JPH1147550A - 排ガス処理方法 - Google Patents
排ガス処理方法Info
- Publication number
- JPH1147550A JPH1147550A JP9219824A JP21982497A JPH1147550A JP H1147550 A JPH1147550 A JP H1147550A JP 9219824 A JP9219824 A JP 9219824A JP 21982497 A JP21982497 A JP 21982497A JP H1147550 A JPH1147550 A JP H1147550A
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- Japan
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- exhaust gas
- gas
- gas treatment
- treated
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｃｌ2 生成をなくし、加熱分解式排ガス処理
装置を用いて、ランニングコストが低廉で処理効率の高
い塩素化合物含有排ガスの処理方法を提供する。 【解決手段】 塩素化合物が含まれるガス４を、加熱酸
化分解式排ガス処理装置１で酸化分解後に湿式スクラバ
２を通す排ガス処理方法において、前記塩素化合物が含
まれる被処理ガス４にＨ2 ガス１３を添加することとし
たものであり、前記Ｈ2 ガスは、被処理ガスの０．３倍
から５倍量を添加するのがよい。
装置を用いて、ランニングコストが低廉で処理効率の高
い塩素化合物含有排ガスの処理方法を提供する。 【解決手段】 塩素化合物が含まれるガス４を、加熱酸
化分解式排ガス処理装置１で酸化分解後に湿式スクラバ
２を通す排ガス処理方法において、前記塩素化合物が含
まれる被処理ガス４にＨ2 ガス１３を添加することとし
たものであり、前記Ｈ2 ガスは、被処理ガスの０．３倍
から５倍量を添加するのがよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、排ガスの処理方法
に係り、特に半導体製造において、ジクロルシラン（Ｓ
ｉＨ2 Ｃｌ2 ）や金属塩化物などの塩素化合物を伴う排
ガスの処理方法に関する。
に係り、特に半導体製造において、ジクロルシラン（Ｓ
ｉＨ2 Ｃｌ2 ）や金属塩化物などの塩素化合物を伴う排
ガスの処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体製造におけるＣＶＤ工程か
ら排出される種々の塩素化合物含有排ガスの処理は、カ
ラムに充填した処理剤で吸着する方法や、湿式スクラバ
による吸収で行われている。これらの処理法のうち、吸
着法には、処理剤破過時に交換が必要でランニングコス
トが大きく、Ｈ2 が共存したときにこれを処理できな
い、という問題点を有し、また、湿式吸収法には、除去
率が比較的低いし、Ｈ2 の処理ができないという問題点
を有していた。
ら排出される種々の塩素化合物含有排ガスの処理は、カ
ラムに充填した処理剤で吸着する方法や、湿式スクラバ
による吸収で行われている。これらの処理法のうち、吸
着法には、処理剤破過時に交換が必要でランニングコス
トが大きく、Ｈ2 が共存したときにこれを処理できな
い、という問題点を有し、また、湿式吸収法には、除去
率が比較的低いし、Ｈ2 の処理ができないという問題点
を有していた。
【０００３】また、ランニングコストが比較的小で、可
燃性ガスの除去率が高い排ガス処理装置として、排ガス
を電気ヒータ等で加熱した反応槽内を通過させる加熱酸
化分解式排ガス処理装置がある。この装置の場合は、Ｈ
2 が共存しても酸化できるので、高濃度のＨ2 が残留す
る問題はないが、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 等の塩素化合物を含有
する排ガスを処理する際に、Ｃｌ2 が生成する問題があ
り、排ガス処理に適用できなかった。塩素化合物中のＣ
ｌの一部が酸化されて、Ｃｌ2 に転化する現象である
が、Ｃｌ2 は水スクラバでは除去できないために、有害
なＣｌ2 が排出されてしまうという問題点を有している
ためである。
燃性ガスの除去率が高い排ガス処理装置として、排ガス
を電気ヒータ等で加熱した反応槽内を通過させる加熱酸
化分解式排ガス処理装置がある。この装置の場合は、Ｈ
2 が共存しても酸化できるので、高濃度のＨ2 が残留す
る問題はないが、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 等の塩素化合物を含有
する排ガスを処理する際に、Ｃｌ2 が生成する問題があ
り、排ガス処理に適用できなかった。塩素化合物中のＣ
ｌの一部が酸化されて、Ｃｌ2 に転化する現象である
が、Ｃｌ2 は水スクラバでは除去できないために、有害
なＣｌ2 が排出されてしまうという問題点を有している
ためである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術に鑑み、Ｃｌ2 の生成をなくし、塩素化合物含有排ガ
ス処理に加熱酸化分解式排ガス処理装置を適用して、ラ
ンニングコストが低廉で処理効率の高い排ガス処理方法
を提供することを課題とする。
術に鑑み、Ｃｌ2 の生成をなくし、塩素化合物含有排ガ
ス処理に加熱酸化分解式排ガス処理装置を適用して、ラ
ンニングコストが低廉で処理効率の高い排ガス処理方法
を提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、塩素化合物が含まれるガスを、加熱酸
化分解式排ガス処理装置で酸化分解後に湿式スクラバを
通す排ガス処理方法において、前記塩素化合物が含まれ
る被処理ガスにＨ2 ガスを添加することとしたものであ
る。前記排ガス処理方法において、Ｈ2 ガスは、被処理
ガスの０．３倍から５倍量を添加するのが良い。
に、本発明では、塩素化合物が含まれるガスを、加熱酸
化分解式排ガス処理装置で酸化分解後に湿式スクラバを
通す排ガス処理方法において、前記塩素化合物が含まれ
る被処理ガスにＨ2 ガスを添加することとしたものであ
る。前記排ガス処理方法において、Ｈ2 ガスは、被処理
ガスの０．３倍から５倍量を添加するのが良い。
【０００６】
【発明の実施の形態】次に、本発明を図面を用いて説明
する。図１に、本発明の排ガス処理方法に用いる装置の
概略構成図を示す。図１において、１は酸化分解式排ガ
ス処理装置、２は水スクラバであり、酸化分解式排ガス
処理装置１は反応槽５と電気ヒータ６とからなり、水ス
クラバ２は洗浄槽７とスプレーノズル８とからなる。被
処理ガス４は、マスフローコントローラ３を通って所定
量のＨ2 １３が添加されて、排ガス処理装置１の上部か
ら、反応槽５に流入し、また、酸素１２（純酸素又は空
気）が反応槽上部に流入して、反応槽５で電気ヒータ６
により、通常、８００℃〜９００℃に加熱されて酸化分
解が進む。
する。図１に、本発明の排ガス処理方法に用いる装置の
概略構成図を示す。図１において、１は酸化分解式排ガ
ス処理装置、２は水スクラバであり、酸化分解式排ガス
処理装置１は反応槽５と電気ヒータ６とからなり、水ス
クラバ２は洗浄槽７とスプレーノズル８とからなる。被
処理ガス４は、マスフローコントローラ３を通って所定
量のＨ2 １３が添加されて、排ガス処理装置１の上部か
ら、反応槽５に流入し、また、酸素１２（純酸素又は空
気）が反応槽上部に流入して、反応槽５で電気ヒータ６
により、通常、８００℃〜９００℃に加熱されて酸化分
解が進む。
【０００７】ここで注入される純酸素又は空気は、可燃
性ガスの場合は、理論当量の２倍の酸素に相当する純酸
素又は空気、非可燃性ガスの場合は通常１０リットル／
分〜２０リットル／分の空気を注入する。酸化分解され
た処理ガスは、高温排気の温度低下及び反応生成物（Ｓ
ｉＯ2 粒子等）除去用の水スクラバ２に導入されて、ス
プレーノズル８からのスプレー水９により、洗浄されて
無害な処理ガス１０となる。図１では、Ｈ2 １３は被処
理ガス４に導入しているが、直接反応槽５の上部（被処
理ガス流入側）に導入してもよい。ただし、ＣｌＦ3 の
ように室温でＨ2 と反応するガスが対象の場合は、反応
槽の上部に排ガスと別ラインで流入させなければならな
い。Ｈ2 必要量は対象被処理ガス種及びＨ2 の流入方法
により異なる。Ｃｌ2 が生成しにくいＳｉＨ2 Ｃｌ2 の
場合には、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 の０．３倍から０．５倍程度
でよいが、熱分解によりＣｌ2 が生成しやすいＣｌＦ3
