JP4648596B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4648596B2 JP4648596B2 JP2001276084A JP2001276084A JP4648596B2 JP 4648596 B2 JP4648596 B2 JP 4648596B2 JP 2001276084 A JP2001276084 A JP 2001276084A JP 2001276084 A JP2001276084 A JP 2001276084A JP 4648596 B2 JP4648596 B2 JP 4648596B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring
- semiconductor device
- internal terminal
- wafer
- insulating substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
- H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8319—Arrangement of the layer connectors prior to mounting
- H01L2224/83192—Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
Landscapes
- Die Bonding (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、樹脂封止型半導体装置の製造方法と、それに使用する配線板とに係り、特にウエハレベルでの半導体装置の製造に使用するための配線板と、CSPタイプの半導体装置製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体装置は、電子機器の高性能化、小型化、薄型化の傾向からLSIのASICに代表されるように、ますます高集積化、高性能化が進んでいる。従来の半導体装置の製造は、ウエハ工程を経たウエハに対し、裏面研磨を施してからダイジングを行い、各ペレット(チップないし半導体素子とも言う)に切断分離した後、ペレット毎に、ダイボンディング、ワイヤボンディング、樹脂封止等を行い、半導体装置に組み上げており、ワイヤボンディング法による半導体素子とリードフレームとの電気接続が行なわれていた。
【0003】
近年、チップのバンプを用いたフリップチップ接続が、高速信号処理の点でワイヤボンディングよりも優れることから、採用されるようになってきた。フリップチップ接続には、パッケージングされていないチップをそのままプリント基板に搭載するベアチップ実装という方法もあるが、取扱いが難しく、信頼性保証の観点からは、パッケージングされたバンプ付き半導体装置が望ましい。
【0004】
一方、パッケージングされたバンプ付き半導体装置を形成する方法として、ウエハレベルで配線形成、外部端子部(メタルポストからなる)形成、樹脂封止、バンプ形成を行った後、各半導体装置に切断分離して、CSP(Chip Scale Package)を形成する製造方法が提案されている(Chip Scale International 99/SEMI 1999)。このようにして作製されたCSPをウエハレベルCSPとも言い、このウエハレベルCSPの作製を、ここでは、ウエハレベルでの半導体装置の作製と言う。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
従来のウエハレベルでの半導体装置の作製では、ウエハレベルで配線を形成した後の外部端子部の形成において、フォトレジストを用いた電解めっきにより高さが50〜100μm程度のメタルポストを形成し、次いで、エポキシ樹脂等を用いてメタルポストを埋めるように樹脂封止を行い、その後、この樹脂層をメタルポストが露出するまで研磨することが行なわれていた。しかし、このように複数の工程を経由する作業は極めて煩雑であり、また、ウエハ上で種々の工程が行なわれるため、これらの工程で欠陥箇所が生じた場合には、ウエハの該当箇所が使用できないことになり、製造効率の低下を来たすという問題があった。
【0006】
また、上記のメタルポストは、通常、高さが50〜100μm、直径が50〜200μm程度であり、太く剛性が大きい。このため、ウエハを各半導体装置に切断分離して得たCSPを基板に実装し、この状態で温度変化を繰り返し受けると、半導体装置と実装基板間の熱膨張係数の違いに起因する熱歪みが発生し、半導体装置のメタルポスト近傍にクラックを生じるという問題があった。
本発明は、上記のような実情に鑑みてなされたものであり、ウエハレベルでの半導体装置の作製を容易で、かつ、効率の高いものとするためのウエハレベルパッケージ用の配線板と半導体装置製造方法とを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明の半導体装置製造方法は、絶縁基板と、ウエハにおける半導体素子の配置に対応した配置で前記絶縁基板の一方の面に形成された複数の内部端子配線と、各内部端子配線に対応するように前記絶縁基板の他方の面に形成された複数の外部端子配線と、前記内部端子配線の所定部位に形成されたバンプと、対応する前記内部端子配線と外部端子配線とを導通するために前記絶縁基板に形成された複数のスルーホール内に設けられた導電層と、を備え、前記バンプの高さが10〜30μmの範囲内で設定されているウエハレベルパッケージ用の配線板上に、前記内部端子配線を覆い、かつ、前記バンプの頂部が露出するように絶縁性封止用接着層を形成し、ウエハ工程完了後のウエハレベルで、各半導体素子の端子に前記バンプが当接するように前記絶縁性封止用接着層を介して前記配線板を接着する工程を有するような構成とした。
