JP4650482B2 - 光導波路素子 - Google Patents
光導波路素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4650482B2 JP4650482B2 JP2007318484A JP2007318484A JP4650482B2 JP 4650482 B2 JP4650482 B2 JP 4650482B2 JP 2007318484 A JP2007318484 A JP 2007318484A JP 2007318484 A JP2007318484 A JP 2007318484A JP 4650482 B2 JP4650482 B2 JP 4650482B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical waveguide
- electrode
- layer
- upper electrode
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 267
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 44
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 43
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 116
- 238000000034 method Methods 0.000 description 66
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 43
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 23
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 7
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 6
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 4
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 3
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FOQABOMYTOFLPZ-ISLYRVAYSA-N Disperse Red 1 Chemical compound C1=CC(N(CCO)CC)=CC=C1\N=N\C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 FOQABOMYTOFLPZ-ISLYRVAYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 2
- KXSKAZFMTGADIV-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-hydroxyethoxy)propoxy]ethanol Chemical compound OCCOCCCOCCO KXSKAZFMTGADIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018182 Al—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000693243 Homo sapiens Paternally-expressed gene 3 protein Proteins 0.000 description 1
- 102100025757 Paternally-expressed gene 3 protein Human genes 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229910018594 Si-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008465 Si—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N lawrencium atom Chemical compound [Lr] CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 1
- 239000000382 optic material Substances 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/061—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on electro-optical organic material
- G02F1/065—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on electro-optical organic material in an optical waveguide structure
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/50—Protective arrangements
Description
大容量高速通信を支える技術の一つに、光通信技術がある。光通信に用いられる素子としては、光ファイバーをはじめとして、光スイッチ素子、光変調器やルーターなどの様々な光導波路素子がある。
また、上記以外では、接続用のコネクタを用いて電気的に接続する方法も提案されている(例えば、特許文献3参照)。
本発明の目的は、ワイヤボンディングによる光導波路の損傷が回避される光導波路素子を提供することにある。
前記熱硬化型の架橋樹脂としては、例えば、ポリイミド、ポリウレタン、ポリベンゾシクロロブテン、ポリアミドなどが挙げられ、前記紫外線硬化型の架橋樹脂としては、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。
D−P−A ・・・ 構造式(1)
構造式(1)中、Dは、電子供与性を有する原子団、Pは結合部、Aは電子吸引性を有する原子団、を表す。構造式(1)において、「D」で表される電子供与性を有する原子団としては、電子供与性を有するものであれば公知のものが用いられるが、電子供与性置換基を有する、脂肪族不飽和結合、芳香環、ヘテロ芳香環、及びそれらの組み合わせからなるものであることが好ましい。前記電子供与性置換基としては、電子供与性を有するものであれば特に限定されないが、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、などが望ましい。なお、前記アルキル基の一部がアルコキシ基やフェニル基で置換されてもよく、前記アルコキシ基の一部がアルコキシ基やフェニル基で置換されてもよく、また、前記アミノ基の一部がアルキル基やアルコキシ基、あるいはフェニル基で置換されてもよい。
マッハツェンダー型の光導波路17は、光の入射される入射光導波路部17C及び入射された光を出射する出射光導波路部17Dは一本の光路として形成され、途中で2本の入射光導波路部17A(以下、アーム部17Aと称する場合がある)及び入射光導波路部17B(以下、アーム部17Bと称する場合がある)に分岐されている。このため、入射光導波路部17Aに入射された光は、2本の光路(アーム部17A及びアーム部17B)各々へと分かれた後に、アーム部17A及びアーム部17B各々を伝播し、出射光導波路部17Dで合流して光導波路17の外部へと出射される。
一方、リッジ高さが3000nmを越えると、マルチモードとなって目的とする素子の機能を十分に発揮できなくなる場合がある。また、リッジ幅としては、1μm以上15μm以下の範囲が好ましく、3μm以上10μm以下の範囲がより好ましい。
保護部材22は、上部電極20を介して上部クラッド層18上に積層されている。すなわち、保護部材22は、上部電極20を覆うように上部クラッド層18の表面全面に形成されている。なお、保護部材22は、上部電極20を覆うように形成されていれば、上部クラッド層18の表面全面に形成する必要はない。
なお、放電・静電破壊抑制の点から、保護部材22の厚みは、例えば20μm以上1000μm以下とすることがよい。
このポーリング処理とは、成膜した後に、ガラス転移温度(Tg)以上に加熱した状態で電界を印加して配向処理することにより、光導波路17及び光導波路層16を構成する上記有機非線形材料の分極方向、あるいは、前記クロモフォアを有する有機非線形材料のクロモフォア部分の分極方向、に配向させ、これを維持した状態で、Tg以下に温度を下げた後に電界を取り除く処理をいう。
この逆リッジ型の光導波路17の形成方法としては、予め、下部クラッド層14へ、反応性イオンエッチング(RIE)、湿式エッチング、フォトリソグラフィ、電子線リソグラフィー等の半導体プロセス技術を用いた公知の方法によりパターニングを行い、該下部クラッド層14を加工してトレンチを形成し、その上に光導波路層16を形成することによって、逆リッジ型光導波路が形成される。
光導波路17を正逆リッジ型とすると、リッジ型、逆リッジ側に比べ、上部クラッド層18と下部クラッド層14との屈折率差を大きく取ることが可能となる。従って、電極による吸収損失を抑制し、かつ素子の実効電界を強めることが可能となることから、駆動電圧の低減をはかることが可能となる。
そして、上部電極20の対をなす電極は、下部電極12との間に電界が形成されたときに、その形成された電界内に位置する光導波路31の領域を伝播する光の位相を変化させるとともに、光導波路31に入射した光の強度が変調されて出射されるような位置に設けられていればよい。
はじめに、非線形光学材料の溶液として、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ポリスルホン、及びDR1(Disperse Red 1)を、前記すべての材料の総質量を100質量部としてそれぞれ、77質量部、9質量部、10質量部、及び4質量部からなる溶液(以下、PS溶液)を調製した。該材料の薄膜における屈折率をプリズムカップリング法により測定したところ、1.63であることを確認した。
続いて、光導波路層として上記調整した非線形光学材料の溶液(PS溶液)を塗布し、120℃の環境に60分間放置することで硬化させ、フォトリソグラフィに続くリアクティブイオンエッチング(RIE)によりマッハツェンダー型の光導波路を形成した。光導波路層の膜厚は3.3μmであり、光導波路のリッジ高さは0.7μm、幅は5μmであった。
このとき、マッハツェンダー型に形成した光導波路の2つのアーム部に対応する領域各々に、厚みが0.5μmの直方体状の上部電極を1つずつ形成し、これらを対となる上部電極20用の電極パッドとして定めた。
また、上記開口孔に、導通部23Bの金属膜の保護層とした。さらに、この保護部材22の該導通部の形成された領域に、レジストを塗布して、フォトリソグラフィにより配線電極のパターンを形成し、金をスパッタ、リフトオフすることで配線電極23A用の電極パッド(100μm×100μm、厚み1μm)を形成した。これによって、配線電極23Aとしての電極パッドと、導通部23Bと、配線電極23Cとしての電極パッドと、が設けられた保護部材22を作製した。
保護部材を設けなかった以外は、実施例1と同様にして光導波路素子(実施例1の光導波路部25に相当)を作製した後に、該光導波路素子を、実施例1と同様にしてモジュール筐体上に熱硬化性の接着剤を用いて、150℃で30分間加熱することにより固定した。次いで、このモジュール筐体をワイヤボンダーにセットし、200℃に加熱した上で、モジュール筐体と、光導波路素子の上部電極20と、をワイヤボンディングにより結線しようとしたところ、ワイヤボンディングによる熱及び圧力により光導波路層16に穴があき、電気的な接続を行うことができず、また光導波路に損傷が生じた。
12 下部電極
14 下部クラッド層
16 光導波路層
17 光導波路
18 上部クラッド層
20 上部電極
20A 上部電極
20B 上部電極
22 保護部材
23B 導通部
23A 配線電極
23C 配線電極
100、101、103 光導波路素子
Claims (5)
- 有機非線形光学材料を含む光導波路と、
前記光導波路の一方の面側に配された第1電極と、
前記光導波路の他方の面側に配された第2電極と、
前記第2電極上に積層された保護部材であって、該第2電極に近い側の第1面に設けられ且つ該第2電極に接続された第3電極、該第2電極に遠い側の第2面に設けられた第4電極、及び該保護部材を厚み方向に前記第1面から前記第2面へ貫通して前記第3電極と前記第4電極とを電気的に導通する導通部を有する保護部材と、
を備えたことを特徴とする光導波路素子。 - 前記光導波路は、マッハツェンダー型であることを特徴とする請求項1に記載の光導波路素子。
- 前記光導波路は、多モード干渉型であることを特徴とする請求項1に記載の光導波路素子。
- 前記光導波路は、前記第1電極側又は前記第2電極側に向かって凸状に突出した構造であることを特徴とする請求項1に記載の光導波路素子。
- 前記光導波路は、前記第1電極側及び前記第2電極側の双方側に向かって凸状に突出した構造であることを特徴とする請求項1に記載の光導波路素子。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007318484A JP4650482B2 (ja) | 2007-12-10 | 2007-12-10 | 光導波路素子 |
US12/190,685 US7639913B2 (en) | 2007-12-10 | 2008-08-13 | Optical waveguide element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007318484A JP4650482B2 (ja) | 2007-12-10 | 2007-12-10 | 光導波路素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009139843A JP2009139843A (ja) | 2009-06-25 |
JP4650482B2 true JP4650482B2 (ja) | 2011-03-16 |
Family
ID=40721776
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007318484A Expired - Fee Related JP4650482B2 (ja) | 2007-12-10 | 2007-12-10 | 光導波路素子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7639913B2 (ja) |
JP (1) | JP4650482B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8948554B2 (en) | 2011-10-10 | 2015-02-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Slot-line waveguide optical switch system and method |
EP2653908A1 (en) * | 2012-04-16 | 2013-10-23 | Leica Geosystems AG | Electro-optic modulator and electro-optic distance-measuring device |
US11373908B2 (en) * | 2019-04-18 | 2022-06-28 | 3D Glass Solutions, Inc. | High efficiency die dicing and release |
CN116931336A (zh) * | 2022-04-12 | 2023-10-24 | 深圳市中光工业技术研究院 | 集成光学耦合开关 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0590355A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-04-09 | Fujitsu Ltd | ワイヤボンデイング方法及び装置 |
JPH06120225A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光モジュールの製造方法 |
JPH10260382A (ja) * | 1997-03-17 | 1998-09-29 | Nec Corp | 光制御デバイス |
JP2006243145A (ja) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Fuji Xerox Co Ltd | 垂直積層型導波路デバイス、及びそのポーリング方法、その駆動方法、並びに導波路モジュール |
JP2007039907A (ja) * | 2005-08-01 | 2007-02-15 | Misawa Homes Co Ltd | 養生シートの取付構造 |
JP2007093643A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-12 | Laserfront Technologies Inc | 光レベル制御器とその制御方法並びにこれを用いたレーザ応用装置 |
JP2007304427A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 光スイッチング素子 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5347601A (en) * | 1993-03-29 | 1994-09-13 | United Technologies Corporation | Integrated optical receiver/transmitter |
KR100472056B1 (ko) * | 2002-10-31 | 2005-03-11 | 한국전자통신연구원 | 편광 무관형 폴리머 광세기 변조기 |
-
2007
- 2007-12-10 JP JP2007318484A patent/JP4650482B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-08-13 US US12/190,685 patent/US7639913B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0590355A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-04-09 | Fujitsu Ltd | ワイヤボンデイング方法及び装置 |
JPH06120225A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光モジュールの製造方法 |
JPH10260382A (ja) * | 1997-03-17 | 1998-09-29 | Nec Corp | 光制御デバイス |
JP2006243145A (ja) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Fuji Xerox Co Ltd | 垂直積層型導波路デバイス、及びそのポーリング方法、その駆動方法、並びに導波路モジュール |
JP2007039907A (ja) * | 2005-08-01 | 2007-02-15 | Misawa Homes Co Ltd | 養生シートの取付構造 |
JP2007093643A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-12 | Laserfront Technologies Inc | 光レベル制御器とその制御方法並びにこれを用いたレーザ応用装置 |
JP2007304427A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 光スイッチング素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7639913B2 (en) | 2009-12-29 |
JP2009139843A (ja) | 2009-06-25 |
US20090148111A1 (en) | 2009-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7925123B2 (en) | Optical control device | |
US7912326B2 (en) | Optical control device | |
US7873244B2 (en) | Light control device | |
US8600197B2 (en) | Optical control device | |
WO2007114367A1 (ja) | 光制御素子 | |
JP2008046573A (ja) | 光変調器 | |
JP4650482B2 (ja) | 光導波路素子 | |
JP4892840B2 (ja) | 垂直積層型導波路デバイスのポーリング方法及び垂直積層型導波路デバイスの駆動方法 | |
JP4742779B2 (ja) | 光導波路素子の製造方法 | |
JP3995537B2 (ja) | 光変調器 | |
JP2009098196A (ja) | 光導波路素子、及び光導波路素子のポーリング処理方法 | |
JP5055882B2 (ja) | 光導波路モジュール及びその製造方法 | |
JP2008039908A (ja) | 光導波路モジュールの製造方法、及びポーリング処理装置 | |
JP2009098197A (ja) | 光導波路素子及びその製造方法 | |
JPH04172316A (ja) | 導波型光制御デバイス | |
JP2009092985A (ja) | 導波路装置、及び導波路素子の駆動方法 | |
JP2009145475A (ja) | 導波路デバイス | |
JP5104610B2 (ja) | 導波路デバイス | |
JP2009098195A (ja) | 光導波路素子 | |
JP2017181851A (ja) | 光変調器 | |
CA2417298A1 (en) | Optical modulation device having excellent electric characteristics for effectively restricting thermal drift and method for manufacturing the same | |
JP2005010355A (ja) | 導波路型光デバイスの製造方法及び導波路型光デバイス | |
JP4269546B2 (ja) | 光変調器 | |
JP4754670B2 (ja) | 光導波路素子 | |
JP2004245991A (ja) | 光導波路デバイスおよび光導波路デバイスと光伝送部材との結合構造 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100831 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101026 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101116 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131224 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |