JP4629031B2 - 排ガスの処理方法および装置 - Google Patents
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Description
湿式排ガス処理装置(水洗処理)によるSiF4やF2,NH3などの水溶性ガスや加水分解性ガスの処理方法がある。しかしながら、PFCなどの水溶性以外のガスの除去はできないという問題がある。
本発明の好ましい態様は、H2Oを添加した後の分解または酸化処理を触媒の存在のもとで行うことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記加熱の前に、排ガス中に含まれる粉体成分および水溶性成分および加水分解性成分の少なくとも1つを除去することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記フッ素含有化合物を分解または酸化処理した後に、前記排ガス中よりフッ素含有化合物を分解する際に生成する酸性ガスの除去を行うことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、H2を添加した後の分解または酸化処理を触媒の存在のもとで行うことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記加熱の前に、排ガス中に含まれる粉体成分および水溶性成分および加水分解性成分の少なくとも1つを除去することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記フッ素含有化合物を分解または酸化処理した後に、前記排ガス中よりフッ素含有化合物を分解する際に生成する酸性ガスの除去を行うことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記H2O添加部の下流側に配置され、触媒反応によりフッ素含有化合物を分解処理する触媒反応部を更に備えたことを特徴とする。
加熱部の全てにおいて電熱線を密に巻けば、上記構成と同様に、加熱酸化分解に必要な温度範囲を確保することができる。しかしながら、この場合は、触媒反応部に流れる排ガスの温度が900℃以上に上昇し、触媒の劣化を促進させてしまう。
本発明の好ましい態様は、前記加熱部の外に配置された水加熱管と、前記水加熱管に設けられた外部ヒータとを更に備え、前記H2O添加部で排ガスに添加されるH2Oは、前記水加熱管から供給され、前記外部ヒータにて加熱されることを特徴とする。
CO + H2O → CO2 +H2
2H2 + O2 → 2H2O
C5F8 + 4H2O + 3O2 → 5CO2 + 8HF
C4F8 + 4H2O + 2O2 → 4CO2 + 8HF
2C4F6 + 6H2O + 5O2 → 8CO2 + 12HF
2CHF3 + 2H2O + O2 → 3CO2 + 8HF
2NF3 + 3H2O → NO + NO2 + 6HF
2C2F6 + 6H2O + O2 → 4CO2 + 12HF
C3F8 + 4H2O + O2 → 3CO2 + 8HF
2SF6 + 3H2O + O2 → SO2 + SO3 + 6HF
Claims (17)
- H 2 Oを排ガスに添加することなくO2の存在下でフッ素含有化合物を含む排ガスを加熱し、その後、H2Oを排ガスに添加することにより前記フッ素含有化合物を分解または酸化処理することを特徴とする排ガスの処理方法。
- H2Oを添加した後の分解または酸化処理を触媒の存在のもとで行うことを特徴とする請求項1に記載の排ガスの処理方法。
- 前記加熱の前に、排ガス中に含まれる粉体成分および水溶性成分および加水分解性成分の少なくとも1つを除去することを特徴とする請求項1または2に記載の排ガスの処理方法。
- 前記フッ素含有化合物を分解または酸化処理した後に、前記排ガス中よりフッ素含有化合物を分解する際に生成する酸性ガスの除去を行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の排ガスの処理方法。
- 前記加熱工程は、複数の板体により形成された迂回路に排ガスを通過させながら、H 2 Oを排ガスに添加することなくO 2 の存在下でフッ素含有化合物を含む排ガスを加熱する工程であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の排ガスの処理方法。
- H 2 を排ガスに添加することなくO2の存在下でフッ素含有化合物を含む排ガスを加熱し、その後、H2を排ガスに添加することにより前記フッ素含有化合物を分解または酸化処理することを特徴とする排ガスの処理方法。
- H2を添加した後の分解または酸化処理を触媒の存在のもとで行うことを特徴とする請求項6に記載の排ガスの処理方法。
- 前記加熱の前に、排ガス中に含まれる粉体成分および水溶性成分および加水分解性成分の少なくとも1つを除去することを特徴とする請求項6または7に記載の排ガスの処理方法。
- 前記フッ素含有化合物を分解または酸化処理した後に、前記排ガス中よりフッ素含有化合物を分解する際に生成する酸性ガスの除去を行うことを特徴とする請求項6乃至8のいずれかに記載の排ガスの処理方法。
- 前記加熱工程は、複数の板体により形成された迂回路に排ガスを通過させながら、H 2 を排ガスに添加することなくO 2 の存在下でフッ素含有化合物を含む排ガスを加熱する工程であることを特徴とする請求項6乃至9のいずれかに記載の排ガスの処理方法。
- フッ素含有化合物を含む排ガスの処理装置であって、
H 2 OおよびH 2 を排ガスに添加することなくO 2 の存在下で該排ガスを加熱する加熱部と、
排ガスを前記加熱部に導入する排ガス供給部と、
前記加熱部の直ぐ下流側に位置し、H2OまたはH2を排ガスに供給することにより排ガスにH2Oを添加するH2O添加部と、
排ガスとH2Oとの反応により生成する酸性ガスを除去する酸性ガス除去部とを有することを特徴とする排ガスの処理装置。 - 前記加熱部は電熱線を備えており、該電熱線は前記加熱部の入口側の部位において密に巻かれ、前記加熱部の出口側の部位において疎に巻かれていることを特徴とする請求項11に記載の排ガスの処理装置。
- 前記H2O添加部の下流側に配置され、触媒反応によりフッ素含有化合物を分解処理する触媒反応部を更に備えたことを特徴とする請求項11に記載の排ガスの処理装置。
- 前記加熱部に配置された水加熱管を更に備え、
前記H2O添加部で排ガスに添加されるH2Oは、前記水加熱管にて加熱されて供給されることを特徴とする請求項11に記載の排ガスの処理装置。 - 前記加熱部の外に配置された水加熱管と、
前記水加熱管に設けられた外部ヒータとを更に備え、
前記H2O添加部で排ガスに添加されるH2Oは、前記水加熱管から供給され、前記外部ヒータにて加熱されることを特徴とする請求項11に記載の排ガスの処理装置。 - 前記加熱部、前記H2O添加部、および前記酸性ガス除去部により処理された排ガスを所定圧力に保つ空気イジェクタと、
処理された排ガスの一部を前記装置の入口側に戻して未処理排ガスと混合させるバイパス配管とをさらに備えたことを特徴とする請求項11に記載の排ガスの処理装置。 - 前記加熱部は、排ガスの迂回路を形成する複数の板体を有することを特徴とする請求項11に記載の排ガスの処理装置。
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