また、本発明の好ましい態様として、前記バンプの表面に金めっき層を設けるような構成とした。
また、本発明の好ましい態様として、前記外部端子配線の端子パッド上に半田層を設けるような構成とした。
また、本発明の好ましい態様として、前記絶縁基板の厚みを50〜100μmの範囲とするような構成とした。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
図1は、本発明のウエハレベルパッケージ用の配線板の一実施形態を示す部分縦断面図である。図1において、本発明の配線板1は、絶縁基板2と、この絶縁基板2の一方の面に形成された複数の内部端子配線3と、絶縁基板2の他方の面に形成された複数の外部端子配線4と、内部端子配線3の所定部位に形成されたバンプ5と、内部端子配線3と外部端子配線4の所定の部位を導通するために絶縁基板2に形成されたスルーホール6内に設けられた導電層7、とを備えるものである。内部端子配線3と外部端子配線4は、それぞれ、ウエハレベルの半導体素子の配置に対応した配置で形成されており、図示例では、1a,1bの2組が示されている。
【0011】
配線板1を構成する絶縁基板2は、ガラスエポキシ基板、ポリイミド基板、アルミナセラミックス基板、ガラスエポキシとポリイミドの複合基板等、配線板用の基板として公知の基板を使用することができる。この絶縁基板2の厚みは、例えば、50〜100μmの範囲で適宜設定することができる。
【0012】
配線板1を構成する内部端子配線3と外部端子配線4、および、導電層7の材質は、銅、銀、金、ニッケル、クロム、白金等の公知の導電材料を用いることができ、例えば、以下のようにして形成することができる。まず、絶縁基板2の両面およびスルーホール6内に無電解めっき法で導電性薄膜を形成し、この導電性薄膜上に電解めっき法で導電層を形成する。これにより、絶縁基板2の両面と、スルーホール6の内壁に導電層が形成される。次に、絶縁基板2の表面、裏面に形成された導電層上に、それぞれ所望のレジストパターンを形成し、このレジストパターンを介して導電性薄膜と導電層をエッチングすることにより内部端子配線3と外部端子配線4を形成する。その後、レジストパターンを除去し、スルーホール6内に樹脂等を充填する。内部端子配線3、外部端子配線4は、そのピッチが小さいほど高密度に配線を引きまわせるが、配線幅が5μm未満になると電気抵抗が大きくなるので、配線幅は5μm以上であり、また、厚みは1〜10μmの範囲が好ましい。
【0013】
配線板1を構成するバンプ5は、後述する本発明の半導体装置製造方法において、ウエハレベルの半導体素子の端子との接続を行うための部材であり、高さは10〜30μm程度、幅(径)は50〜200μm程度の範囲で設定することができる。このバンプ5は、電解めっきにより形成することができ、材質は銅、銀、金、ニッケル、クロム、白金等の公知の導電材料であってよい。また、バンプ5は、上記の導電材料を含有した導電ペーストを用いて形成することもできる。さらに、バンプ5は、その表面に金めっき層、金−スズめっき層等を備えるものでもよい。
本発明の配線板1では、図1に鎖線で示すように、外部端子配線4の端子パッド上に半田層8を備えるものとしてもよい。半田層8の形状は、図示のようなボール形状が好ましいが、特に制限はない。
【0014】
次に、本発明の半導体装置製造方法について説明する。
図2は、本発明の半導体装置製造方法の一実施形態を示す工程図である。
本発明では、まず、本発明のウエハレベルパッケージ用の配線板上に、内部端子配線を覆い、かつ、バンプの頂部が露出するように絶縁性封止用接着層を形成する。図2(A)は、上述の本発明のウエハレベルパッケージ用の配線板1を用いた例であり、配線板1の内部端子配線3を覆い、バンプ5の頂部5aが露出するように絶縁性封止用接着層10が形成されている。この絶縁性封止用接着層10は、後述する工程で、配線板1をウエハ11に接着する作用をなし、また、配線板1の内部端子配線3と、半導体素子の内部端子を封止する絶縁樹脂層の役割を果たすものである。
【0015】
上記の絶縁性封止用接着層10は、いわゆるアンダーフィル、あるいは、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フルオレン樹脂等の熱硬化型、放射線硬化型の樹脂材料、これらの樹脂材料とガラス繊維等との複合材料を用いて形成することができる。絶縁性封止用接着層10の厚みは、上記のバンプ5の高さに応じて適宜設定することができ、例えば、バンプ5の頂部5aが1〜10μm程度露出するように厚みを設定することができる。
【0016】
次に、ウエハ工程が完了したウエハ11に対して、ウエハレベルで各半導体素子の端子12にバンプ5が当接するように絶縁性封止用接着層10を介して配線板1を接着する(図2(B))。図示例では、11a,11bの2組の半導体素子が示されており、配線板1の1aで示される内部端子配線3に形成したバンプ5が、11aで示される半導体素子の端子12に当接し、配線板1の1bで示される内部端子配線3に形成したバンプ5が、11bで示される半導体素子の端子12に当接するようにして、配線板1がウエハ11に接着される。
【0017】
次いで、絶縁性封止用接着層10に硬化処理を施す。これにより、配線板1とウエハ11とが固着されるとともに、配線板1の内部端子配線3と半導体素子の内部端子12が封止される。その後、ダイジングを行って切断分離するだけでCSPタイプの半導体装置が得られ、各半導体装置毎にダイボンディング、ワイヤボンディング、樹脂封止等を行う必要はない。