などの場合には、ＣｌＦ3 の５倍から６倍のＨ2 が必要
である。
性ガスの場合は、理論当量の２倍の酸素に相当する純酸
素又は空気、非可燃性ガスの場合は通常１０リットル／
分〜２０リットル／分の空気を注入する。酸化分解され
た処理ガスは、高温排気の温度低下及び反応生成物（Ｓ
ｉＯ2 粒子等）除去用の水スクラバ２に導入されて、ス
プレーノズル８からのスプレー水９により、洗浄されて
無害な処理ガス１０となる。図１では、Ｈ2 １３は被処
理ガス４に導入しているが、直接反応槽５の上部（被処
理ガス流入側）に導入してもよい。ただし、ＣｌＦ3 の
ように室温でＨ2 と反応するガスが対象の場合は、反応
槽の上部に排ガスと別ラインで流入させなければならな
い。Ｈ2 必要量は対象被処理ガス種及びＨ2 の流入方法
により異なる。Ｃｌ2 が生成しにくいＳｉＨ2 Ｃｌ2 の
場合には、ＳｉＨ2 Ｃｌ2 の０．３倍から０．５倍程度
でよいが、熱分解によりＣｌ2 が生成しやすいＣｌＦ3
などの場合には、ＣｌＦ3 の５倍から６倍のＨ2 が必要
である。
【０００８】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例１ ＳｉＨ2 Ｃｌ2 、ＣｌＦ3 、ＴｉＣｌ4 をそれぞれ含有
する被処理ガス（Ｎ2ガス）を、図１に示す装置を用い
て処理した結果を、表１〜表３に示す。表１はＳｉＨ2
Ｃｌ2 、表２はＣｌＦ3 含有ガスであり、反応層温度は
９００℃、酸化用空気流量は２０リットル／ｍｉｎで、
Ｈ2 は被処理ガスとは別ラインから反応槽に流入してい
る。また、表３はＴｉＣｌ4 含有ガスであり、反応層温
度は９２０℃、酸化用空気流量は２０リットル／ｍｉｎ
で、Ｈ2 は被処理ガスに添加して反応槽に流入してい
る。
る。 実施例１ ＳｉＨ2 Ｃｌ2 、ＣｌＦ3 、ＴｉＣｌ4 をそれぞれ含有
する被処理ガス（Ｎ2ガス）を、図１に示す装置を用い
て処理した結果を、表１〜表３に示す。表１はＳｉＨ2
Ｃｌ2 、表２はＣｌＦ3 含有ガスであり、反応層温度は
９００℃、酸化用空気流量は２０リットル／ｍｉｎで、
Ｈ2 は被処理ガスとは別ラインから反応槽に流入してい
る。また、表３はＴｉＣｌ4 含有ガスであり、反応層温
度は９２０℃、酸化用空気流量は２０リットル／ｍｉｎ
で、Ｈ2 は被処理ガスに添加して反応槽に流入してい
る。
【０００９】
【表１】
【００１０】
【表２】
【００１１】
【表３】 このように、Ｈ2 を添加しない場合は、数１０ｐｐｍか
ら数１０００ｐｐｍのＣｌ2 が処理後のガスに含有され
ているが、一定量以上のＨ2 を添加することにより、Ｃ
ｌ2 濃度は０．５ｐｐｍ以下になる。
ら数１０００ｐｐｍのＣｌ2 が処理後のガスに含有され
ているが、一定量以上のＨ2 を添加することにより、Ｃ
ｌ2 濃度は０．５ｐｐｍ以下になる。
【００１２】
【発明の効果】加熱酸化方式の排ガス処理装置は、可燃
性のガスを低ランニングコストで処理できる特長を有す
るものであるが、これまでは有害なＣｌ2 が生成してし
まうために、可燃性のＳｉＨ2 Ｃｌ2 なども処理できな
かった。また、Ｃｌ化合物の他に、時間帯がずれて大量
のＨ2 が流れる場合には、Ｃｌ化合物を吸着や湿式吸収
で処理しても、Ｈ2 による爆発などの危険性を防止する
ために、大量のＮ2 で希釈しているのが一般的で、Ｎ2
の費用も膨大になっている。上記のような場合に、本発
明によれば、可燃性ガスを酸化分解できる処理装置で、
有害な副生成物の発生なしにＣｌ化合物を処理でき、か
つＨ2 の酸化もできるので、排ガス処理費用が低廉にな
る効果がある。ＣＶＤ装置のクリーニングガスとして使
われているＣｌＦ3 は、専用の吸着処理装置で処理され
ていて、ＣＶＤ時の排ガス装置の他に、これが必要であ
る。本発明によれば、可燃性ガスが多いＣＶＤ排ガス
も、クリーニング排ガスも１台の加熱酸化分解式の排ガ
ス処理装置で処理でき、ランニングコスト低減の他に、
排ガス処理装置の設置スペースが小になる効果もある。
性のガスを低ランニングコストで処理できる特長を有す
るものであるが、これまでは有害なＣｌ2 が生成してし
まうために、可燃性のＳｉＨ2 Ｃｌ2 なども処理できな
かった。また、Ｃｌ化合物の他に、時間帯がずれて大量
のＨ2 が流れる場合には、Ｃｌ化合物を吸着や湿式吸収
で処理しても、Ｈ2 による爆発などの危険性を防止する
ために、大量のＮ2 で希釈しているのが一般的で、Ｎ2
の費用も膨大になっている。上記のような場合に、本発
明によれば、可燃性ガスを酸化分解できる処理装置で、
有害な副生成物の発生なしにＣｌ化合物を処理でき、か
つＨ2 の酸化もできるので、排ガス処理費用が低廉にな
る効果がある。ＣＶＤ装置のクリーニングガスとして使
われているＣｌＦ3 は、専用の吸着処理装置で処理され
ていて、ＣＶＤ時の排ガス装置の他に、これが必要であ
る。本発明によれば、可燃性ガスが多いＣＶＤ排ガス
も、クリーニング排ガスも１台の加熱酸化分解式の排ガ
ス処理装置で処理でき、ランニングコスト低減の他に、
排ガス処理装置の設置スペースが小になる効果もある。
【図１】本発明の排ガス処理方法に用いる装置の概略構
成図。
成図。
１：酸化分解式排ガス処理装置、２：水スクラバ、３：
マスフローコントローラ、４：被処理ガス、５：反応
槽、６：空気ヒータ、７：洗浄槽、８：スプレーノズ
ル、９：洗浄水、１０：処理ガス、１１：排水、１２：
酸素含有ガス、１３：Ｈ2 、
マスフローコントローラ、４：被処理ガス、５：反応
槽、６：空気ヒータ、７：洗浄槽、８：スプレーノズ
ル、９：洗浄水、１０：処理ガス、１１：排水、１２：
酸素含有ガス、１３：Ｈ2 、
Claims (2)
- 【請求項１】 塩素化合物が含まれるガスを、加熱酸化
分解式排ガス処理装置で酸化分解後に湿式スクラバを通
す排ガス処理方法において、前記塩素化合物が含まれる
被処理ガスにＨ2 ガスを添加することを特徴とする排ガ
ス処理方法。 - 【請求項２】 前記Ｈ2 ガスは、被処理ガスの０．３倍
から５倍量を添加することを特徴とする請求項１記載の
排ガス処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9219824A JPH1147550A (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | 排ガス処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9219824A JPH1147550A (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | 排ガス処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1147550A true JPH1147550A (ja) | 1999-02-23 |
Family
ID=16741623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9219824A Pending JPH1147550A (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | 排ガス処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1147550A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL2026632A (en) | 2019-10-10 | 2021-05-31 | Ebara Corp | Exhaust System and Exhaust Method |
-
1997
- 1997-08-01 JP JP9219824A patent/JPH1147550A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL2026632A (en) | 2019-10-10 | 2021-05-31 | Ebara Corp | Exhaust System and Exhaust Method |
| US11090619B2 (en) | 2019-10-10 | 2021-08-17 | Ebara Corporation | Exhaust system and exhaust method |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040309 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040413 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040826 |