JP4646175B2 - オキソオキサゾリンおよびアロアミノ酸誘導体の製造方法 - Google Patents

オキソオキサゾリンおよびアロアミノ酸誘導体の製造方法 Download PDF

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Description

技術分野
本発明は、簡便かつ経済的な方法を用いて、オキソオキサゾリン誘導体を製造する方法に関する。
背景技術
オキソオキサゾリン誘導体は、TRH(サイロトロピン放出ホルモン)誘導体である下記の一般式(VIII):
Figure 0004646175
(式中、Rは水素原子または置換されていてもよい低級アルキル;Yは置換されていてもよいアルキル)で表わされる化合物(WO98/08867)の重要な中間体化合物である。
また、以下の一般式(III−A)、(III−B)、(IV−A)、または(IV−B):
Figure 0004646175
(式中、Rは置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいアリール、アルキニル、または置換されていてもよいヘテロアリール)で表わされる化合物およびその誘導体は、コンビナトリアルケミストリーのツールとしても有用である。
従来、低級アルキルオキシカルボニル基またはカルボキシル基を有するオキソオキサゾリン誘導体の製造方法としては、出発原料の立体を保持して環化する方法および立体選択性について言及していない環化反応を用いる方法が知られている。
出発原料の立体を維持して環化する方法としては、例えば以下に示す方法:
Figure 0004646175
が挙げられる(Tetrahedron,48,2507,1992)。この反応は、出発原料としてL−allo−トレオニンを用い、トルエン溶媒中、ホスゲンおよび水酸化カリウムと0℃で1時間反応させることにより、立体を保持した環化体を得る方法である。この方法は、天然型と比較して高価なL−allo−トレオニンを用いる点、および人体に対して有毒なホスゲンを用いる点から工業化に関して問題を有する。
立体選択性に言及していない環化方法としては、例えば以下に示す方法:
Figure 0004646175
が挙げられる(特開昭60−34955)。この反応は、出発原料を水中、炭酸カリウムと60℃で1.5時間反応させることにより環化体を得る反応である。この方法は、メカニズム的に原料の立体が保持されていると考えられることから、シス型の環化体をえるためには出発原料にallo−トレオニンを用いる必要があると考えられる。
得られる環化体が低級アルキルオキシカルボニル基またはカルボキシル基を有さないオキソオキサゾリン誘導体であるが、以下に示す方法:
Figure 0004646175
が知られている(Bull.Chem.Soc.Japan.,44,2515,1971)。本反応では、溶媒を用いず、出発原料を塩化チオニル中で60℃、24時間反応させることにより65%の収率で環化体を得ている。この方法では、本発明方法と同様に反応後、エチル基の配置が反転している。しかし、出発原料はアミノ酸誘導体ではなく、アミノ基とヒドロキシル基の関係も本発明方法に用いる出発原料とは異なる。さらに塩化チオニル中で反応を行うことから収率も65%と低いものになっている。
本発明方法と同様に、反転を伴った環化反応:
Figure 0004646175
が知られている(Heterocycl.Commun.,2,55,1996)。第一工程については、無水トリフルオロ酢酸を用いた例も開示されている。しかし、本発明方法では環化反応の収率が83%と高収率であるのに対し、ここで開示されている環化反応の収率は、トシルクロリドを用いる方法においても無水トリフルオロ酢酸を用いる方法でも40%と低いものになっている。また、反応の簡便さも本発明方法が優れている。
発明の開示
本発明は、簡便かつ経済的に、立体選択的なオキソオキサゾリン誘導体を製造する方法の提供を目的としている。該オキソオキサゾリン誘導体は、医薬品の中間体、コンビナトリアルケミストリーのツールとして有用である。また、該オキソオキサゾリン誘導体の開環体もコンビナトリアルケミストリーのツールとして有用である。
本発明者らは、大量合成に適した立体選択的なオキソオキサゾリン誘導体の製造方法を見出した。
すなわち、I)一般式(II−A)または一般式(II−B)で表わされる化合物を、塩化チオニルで処理する以下に示す工程:
Figure 0004646175
(式中、Rは置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいアリール、アルキニル、または置換されていてもよいヘテロアリール;Rは低級アルキル、置換されていてもよいアラルキル、または置換されていてもよいヘテロアリールアルキル;Rは低級アルキル)を含む、一般式(I−A)または一般式(I−B)で表わされる化合物の製造方法、に関する。
さらに詳しくは以下のII)〜X)に関する。
II)一般式(II−A)または一般式(II−B)で表わされる化合物をトルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、またはアセトニトリル溶媒中、1.0〜5.0当量の塩化チオニルと、30℃〜還流温度で反応させることによるI)記載の製造方法。
III)一般式(II−A)または一般式(II−B)で表わされる化合物をトルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、またはアセトニトリル溶媒中、1.0〜3.0当量の塩化チオニルと、60℃〜80℃で反応させることによるI)記載の製造方法。