【0018】
【実施例】
次に、具体的実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
[実施例1]
まず、SiN膜+ポリイミド層からなるパッシベーション層を配設したウエハ工程を完了後のウエハを準備した。
次に、絶縁基板として、表面を洗浄したガラスエポキシ基板(厚み100μm)を準備した。この絶縁基板は、所定部位にドリルを用いてスルーホール(内径300μm)を複数形成したものである。次いで、無電解めっき浴を使用して、絶縁基板の両面とスルーホール内壁に無電解銅からなる導電性薄膜を形成した。
【0019】
次に、下記の電解銅めっき浴を使用し、下記の条件で上述の導電性薄膜上に厚み10μmの導電層を形成した。
(電解銅めっき浴)
・硫酸銅(5水塩) … 70g/L
・硫酸 … 200g/L
・塩酸 … 0.5mL/L
(電解銅めっき条件)
・浴温度 : 25℃
・電流密度 : 4A/dm2
・通電時間 : 12分間
【0020】
次に、絶縁基板の導電層上に感光性レジスト(東京応化工業(株)製LA900)を塗布し、内部端子配線用のフォトマスク、外部端子用のフォトマスクを介して各面を露光、現像することによりレジストパターンを形成した。次いで、このレジストパターンをマスクとして不要な導電層を導電性薄膜とともにエッチングにより除去し、レジストパターンをアセトンを用いて除去して、絶縁基板の一方の面に内部端子配線、他方の面に外部端子配線を形成した。これらの内部端子配線は、上記のウエハの各半導体素子に対応するように配設されており、また、各内分端子配線は対応する外部端子配線と上記のスルーホール内に形成された導電層により導通されている。その後、スルーホールにエポキシ系孔埋め樹脂を充填した。
【0021】
次に、絶縁基板の内部端子配線を覆うように感光性レジスト(東京応化工業(株)製LA900)を塗布し、バンプ形成用のフォトマスクを介して露光、現像することによりレジストパターンを形成した。次に、EEJS社製エレクトロレスAuを用いた浴(80℃)を使用して、レジストパターンから露出している内部端子配線上に厚み15μmの金めっき層を形成してバンプとし、その後、レジストパターンをアセトンを用いて除去して、本発明のウエハレベルパッケージ用の配線板を得た。
【0022】
次に、上記の配線板の内部端子配線を覆うように絶縁性ペーストをスクリーン印刷により塗布し、バンプの頂部が約5μm露出するように絶縁性封止用接着層を形成した。
次いで、上記のウエハの半導体素子の端子に、配線板のバンプが当接するように位置合わせを行い、ウエハに対して配線板を接着した。そして、絶縁性封止用接着層に硬化処理(200℃、30分間)を施して電気絶縁性の封止部材とした。このようにして、ウエハ状態でCSPタイプの半導体装置を多面付けして作製した。その後、切断分離することにより、個々のCSPタイプの半導体装置を得た。
【0023】
[実施例2]
まず、SiN膜+ポリイミド層からなるパッシベーション層を配設したウエハ工程を完了後のウエハを準備した。
次に、実施例1と同様に、絶縁基板として、表面を洗浄したガラスエポキシ基板(厚み100μm)を準備し、この絶縁基板の両面とスルーホール内壁に無電解銅からなる導電性薄膜を形成した。
次に、実施例1と同様に、上記の導電性薄膜上に厚み10μmの導電層を形成した。
【0024】
次に、実施例1と同様に、絶縁基板の一方の面に内部端子配線、他方の面に外部端子配線を形成した。これらの内部端子配線は、上記のウエハの各半導体素子に対応するように配設されており、また、各内分端子配線は対応する外部端子配線と上記のスルーホール内に形成された導電層により導通されている。その後、スルーホールにエポキシ系孔埋め樹脂を充填した。
【0025】
次に、下記組成の導電性ペーストを用いてスクリーン印刷により内部端子配線上の所望の部位にバンプ用のパターンを形成し、その後、200℃で硬化して、高さ30μm、直径100μmのほぼ円柱形状を形成した。次いで、この円柱形状の表面にNiAuの無電解めっきを行ってバンプとし、本発明のウエハレベルパッケージ用の配線板を得た。
(導電ペースト)
・銀粉末 … 80重量部
・エポキシ樹脂 … 5重量部
・エチルカルビトール … 15重量部
【0026】
次に、上記の配線板の内部端子配線を覆うように絶縁性ペーストをスクリーン印刷により塗布し、バンプの頂部が約5μm露出するように絶縁性封止用接着層を形成した。
次いで、上記のウエハの半導体素子の端子に、配線板のバンプが当接するように位置合わせを行い、ウエハに対して配線板を接着した。そして、絶縁性封止用接着層に硬化処理(200℃、30分間)を施して電気絶縁性の封止部材とした。このようにして、ウエハ状態でCSPタイプの半導体装置を多面付けして作製した。その後、切断分離することにより、個々のCSPタイプの半導体装置を得た。
【0027】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば配線板が、絶縁基板の一方の面にウエハにおける半導体素子の配置に対応した配置で形成された複数の内部端子配線と、各内部端子配線に対応して絶縁基板の他方の面に形成された複数の外部端子配線と、内部端子配線の所定部位に形成されたバンプと、対応する内部端子配線と外部端子配線とを導通するために絶縁基板に形成された複数のスルーホール内に設けられた導電層と、を備えており、この配線板のバンプ側(内部端子配線側)を、ウエハ工程を経たウエハの半導体素子の端子に接合することによってウエハレベルでの半導体装置の作製を容易に行うことができ、また、ウエハ上での配線形成やメタルポスト形成等の工程が不要であり、これらの工程における欠陥発生がないので、ウエハの利用効率が向上して製造効率が極めて高いものとなる。さらに、内部端子配線と外部端子配線の所定の部位の導通がスルーホール内に設けられた導電層によって行なわれ、メタルポストを使用していないので、ウエハを各半導体装置に切断分離したCSPを基板に実装した状態で温度変化を繰り返し受けても、半導体装置と実装基板間の熱膨張係数に起因する熱歪みの発生が少なく、半導体装置のクラックを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のウエハレベルパッケージ用の配線板の一実施形態を示す部分縦断面図である。
【図2】本発明の半導体装置製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【符号の説明】
1…ウエハレベルパッケージ用の配線板
2…絶縁基板
3…内部端子配線
4…外部端子配線
5…バンプ
6…スルーホール
7…導電層
8…半田層
10…絶縁性封止用接着層
11…ウエハ
12…半導体素子の端子
Claims (4)
- 絶縁基板と、ウエハにおける半導体素子の配置に対応した配置で前記絶縁基板の一方の面に形成された複数の内部端子配線と、各内部端子配線に対応するように前記絶縁基板の他方の面に形成された複数の外部端子配線と、前記内部端子配線の所定部位に形成されたバンプと、対応する前記内部端子配線と外部端子配線とを導通するために前記絶縁基板に形成された複数のスルーホール内に設けられた導電層と、を備え、前記バンプの高さが10〜30μmの範囲内で設定されているウエハレベルパッケージ用の配線板上に、前記内部端子配線を覆い、かつ、前記バンプの頂部が露出するように絶縁性封止用接着層を形成し、ウエハ工程完了後のウエハレベルで、各半導体素子の端子に前記バンプが当接するように前記絶縁性封止用接着層を介して前記配線板を接着する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 前記バンプの表面に金めっき層を設けることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記外部端子配線の端子パッド上に半田層を設けることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記絶縁基板の厚みを50〜100μmの範囲とすることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001276084A JP4648596B2 (ja) | 2001-09-12 | 2001-09-12 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001276084A JP4648596B2 (ja) | 2001-09-12 | 2001-09-12 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003086730A JP2003086730A (ja) | 2003-03-20 |
JP4648596B2 true JP4648596B2 (ja) | 2011-03-09 |
Family
ID=19100841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001276084A Expired - Fee Related JP4648596B2 (ja) | 2001-09-12 | 2001-09-12 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4648596B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100676039B1 (ko) | 2005-04-22 | 2007-01-30 | 스텝시스템주식회사 | 관통전극을 통해 웨이퍼 하면에 외부접속단자를 형성시킨웨이퍼 레벨 칩스케일 패키지 제조방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000357757A (ja) * | 1999-06-15 | 2000-12-26 | Toshiba Corp | 半導体装置および電子回路装置 |
JP2001035970A (ja) * | 1999-07-16 | 2001-02-09 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体装置の製造方法 |
JP2001196643A (ja) * | 2000-01-11 | 2001-07-19 | Toppan Printing Co Ltd | 光・電気素子搭載用チップキャリア及びその実装方法並びに光・電気配線基板及びその製造方法並びに実装基板 |
JP2002252309A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Denso Corp | 半導体チップのパッケージ構造及びパッケージ方法 |
-
2001
- 2001-09-12 JP JP2001276084A patent/JP4648596B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000357757A (ja) * | 1999-06-15 | 2000-12-26 | Toshiba Corp | 半導体装置および電子回路装置 |
JP2001035970A (ja) * | 1999-07-16 | 2001-02-09 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体装置の製造方法 |
JP2001196643A (ja) * | 2000-01-11 | 2001-07-19 | Toppan Printing Co Ltd | 光・電気素子搭載用チップキャリア及びその実装方法並びに光・電気配線基板及びその製造方法並びに実装基板 |
JP2002252309A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Denso Corp | 半導体チップのパッケージ構造及びパッケージ方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003086730A (ja) | 2003-03-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6808962B2 (en) | Semiconductor device and method for fabricating the semiconductor device | |
JP3996315B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP3335575B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP4522574B2 (ja) | 半導体装置の作製方法 | |
JP4131595B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US6949470B2 (en) | Method for manufacturing circuit devices | |
JP2004055628A (ja) | ウエハレベルの半導体装置及びその作製方法 | |
US6841884B2 (en) | Semiconductor device | |
US6936927B2 (en) | Circuit device having a multi-layer conductive path | |
JP2005317998A5 (ja) | ||
KR100630684B1 (ko) | 솔더 접합 신뢰도(sjr)를 높일 수 있는 인쇄회로기판및 이를 이용한 반도체 패키지 모듈 | |
US6720209B2 (en) | Method for fabricating a circuit device | |
US6883231B2 (en) | Method for fabricating a circuit device | |
US6780676B2 (en) | Method for fabricating a circuit device | |
JP2001345336A (ja) | 半導体装置の作製方法と、それに用いられる配線部材 | |
JP3116926B2 (ja) | パッケージ構造並びに半導体装置、パッケージ製造方法及び半導体装置製造方法 | |
JPH11204560A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP4638614B2 (ja) | 半導体装置の作製方法 | |
JP3457926B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP4648596B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP4506168B2 (ja) | 半導体装置およびその実装構造 | |
JP4045708B2 (ja) | 半導体装置、電子回路装置および製造方法 | |
JP2007059851A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2002261192A (ja) | ウエハレベルcsp | |
JP2002141437A (ja) | Cspタイプの半導体装置及びその作製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080416 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100430 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100511 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100701 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100914 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101029 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101124 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101210 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131217 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |