JP5055882B2 - 光導波路モジュール及びその製造方法 - Google Patents
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大容量高速通信を支える技術の一つに、光通信技術がある。光通信に用いられる素子としては、光ファイバをはじめとして、光スイッチ素子、光変調器やルーターなどの様々な光導波路素子がある。
また、上記以外では、接続用のコネクタを用いて電気的に接続する方法も提案されている(例えば、特許文献3参照。)。
本発明の目的は、ワイヤボンディングによる素子の損傷を回避することができる光導波路モジュールの製造方法、及び該製造方法により得られる光導波路モジュールを提供することにある。
<1> 基板上に、下部電極層を形成する工程、
該下部電極層上に有機材料を含む下部クラッド層を形成する工程、
前記下部電極層を形成後、下部クラッド層を形成するまでの間に、導波路層に対して電界を印加するための制御電極パターンおよび該制御電極パターンに接続する電気接続用のボンディングパッドを形成する工程、
前記下部クラッド層上に有機材料を含む導波路層を形成する工程、及び
前記導波路層の上部に有機材料を含む上部クラッド層を形成する工程、を少なくとも含み、且つ前記下部クラッド層、導波路層、および上部クラッド層を前記ボンディングパッドが露出するよう形成する光導波路素子作製工程と、
前記光導波路素子作製工程により作製した光導波路素子をモジュール筐体に固定し、該モジュール筐体の電極パッドと、前記ボンディングパッドとをワイヤボンディングにより結線する工程と、
を含むことを特徴とする光導波路モジュールの製造方法である。
本発明の光導波路モジュールは、基板上に、下部電極層を形成する工程、該下部電極層上に有機材料を含む下部クラッド層を形成する工程、前記下部電極層を形成後、下部クラッド層を形成するまでの間に、導波路層に対して電界を印加するための制御電極パターンおよび該制御電極パターンに接続する電気接続用のボンディングパッドを形成する工程、前記下部クラッド層上に有機材料を含む導波路層を形成する工程、及び前記導波路層の上部に有機材料を含む上部クラッド層を形成する工程、を少なくとも含み、且つ前記下部クラッド層、導波路層、および上部クラッド層を前記ボンディングパッドが露出するよう形成する光導波路素子作製工程と、前記光導波路素子作製工程により作製した光導波路素子をモジュール筐体に固定し、該モジュール筐体の電極パッドと、前記ボンディングパッドとをワイヤボンディングにより結線する工程と、を含むことを特徴としている。
また、本発明の光導波路モジュールは、基板上に、少なくとも、制御電極パターンと、有機材料を含む下部クラッド層と、有機材料を含む導波路層と、有機材料を含む上部クラッド層と、前記制御電極パターンに接続し且つ前記下部クラッド層、導波路層、および上部クラッド層に覆われずに露出する電気接続用のボンディングパッドとを少なくとも有する光導波路素子の前記ボンディングパッドと、モジュール筐体の電極パッドとがワイヤボンディングにより結線されていることを特徴としている。
以下に、本発明の光導波路モジュール及びその製造方法について順を追って説明する。
以下に、本発明の光導波路モジュールの製造方法について、順を追って説明する。
まず、基板の表面に、下部電極層として金属材料を堆積する。上記基板としては、各種金属基板(アルミニウム、金、鉄、ニッケル、クロム、ステンレスなど)、各種半導体基板(シリコン、酸化シリコン、酸化チタン、酸化亜鉛、ガリウム−ヒ素など)、ガラス基板、プラスチック基板(PET(ポリエチレンテレフタレート)、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセテート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリスチレン、ポリアミドなど)、等を用いることができる。これらの基板は厚く剛直でもよいし、薄く柔軟でもよい。半導体基板、ガラス基板、プラスチック基板の表面には、下部電極層が形成される。
これらの下部電極層は、蒸着、スパッタリング、塗布や電解析出法などにより形成される。
D−P−A ・・・ 構造式(1)
構造式(1)中、Dは、電子供与性を有する原子団、Pは結合部、Aは電子吸引性を有する原子団、を表す。構造式(1)において、「D」で表される電子供与性を有する原子団としては、電子供与性を有するものであれば公知のものを用いることができるが、電子供与性置換基を有する、脂肪族不飽和結合、芳香環、ヘテロ芳香環、及びそれらの組み合わせからなるものであることが好ましい。前記電子供与性置換基としては、電子供与性を有するものであれば特に限定されないが、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、などが望ましい。なお、前記アルキル基の一部がアルコキシ基やフェニル基で置換されてもよく、前記アルコキシ基の一部がアルコキシ基やフェニル基で置換されてもよく、また、前記アミノ基の一部がアルキル基やアルコキシ基、あるいはフェニル基で置換されてもよい。