IV)I)〜III)のいずれかに記載の方法で得られた一般式(I−A)または一般式(I−B)で表わされる化合物を加水分解反応に付する以下に示す工程:
Figure 0004646175
(式中、RおよびRは前記と同意義)を含む、一般式(III−A)または一般式(III−B)で表わされる化合物の製造方法。
V)IV)記載の方法で得られた一般式(III−A)または一般式(III−B)で表わされる化合物を、加水分解反応に付する以下に示す工程:
Figure 0004646175
(式中、Rは前記と同意義)を含む、一般式(IV−A)または一般式(IV−B)で表わされる化合物の製造方法。
VI)一般式(V−A)または一般式(V−B)で表わされる化合物のアミノ基をROC(=O)−で保護する工程(式中、Rは前記と同意義)、カルボキシル基をエステル化する工程、および塩化チオニルで処理する工程を含む、以下に示す工程:
Figure 0004646175
(式中、RおよびRは前記と同意義)で表わされる、一般式(I−A)または一般式(I−B)で表わされる化合物の製造方法。
VII)IV)記載の方法で得られた一般式(III−A)または一般式(III−B)で表わされる化合物を、ペプチド結合形成反応に付する一般式(VI):
Figure 0004646175
(式中、Rは前記と同意義、Yは置換されていてもよいアルキル)で表わされる化合物の製造方法。
VIII)Rがフェニル、5−イミダゾリル、メチル、イソプロピル、エチニル、1−プロピニルであるIV)記載の製造方法。
IX)Rが低級アルキル、アラルキル、またはヘテロアリールアルキルであるIV)記載の製造方法。
X)RがアラルキルであるIV)記載の製造方法。
XI)RがメチルおよびRがベンジルであるIV)記載の製造方法、に関する。
本明細書中、「ハロゲン」とはフッ素、塩素、臭素、およびヨウ素を意味する。好ましくは、塩素および臭素が挙げられる。
本明細書中、単独でもしくは他の用語と組み合わせて用いられる「低級アルキル」なる用語は、C〜Cの直鎖状または分枝状のアルキルを包含する。例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロプル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、t−ブチル等が挙げれる。好ましくは、メチルおよびエチルが挙げられる。
本明細書中、「アルキニル」とは、C〜Cの1個もしくは2個以上の三重結合を有する、直鎖状または分枝状の1価の炭化水素基を包含する。二重結合を有していてもよい。例えば、エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、6−ヘプチニル、7−オクチニル、8−ノニル等が挙げられる。好ましくはエチニル、1−プロピニルが挙げられる。
本明細書中、単独でもしくは他の用語と組み合わせて用いられる「アリール」なる用語は、単環状もしくは縮合環状芳香族炭化水素を包含する。例えば、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、アントリル等が挙げられる。
本明細書中、「アラルキル」とは、前記「低級アルキル」に前記「アリール」が置換したものを包含し、これらは可能な全ての位置で置換しうる。例えば、ベンジル、フェニルエチル(例えば、2−フェニルエチル等)、フェニルプロピル(例えば、3−フェニルプロピル等)、ナフチルメチル(例えば、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメチル等)、アントリルメチル(例えば、9−アントリルメチル等)等が挙げられる。好ましくは、ベンジル等が挙げられる。
本明細書中、「ヘテロアリール」とは、任意に選ばれる、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を環内に1個以上含む5〜6員の芳香環を包含する。これはシクロアルキル、アリール、もしくは他のヘテロアリールと可能な全ての位置で縮合していてもよい。ヘテロアリールが単環および縮合環のいずれである場合も、すべての可能な位置で結合しうる。例えば、ピロリル(例えば、1−ピロリル、2−ピロリル、3−ピロリル)、フリル(例えば、2−フリル、3−フリル)、チエニル(例えば、2−チエニル、3−チエニル)、イミダゾリル(例えば、4−イミダゾリル、5−イミダゾリル)、ピラゾリル(例えば、1−ピラゾリル、3−ピラゾリル)、イソチアゾリル(例えば、3−イソチアゾリル)、イソキサゾリル(例えば、3−イソキサゾリル)、オキサゾリル(例えば、2−オキサゾリル)、チアゾリル(例えば、2−チアゾリル)、ピリジル(例えば、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル)、ピラジニル(例えば、2−ピラジニル)、ピリミジニル(例えば、2−ピリミジニル、4−ピリミジニル)、ピリダジニル(例えば、3−ピリダジニル)、テトラゾリル(例えば、1H−テトラゾリル)、オキサジアゾリル(例えば、1,3,4−オキサジアゾリル)、チアジアゾリル(例えば、1,3,4−チアジアゾリル)、インドリジニル(例えば、2−インドリジニル、6−インドリジニル)、イソインドリル(例えば、2−イソインドリル)、インドリル(例えば、1−インドリル、2−インドリル、3−インドリル)、インダゾリル(例えば、3−インダゾリル)、プリニル(例えば、8−プリニル)、キノリジニル(例えば、2−キノリジニル)、イソキノリル(例えば、3−イソキノリル)、キノリル(例えば、2−キノリル、5−キノリル)、フタラジニル(例えば、1−フタラジニル)、ナフチリジニル(例えば、2−ナフチリジニル)、