbO−SiO2 を主成分とする結晶質ガラスフリット、PbO−SiO2 を主成分とする非晶質ガラスフリット、耐熱性着色顔料および耐火物フィラーを有機ビヒクルに均一に混合した着色セラミックスペーストを15μmの厚さにスクリーン印刷し、650℃で15分間、大気雰囲気中で加熱して焼付処理を行った。
【0033】
得られた積層ガラス試料は、図2に示すとおり、ガラス基板4の表面に低温で成膜されたFe、CrおよびNiを含む第1酸化物膜5と、その上に低温で成膜されたCo酸化物からなる第2酸化物膜6を有し、さらに第2酸化物膜6の上に着色セラミックス膜7を有する構造を有するものである。この積層ガラス試料について、着色セラミックス膜の発色状態を観察したところ、良好な発色状態を示しニュートラルな色調が得られることが確認できた。また、積層ガラス試料の第酸化物膜の組成をX線光電子分光法を用いて分析した結果、Fe74質量%、Cr18質量%、Ni8質量%であった。
【0034】
(光学特性の評価)
実施例1および2で得られた積層ガラス試料について、可視光透過率、ならびに膜被覆面および他方の面の可視光反射率を、分光測定器によりC光源を用いて測定した。その結果、実施例1で得られた積層ガラス試料では、可視光透過率は32%、膜被覆面の可視光反射率は32%、他方の面の可視光反射率は21%であった。また、実施例2で得られた積層ガラス試料では、可視光透過率は31%、膜被覆面の可視光反射率は36%、他方の面の可視光反射率は21%であった。
【0035】
【発明の効果】
本発明の着色ガラスは、表面の積層膜、特にCo酸化物を含む着色膜上に形成した着色セラミックス膜が良好に発色し、意匠性、熱線反射性、耐擦傷性および耐薬品性に優れる。
また、本発明の方法によれば、上記着色ガラスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例1に係る積層ガラス試料の断面概念図である。
【図2】 実施例2に係る積層ガラス試料の断面概念図である。
【符号の説明】
1 ガラス基板
2 Co酸化物を含む着色膜
3 着色セラミックス膜
4 ガラス基板
5 第1酸化物膜
6 第2酸化物膜
7 着色セラミックス膜

Claims (4)

  1. ガラス基板と、
    前記ガラス基板上にマグネトロンスパッタリング法にて形成され、Coを含有せずかつFe、CrおよびNiを含有する第1酸化物膜と、
    前記第1酸化物膜上にマグネトロンスパッタリング法にて形成され、Coを含有する第2酸化物膜と、
    結晶質ガラスフリットおよび/または非晶質ガラスフリットを用いて構成され、前記第2酸化物膜上に形成される着色セラミックス膜とを備えたことを特徴とする着色ガラス。
  2. 前記結晶質ガラスフリットおよび前記非晶質ガラスフリットはPbO−SiO を主成分とすることを特徴とする請求項1に記載の着色ガラス。
  3. 真空チャンバー内に配置されたマグネトロンスパッタリング装置の基板ホルダーに、ガラス基板を搭載し、
    前記真空チャンバー内を減圧し、
    前記減圧した前記真空チャンバー内に酸素ガスを導入し、
    前記酸素ガスが導入された前記真空チャンバー内において、前記ガラス基板を加熱しない状態で、マグネトロンスパッタリング法で前記ガラス基板の表面にCo酸化物を含む膜を形成し、
    前記Co酸化物を含む膜上に、着色セラミックスペーストを印刷し、
    前記印刷された着色セラミックスペーストに熱を与えることにより着色セラミックス膜を形成することを特徴とする着色ガラスの製造方法。
  4. 真空チャンバー内に配置されたマグネトロンスパッタリング装置の基板ホルダーに、ガラス基板を搭載し、
    前記真空チャンバー内を減圧し、
    前記減圧した前記真空チャンバー内に酸素ガスを導入し、
    前記酸素ガスが導入された前記真空チャンバー内において、前記ガラス基板を加熱しない状態で、マグネトロンスパッタリング法で前記ガラス基板の表面にFe、CrおよびNiを含む第1酸化物膜を形成し、
    前記第1酸化物膜上に、前記ガラス基板を加熱しない状態で室温で、マグネトロンスパッタリング法でCoを含む第2酸化物膜を形成し、
    前記第2酸化物膜上に、着色セラミックスペーストを印刷し、
    前記印刷された着色セラミックスペーストに熱を与えることにより着色セラミックス膜を形成することを特徴とする着色ガラスの製造方法。
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