これらの制御用電極(下部電極、上部電極)は、公知の方法、例えば、DCマグネトロン・スパッタリング法、電子ビーム蒸着法、電解メッキ法、フラッシュ蒸着法、イオン・プレーティング法、RFマグネトロン・スパッタリング法、イオン・ビーム・スパッタリング法、レーザー・アブレーション法、MBE法、CVD法、プラズマCVD、MOCVD法などより選ばれる気相成長法、またはゾルゲル法、MOD法などのウエット・プロセスによって、オーバークラッド層表面から薄膜成長を行うことができる。
以上のように、本発明の光導波路デバイスの製造方法では、上部電極上に制御電極パターンとボンディングパッドを形成する従来の製造方法とは異なり、下部クラッド層を形成する前に制御電極パターン(ボンディングパッドを含む)を形成することで、ワイヤボンディングによる素子の損傷を防ぐことができる。
導波路層の材料として、下記構造式で表されるポリカーボネート樹脂を、THF1質量部とシクロヘキサノン4質量部とを混合した溶媒中に溶解し、15質量%の樹脂溶液を調製した。次いで、この樹脂溶液中に、Dispers Red 1を固形分比として20質量%となる量だけ添加して溶解し、導波路層用塗布液とした。
石英基板上に、金の電極を全面にスパッタにより形成した後、実施例1と同様にして上部クラッド層形成し、次いで、上部クラッド層上に、フォトリソグラフィーを用いて制御電極パターンを形成した後、スパッタ法によりAuを厚さ0.3μm成膜し、リフトオフ法により制御電極を形成した。
12 基板
13 制御電極パターン
14 下部クラッド層
16 導波路層
18 上部クラッド層
20 上部電極
22 ボンディングパッド
Claims (9)
- 基板上に、下部電極層を形成する工程、
該下部電極層上に有機材料を含む下部クラッド層を形成する工程、
前記下部電極層を形成後、下部クラッド層を形成するまでの間に、導波路層に対して電界を印加するための制御電極パターンおよび該制御電極パターンに接続する電気接続用のボンディングパッドを形成する工程、
前記下部クラッド層上に有機材料を含む導波路層を形成する工程、及び
前記導波路層の上部に有機材料を含む上部クラッド層を形成する工程、を少なくとも含み、且つ前記下部クラッド層、導波路層、および上部クラッド層を前記ボンディングパッドが露出するよう形成する光導波路素子作製工程と、
前記光導波路素子作製工程により作製した光導波路素子をモジュール筐体に固定し、該モジュール筐体の電極パッドと、前記ボンディングパッドとをワイヤボンディングにより結線する工程と、
を含むことを特徴とする光導波路モジュールの製造方法。 - さらに、上部クラッド層上にワイヤボンディングが施されない上部電極を形成する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の光導波路モジュールの製造方法。
- 前記導波路層が、電気光学効果を有する導波路層であることを特徴とする請求項1または2に記載の光導波路モジュールの製造方法。
- 導波路層を形成した後、パターンニングを行い、リッジ型の構造に加工することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の光導波路モジュールの製造方法。
- 下部クラッド層を形成した後、パターンニングを行い、該下部クラッド層を加工してトレンチを形成する工程と、この上に、導波路層を形成することにより、逆リッジ型の構造を得ることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の光導波路モジュールの製造方法。
- 基板上に、少なくとも、制御電極パターンと、有機材料を含む下部クラッド層と、有機材料を含む導波路層と、有機材料を含む上部クラッド層と、前記制御電極パターンに接続し且つ前記下部クラッド層、導波路層、および上部クラッド層に覆われずに露出する電気接続用のボンディングパッドとを少なくとも有する光導波路素子の前記ボンディングパッドと、モジュール筐体の電極パッドとがワイヤボンディングにより結線されていることを特徴とする光導波路モジュール。
- さらに、前記上部クラッド層上に、ワイヤボンディングが施されない上部電極を有することを特徴とする請求項6に記載の光導波路モジュール。
- 前記導波路層が電気光学効果を有することを特徴とする請求項6または7に記載の光導波路モジュール。
- 前記導波路層を加工して得られた導波路の構造が、リッジ型、あるいはトレンチが形成された逆リッジ型の構造であることを特徴とする請求項6から8のいずれか1項に記載の光導波路モジュール。
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