キノラニル(例えば、2−キノラニル)、キナゾリニル(例えば、2−キナゾリニル)、シンノリニル(例えば、3−シンノリニル)、プテリジニル(例えば、2−プテリジニル)、カルバゾリル(例えば、2−カルバゾリル、4−カルバゾリル)、フェナントリジニル(例えば、2−フェナントリジニル、3−フェナントリジニル)、アクリジニル(例えば、1−アクリニジル、2−アクリニジル)、ジベンゾフラニル(例えば、1−ジベンゾフラニル、2−ジベンゾフラニル)、ベンゾイミダゾリル(例えば、2−ベンゾイミダゾリル)、ベンゾイソキサゾリル(例えば、3−ベンゾイソキサゾリル)、ベンゾオキサゾリル(例えば、2−ベンゾオキサゾリル)、ベンゾオキサジアゾリル(例えば、4−ベンゾオキサジアゾリル)、ベンゾイソチアゾリル(例えば、3−ベンゾイソチアゾリル)、ベンゾチアゾリル(例えば、2−ベンゾチアゾリル)、ベンゾフリル(例えば、3−ベンゾフリル)、ベンゾチエニル(例えば、2−ベンゾチエニル)等が挙げられる。Rの「ヘテロアリール」としては、イミダゾリル等が好ましい。
本明細書中、「ヘテロアリールアルキル」とは、前記「低級アルキル」に前記「ヘテロアリール」が置換したものを包含し、これらは可能な全ての位置で置換しうる。
本明細書中、Rにおける「置換されていてもよい低級アルキル」とは、全ての可能な位置で1個以上の置換基、例えば、ヒドロキシ、アルキルオキシ(例えば、メトキシ、エトキシ)、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル)、ハロゲン(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、アルキルオキシカルボニル(例えば、メチルキシカルボニル、エチルオキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル(例えば、フェニルオキシカルボニル)、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニル、アルキルカルボニル等を有していてもよい前記「低級アルキル」を包含する。好ましい置換基としては、低級アルキルオキシ、ハロゲン等が挙げられる。「置換されていてもよい低級アルキル」としては、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、トリフルオロメチル等が挙げられる。非置換の低級アルキルが好ましい。
本明細書中、Yにおける「置換されていてもよいアルキル」とは、全ての可能な位置で1個以上の置換基、例えば、ヒドロキシ、アルキルオキシ(例えば、メトキシ、エトキシ)、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル)、ハロゲン(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、カルボキシ、カルバモイル、アルキルオキシカルボニル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル(例えば、フェニルオキシカルボニル)、ニトロ、シアノ、SO(pは1〜3の整数、Rは水素またはアルキル)、アルキルで置換されていてもよいPO(OH)もしくはP(O)OH、置換もしくは非置換アミノ(例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、カルバモイルアミノ)、置換されていてもよいアリール(例えば、フェニル、トリル)、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよい非芳香族複素環基、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニル、アルキルカルボニル、非芳香族複素環カルボニル、複素環状イミノ、ヒドラジノ、ヒドロキシアミノ、アルキルオキシアミノ、ホルミル等を有していてもよい前記「アルキル」を包含する。「置換されていてもよいアルキル」としては、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル、ヒドロキシメチル、tert−ブチルカルボニルオキシメチル、モルホリノメチル、ピペリジノメチル、N−メチル−1−ピペラジニルメチル、エチルカルボニルメチル、モルホリノカルボニルメチル、アセチルオキシメチル等が挙げられる。非置換のアルキル、特にメチルが好ましい。
本明細書中、「置換されていてもよいアリール」とは、全ての可能な位置で1個以上の置換基、例えば、ヒドロキシ、アルキルオキシ(例えば、メトキシ、エトキシ)、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル)、ハロゲン(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、アルキルオキシカルボニル(例えば、メチルキシカルボニル、エチルオキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル(例えば、フェニルオキシカルボニル)、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニル、アルキルカルボニル等を有していてもよい前記「アリール」を包含する。好ましい置換基としては、低級アルキルオキシ、ハロゲン等が挙げられる。「置換されていてもよいアリール」としては、フェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル等が挙げられる。非置換のアリールが好ましい。
本明細書中、「置換されていてもよいヘテロアリール」とは、全ての可能な位置で1個以上の置換基、例えば、ヒドロキシ、アルキルオキシ(例えば、メトキシ、エトキシ)、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル)、ハロゲン(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、アルキルオキシカルボニル(例えば、メチルキシカルボニル、エチルオキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル(例えば、フェニルオキシカルボニル)、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニル、アルキルカルボニル等を有していてもよい前記「ヘテロアリール」を包含する。好ましい置換基としては、低級アルキルオキシ、ハロゲン等が挙げられる。「置換されていてもよいヘテロアリール」としては、2−クロロイミダゾール−5−イル、4−クロロイミダゾール−5−イル等が挙げられる。非置換のヘテロアリールが好ましい。
本明細書中、「置換されていてもよいアラルキル」とは、全ての可能な位置で1個以上の置換基、例えば、ヒドロキシ、アルキルオキシ(例えば、メトキシ、エトキシ)、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル)、ハロゲン(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、アルキルオキシカルボニル(例えば、メチルキシカルボニル、エチルオキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル(例えば、フェニルオキシカルボニル)、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニル、アルキルカルボニル等を有していてもよい前記「アラルキル」を包含する。好ましい置換基としては、低級アルキルオキシ、ハロゲン等が挙げられる。「置換されていてもよいアラルキル」としては、フリル、チエニル、ピリジル、5−クロロフリル、5−チエニル、3−クロロピリジル等が挙げられる。非置換のアラルキルが好ましい。
発明を実施するための最良の形態
本発明の製造方法について、出発原料を一方の光学活性体として、詳細に説明する。もう一方の原料についても同様に反応を行うことができる。また、以下に示す第1工程〜第6工程において、出発原料が反応の障害となる置換基を有する場合は、あらかじめProtective Groups in Organic Synthesis,Theodora W Green(John Wiley & Sons)等に記載の方法に従って保護し、適当な段階で脱保護すればよい。
Figure 0004646175
(式中、R、R、R、およびYは前記と同意義)
(第1工程)
本工程は、一般式(V−A)で表わされる化合物にROC(=O)−Hal(式中、Halはハロゲン)、[ROC(=O)]O等を反応させることにより、アミノ基がROC(=O)−で保護された化合物(VII−A)を得る工程である。本工程は、Protective Groups in Organic Synthesis,Theodora W Green(John Wiley & Sons)等に記載の方法に従って行うことができる。
例えば、一般式(V−A)で表わされる化合物を、水−トルエン、水−ジオキサン、水−アセトン等の混合溶媒中または水、ジオキサン等の溶媒中、1.0当量〜3.0当量、好ましくは1.0当量〜1.5当量のROC(=O)−Hal(式中、Halはハロゲン)および2.0当量〜6.0当量、好ましくは2.0当量〜3.0当量の有機塩基(例えば、トリエチルアミン等)または無機塩基(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)と、−20℃〜50℃、好ましくは0℃〜20℃で0.5〜3時間反応させることにより一般式(VII−A)で表わされる化合物を得ることができる。
上記IV)における「アミノ基をROC(=O)−で保護する工程」とは本工程のことを意味する。
(第2工程)
本工程は、一般式(VII−A)で表わされる化合物のカルボキシル基をエステル化することにより一般式(II−A)で表わされる化合物を得る工程である。この工程は通常行われるエステル化反応によって行うことができる。
例えば、一般式(VII−A)で表わされる化合物を、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の溶媒に溶解し、1当量〜5当量、好ましくは1当量〜2当量の塩化チオニル、塩酸、オキシ塩化リン等のハロゲン化剤を加え、−20℃〜50℃、好ましくは0℃〜25℃で1時間〜24時間、好ましくは1時間〜3時間反応させることにより一般式(II−A)で表わされる化合物を得ることができる。
上記IV)における「カルボキシル基をエステル化する工程」とは本工程のことを意味する。
(第3工程)
本工程はRの立体配置の反転を伴う環化反応を行う工程である。
例えば、以下に示す1)〜3)に従って一般式(I−A)で表わされる化合物を得ることができる。1)一般式(II−A)で表わされる化合物をトルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、アセトニトリル等の溶媒、好ましくはトルエンに溶解する。溶媒量としては、1V〜50V、特に1V〜10Vが好ましい。ここで、出発原料1gに対して1mlの溶媒を用いることを1Vという。2)25℃〜80℃、好ましくは25℃〜50℃で1.0当量〜20当量、好ましくは1.0当量〜2.0当量の塩化チオニルを加える。塩化チオニルを溶媒として使用することもできる。3)反応液を25℃〜80℃、好ましくは60℃〜80℃で5時間〜48時間、好ましくは6時間〜12時間攪拌する。
本反応においては、塩化チオニルの当量数が1.0に近づく程、溶媒量としては「V」の値が上昇する程、目的化合物のcis体の生成の割合が増加した(trans体の割合が減少した)。
cis体およびtrans体を合わせた化合物の収率は、塩化チオニルの当量数および溶媒量によってほとんど影響を受けなかった。
上記IV)における「塩化チオニルで処理する工程」とは本工程のことを意味する。
(第4工程)
本工程は、一般式(I−A)で表わされるエステル体をカルボン酸に加水分解する工程である。この工程は、通常行われる加水分解反応によって行うことができる。
例えば、一般式(I−A)で表わされる化合物を、水等の溶媒に溶解し、0.1当量〜10当量、好ましくは1当量〜5当量の酸(例えば塩酸、硫酸等)を0℃〜100℃、好ましくは25℃〜80℃で加え、25℃〜100℃、好ましくは50℃〜80℃で1時間〜5時間反応させることにより一般式(III−A)で表わされる化合物を得ることができる。塩基条件下でも行うことができる。
(第5工程)
本工程は、一般式(III−A)で表わされる化合物を加水分解することにより一般式(IV−A)で表わされるallo−アミノ酸誘導体を得る工程である。
例えば、一般式(III−A)で表わされる化合物を、水等の溶媒に溶解し、0.1当量〜20当量、好ましくは1当量〜10当量の酸(例えば塩酸、硫酸等)を0℃〜100℃、好ましくは25℃〜80℃で加え、25℃〜100℃、好ましくは80℃〜100℃で1時間〜48時間反応させることにより一般式(IV−A)で表わされる化合物を得ることができる。
(第6工程)(ペプチド結合形成反応)
3つのアミノ酸誘導体を2度のペプチド結合形成反応を行うことにより化合物(VI)を合成することができる(WO98/08867)。上記の方法で得られる一般式(I−A)で表わされる化合物を用いて、化合物(VI)を合成する2種類の方法(方法Aおよび方法B)を以下に示した。
Figure 0004646175
(式中、Rはカルボキシル基の保護基、Rはアミノ基の保護基、RおよびYは前記と同意義)
方法A−第1工程
Synth.Commun.,20,22,3507(1990)およびChem.Pharm.Bull.,38,1,103(1990)記載の方法に従って合成した3−(4−チアゾール)アラニンのカルボキシル基を、メチルエステル、ベンジルエステル、t−ブチルエステル、ジフェニルメチルエステル等のエステルとして保護した一般式(VIII)で表わされる化合物と、一般式(III−A)で表わされる化合物とのペプチド結合形成反応を行う工程である。
カルボキシル基をジフェニルメチルエステルとして保護する場合は、保護反応は、3−(4−チアゾール)アラニンをメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒とテトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒の混合溶媒に溶解し、0〜50℃、好ましくは20〜40℃においてジフェニルジアゾメタン1〜3当量、好ましくは1〜2当量を10分〜1時間、好ましくは20〜40分かけて加え、同温度で30分〜3時間、好ましくは1〜2時間攪拌することにより行うことができる。
ペプチド結合形成反応は、「ペプチド合成」(泉屋信夫、丸善)等に記載されている、通常用いられるペプチド結合形成反応法に従って行うことができる。
通常用いられるペプチド結合形成反応としては、N,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)等の縮合剤を用いる方法、アジド法、酸クロリド法、酸無水物法、活性エステル法等があげられる。出発原料が本ペプチド形成反応の障害となる置換基(アミノ、カルボキシ、ヒドロキシ等)を有する場合には、Protective Groups in Organic Synthesis,Theodora W.Green(John Wiley & Sons)等に記載の方法で予め保護し、望ましい段階でその保護基を除去すればよい。
一般式(VIII)で表わされる化合物および一般式(III−A)で表わされる化合物を、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の溶媒に溶解し、−10〜10℃、好ましくは氷冷下、トリエチルアミン等の塩基およびジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)のN,N−ジメチルホルムアミド溶液を加える。1−ヒドロキシベンゾトリアゾールを加えてもよい。10〜50℃、好ましくは20〜30℃で1時間〜1日、好ましくは5〜10時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより、一般式(IX)で表わされる化合物を得ることができる。
方法A−第2工程
脱保護反応は、通常行われる脱保護反応により行うことができる(Protective Groups in Organic Synthesis,Theodora W.Green(John Wiley & Sons))。例えば、Rがジフェニルメチルである場合は、一般式(IX)で表わされる化合物を−10〜10℃、好ましくは氷冷下で、アニソールおよびトリフルオロ酢酸を加え、同温度で5〜30分、好ましくは10〜20分攪拌し、20〜40℃に昇温した後、1〜4時間、好ましくは2〜3時間攪拌することにより行うことができる。
得られた脱保護体とTetrahedron,27,2599(1971)記載の方法で合成したピロリジン誘導体を、方法A−第1工程と同様のペプチド結合形成反応を用いて反応させることにより、一般式(VI)で表わされる化合物を得ることができる。
方法B−第1工程
Synth.Commun.,20,22,3507(1990)およびChem.Pharm.Bull.,38,1,103(1990)記載の方法に従って合成した3−(4−チアゾール)アラニンのアミノ基を、t−ブチルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、9−フルオレニルメトキシカルボニル、フタロイル、トリフルオロアセチル等のアミノ基の保護基で保護した一般式(X)で表わされる化合物とTetrahedron,27,2599(1971)記載の方法で合成したピロリジン誘導体とのペプチド結合形成反応を行う工程である。
t−ブチルオキシカルボニルで保護する場合は、保護反応は3−(4−チアゾール)アラニンをジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の溶媒に溶解し、0〜50℃、好ましくは10〜30℃でBocOを加え、1〜5時間、好ましくは2〜4時間攪拌することにより行うことができる。
ペプチド結合形成反応は、上記の方法A−第1工程と同様に行うことができる。
方法B−第2工程
アミノ基の脱保護反応は、保護基がt−ブチルオキシカルボニルである場合は、一般式(XI)で表わされる化合物を酢酸エチル等の溶媒に溶解し、−10〜30℃、好ましくは氷冷下、1〜4N塩酸−酢酸エチル溶液を加え、同温度で1〜5時間、好ましくは2〜3時間攪拌することにより行うことができる。
得られた脱保護体に方法A−第1工程と同様のペプチド結合形成反応を行うことにより、一般式(VI)で表わされる化合物を得ることができる。
本製造法において、一般式(V−A)または(V−B)で表わされる化合物はL−トレオニンまたはD−トレオニン(R=メチル)が好ましい。また、一般式(VII−A)、(VII−B)、(II−A)、(II−B)、(I−A)、(I−B)、(III−A)、(III−B)、(IV−A)、(IV−B)、および(VI)で表わされる化合物についてもL−トレオニンまたはD−トレオニンから導かれる化合物が好ましい。
としてはベンジル、RおよびYとしてはメチルが好ましい。
実施例中、以下の略号を使用する。
Me:メチル
Z:ベンジルオキシカルボニル
実施例
実施例1
Figure 0004646175
水(1000ml)に水酸化カリウム(54.77g)および化合物(1)(L−threonine)(100.0g)を加えて溶解し、さらに炭酸カリウム(139.23g)を加えて10℃以下に冷却した。激しく攪拌しながらZ−Cl(157.5g)のトルエン(180ml)溶液を10±5℃で約1時間かけて滴下した。同じ温度でさらに約1.5時間攪拌した後、トルエン(120ml)を加えて抽出、水層はトルエン(200ml)で洗浄した。各トルエン層は水(50ml)で再抽出した後、水層を合併した。得られた水層に25%塩酸(約294g)を加えてpH=2.0±0.5に調整後、酢酸エチル(800ml)を加えて抽出した。有機層を10%食塩水(400ml)で洗浄し、各水層は酢酸エチル(200ml)で再抽出した後、有機層を合併した。有機層の溶媒を留去し、残渣に酢酸エチル(1000ml)を加えて濃縮する操作を2回繰り返した。さらにメタノール(500ml)を加えて溶媒を留去した後、メタノールで約440mlになるように調整した。得られた化合物(2)のメタノール溶液に、10±10℃で塩化チオニル(109.9g)を滴下し、20±10℃でさらに2.5時間攪拌した。反応液を、炭酸水素ナトリウム(211.6g)の水(1320ml)スラリーに約30分かけて滴下した。得られたスラリーを5℃で1時間攪拌後、結晶をろ取、乾燥して化合物(3)206.3gを得た(収率92%)。
融点:91℃
H NMR(CDOD)δ 1.19(d,J=6.38,3H),3.73(s,3H),4.21−4.31(m,2H),5.11(s,2H),7.30−7.38(m,5H)
実施例2
Figure 0004646175
トルエン(250ml)に化合物(3)(50.0g)および塩化チオニル(24.48g)を加えて80℃で8時間攪拌した後、室温まで冷却した。反応液に水(150ml)を加えて抽出し、水層はトルエン(25ml)で洗浄した。各トルエン層は水(50ml)で再抽出した後、水層を合併した。得られた水層に36%塩酸(18.94g)を加え、80℃で1時間攪拌した後、水を留去し、残渣に水(100ml)を加えて濃縮した。残渣にアセトニトリル(200ml)を加えて濃縮する操作を3回繰り返し、アセトニトリルで約50mlになるように調整した。得られたスラリーを0±5℃で1時間攪拌後、結晶をろ取、乾燥して化合物(5)17.4gを得た(収率64%)。
融点:165℃
H NMR(CDOD)δ 1.38(d,J=6.52,3H),4.40(d,J=8.64,1H),4.96(dq,J=6.54,J=8.66,1H)
[α] 20−19.5°(C=1.0,HO)
実施例3
Figure 0004646175
トルエン(15ml)に化合物(3)(3.0g)および塩化チオニル(1.47g)を加えて80℃で8時間攪拌した後、室温まで冷却した。反応液に水(9ml)を加えて抽出、水層はトルエン(1.5ml)で洗浄、各トルエン層は水(3ml)および水(1.5ml)で再抽出した後、水層を合併した。得られた水層を濃縮し、化合物(4)を油状物として1.48g得た(収率83%)。H NMR(CDOD)δ 1.31(d,J=6.48,3H),3.79(s,3H),4.46(d,J=8.52,1H),4.96(dq,J=6.48,J=8.52,1H)
実施例4
Figure 0004646175
化合物(4)(1.0g)にメタノール(5ml)を加えて氷冷し、20%水酸化ナトリウム水溶液(2.5g)を加えて氷冷下30分攪拌した。98%硫酸(0.62g)を加えた後、析出した結晶をろ過、ろ液を濃縮した。残渣にアセトニトリル(5ml)を加えて濃縮する操作を4回繰り返し、得られた残渣にアセトニトリル(8ml)を加え、さらに無水硫酸ナトリウム(2.2g)を加えて脱水した。硫酸ナトリウムをろ過後、ろ液を濃縮し、得られたスラリーを氷冷下30分攪拌した後、結晶をろ取、乾燥して化合物(5)0.50gを得た(収率55%)。
実施例5
Figure 0004646175
化合物(5)(3.00g)に36%塩酸(10.5g)を加え、15時間還流攪拌した後水を留去し、残渣に水(10ml)を加えて濃縮した。残渣の油状物を水(10ml)に溶解し、水酸化リチウム水溶液を加えてpH=6に調節した後、水を留去した。得られた固形物にメタノール(8ml)を加え、室温で1時間攪拌後ろ取、乾燥して化合物(6)(L−allo−threonine)2.25gを得た(収率91%)。
H NMR(DO)δ 1.20(d,J=6.30,3H),3.83(d,J=3.90,1H),4.36(dq,J=3.90,J=6.60,1H)
[α] 20+9.07°(C=2.0,HO)
産業上の利用可能性
本製造法により、オキソオキサゾリン誘導体およびアロアミノ酸誘導体を立体選択的かつ経済的に製造することができる。

Claims (12)

  1. 一般式(II−A)または一般式(II−B)で表わされる化合物を、溶媒中、1.0〜5.0当量の塩化チオニルで処理する以下に示す工程:
    Figure 0004646175
    (式中、Rは置換されていてもよい低級アルキル(ここで置換基はヒドロキシ、アルキルオキシ、メルカプト、アルキルチオ、シクロアルキル、ハロゲン、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニルおよびアルキルカルボニルから選択される1個以上の置換基)、置換されていてもよいアリール(ここで置換基はヒドロキシ、アルキルオキシ、メルカプト、アルキルチオ、シクロアルキル、ハロゲン、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニルおよびアルキルカルボニルから選択される1個以上の置換基)、アルキニル、または置換されていてもよいヘテロアリール(ここで置換基はヒドロキシ、アルキルオキシ、メルカプト、アルキルチオ、シクロアルキル、ハロゲン、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニルおよびアルキルカルボニルから選択される1個以上の置換基);Rは低級アルキル、置換されていてもよいアラルキル(ここで置換基はヒドロキシ、アルキルオキシ、メルカプト、アルキルチオ、シクロアルキル、ハロゲン、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニルおよびアルキルカルボニルから選択される1個以上の置換基)、または置換されていてもよいヘテロアリールアルキル(ここで置換基はヒドロキシ、アルキルオキシ、メルカプト、アルキルチオ、シクロアルキル、ハロゲン、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニルおよびアルキルカルボニルから選択される1個以上の置換基);Rは低級アルキル)を含む、一般式(I−A)または一般式(I−B)で表わされる化合物の製造方法。
  2. 溶媒がトルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、またはアセトニトリルである、請求項1記載の製造方法。
  3. 一般式(II−A)または一般式(II−B)で表わされる化合物を30℃〜還流温度で反応させることによる請求項1または2記載の製造方法。
  4. 一般式(II−A)または一般式(II−B)で表わされる化合物をトルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、またはアセトニトリル溶媒中、1.0〜3.0当量の塩化チオニルと、60℃〜80℃で反応させることによる請求項1記載の製造方法。
  5. 請求項1〜4のいずれかに記載の方法で一般式(I−A)または一般式(I−B)で表わされる化合物を得、得られた一般式(I−A)または一般式(I−B)で表わされる化合物を加水分解反応に付する以下に示す工程:
    Figure 0004646175
    (式中、RおよびR請求項1と同意義)を含む、一般式(III−A)または一般式(III−B)で表わされる化合物の製造方法。
  6. 請求項5記載の方法で一般式(III−A)または一般式(III−B)で表わされる化合物を得、得られた一般式(III−A)または一般式(III−B)で表わされる化合物を、加水分解反応に付する以下に示す工程:
    Figure 0004646175
    (式中、R請求項1と同意義)を含む、一般式(IV−A)または一般式(IV−B)で表わされる化合物の製造方法。
  7. 一般式(V−A)または一般式(V−B)で表わされる化合物のアミノ基をROC(=O)−で保護する工程(式中、Rは前記と同意義)、カルボキシル基をエステル化する工程、および溶媒中、1.0〜5.0当量の塩化チオニルで処理する工程を含む、以下に示す工程:
    Figure 0004646175
    (式中、RおよびR請求項1と同意義)で表わされる、一般式(I−A)または一般式(I−B)で表わされる化合物の製造方法。
  8. 請求項5記載の方法で一般式(III−A)または一般式(III−B)で表わされる化合物を得、得られた一般式(III−A)または一般式(III−B)で表わされる化合物を、ペプチド結合形成反応に付する一般式(VI):
    Figure 0004646175
    (式中、R請求項1と同意義、Yは置換されていてもよいアルキル(ここで置換基はヒドロキシ、アルキルオキシ、メルカプト、アルキルチオ、シクロアルキル、ハロゲン、カルボキシ、カルバモイル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ニトロ、シアノ、SO (pは1〜3の整数、R は水素またはアルキル)、アルキルで置換されていてもよいPO(OH) もしくはP(O)OH、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、カルバモイルアミノ、置換されていてもよいアリール(ここで置換基はヒドロキシ、アルキルオキシ、メルカプト、アルキルチオ、シクロアルキル、ハロゲン、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニルおよびアルキルカルボニルから選択される1個以上の置換基)、置換されていてもよいヘテロアリール(ここで置換基はヒドロキシ、アルキルオキシ、メルカプト、アルキルチオ、シクロアルキル、ハロゲン、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ニトロ、シアノ、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニルおよびアルキルカルボニルから選択される1個以上の置換基)、非芳香族複素環基、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニル、アルキルカルボニル、非芳香族複素環カルボニル、複素環状イミノ、ヒドラジノ、ヒドロキシアミノ、アルキルオキシアミノおよびホルミルから選択される1以上の基))で表わされる化合物の製造方法。
  9. がフェニル、5−イミダゾリル、メチル、イソプロピル、エチニル、または1−プロピニルである請求項5〜8のいずれかに記載の製造方法。
  10. が低級アルキル、アラルキル、またはヘテロアリールアルキルである請求項5〜9のいずれかに記載の製造方法。
  11. がアラルキルである請求項5〜9のいずれかに記載の製造方法
  12. がメチルおよびRがベンジルである請求項5〜11のいずれかに記載の製造方法。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006096994A1 (en) * 2005-03-16 2006-09-21 The University Of Manitoba Fluorous oxazolidinone chiral auxiliary compounds and methods of manufacture
EP1876985B1 (en) * 2005-05-05 2016-08-31 Boston Scientific Scimed, Inc. System for graphically reconstructing pulmonary vein ostia with preshaped localization catheter
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0933379A1 (en) * 1996-08-28 1999-08-04 Shionogi & Co., Ltd. Novel peptide derivatives having thiazolyl-alanine residue

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6034955A (ja) 1983-08-05 1985-02-22 Showa Denko Kk 2−オキソオキサゾリジン−4−カルボン酸類の製造法
US6319902B1 (en) * 1997-08-22 2001-11-20 Shionogi & Co., Ltd. Peptide derivatives having thiazolyl-alanine residue
EP1069118B1 (en) * 1998-03-02 2004-09-22 Shionogi & Co., Ltd. Process for producing 4-thiazolylmethyl derivative

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0933379A1 (en) * 1996-08-28 1999-08-04 Shionogi & Co., Ltd. Novel peptide derivatives having thiazolyl-alanine residue

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6010047175, Tetrahedron:Asymmetry, 1997, 8(2), pp.231−243 *
JPN6010047176, Heterocycl.Commun., 1996, 2(1), pp.55−56 *

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