JP4626611B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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凸部の幅 : 90nm
凹部の幅 : 60nm
凹凸の段差(凹部34の深さ): 18nm
凹凸パターンを形成した範囲:中心から半径16〜18mmの範囲
被加工体10に印加するバイアスパワー :RF150W
チャンバ内圧力 :0.3Pa
ターゲットと被加工体との距離 :250nm
成膜厚さ(凹部34上の第1の充填材36の厚さ) :20nm
被加工体10に印加するバイアスパワー :RF150W
チャンバ内圧力 :0.3Pa
ターゲットと被加工体との距離 :250nm
成膜厚さ(凹部34上の第2の充填材45の厚さ) :40nm
ビーム電圧 :700V
ビーム電流 :1100mA
サプレッサー電圧 :400V
Arガス流量 :11sccm
チャンバ内圧力 :0.04Pa
凸部の幅 :180nm
凹部の幅 :120nm
凹凸の段差(凹部34の深さ): 18nm
凹凸パターンを形成した範囲 :中心から半径16〜18mmの範囲
上記実施例2のKに対し、第1の充填材36を成膜しないで、被検出材44を記録層32の上に0.5nmの厚さで直接成膜し、この被検出材44の上に第2の充填材45を60nmの厚さで直接成膜した。他の条件は上記実施例2のKと同様として1種類(X)の10枚のサンプルを作製した。
12…基板
14…下地層
15…反強磁性層
16…軟磁性層
18…配向層
20…連続記録層
22…第1のマスク層
24…第2のマスク層
26…レジスト層
30…磁気記録媒体
32…記録層
32A…記録要素
34…凹部
36…第1の充填材
38…保護層
40…潤滑層
44…検出材
44A…上面
44B…下面
45…第2の充填材
S102…被加工体作製工程
S104…第1の充填材成膜工程
S106…被検出材成膜工程
S108…第2の充填材成膜工程
S110…平坦化工程
S112…保護層成膜工程
S114…潤滑層成膜工程
Claims (2)
- 基板及び該基板の上に所定の凹凸パターンで形成されて該凹凸パターンの凸部として記録要素が形成された記録層を有する被加工体の上に第1の充填材を成膜して前記記録要素を被覆すると共に該記録要素の間の凹部を少なくとも部分的に充填する第1の充填材成膜工程と、前記第1の充填材の上に被検出材を成膜する被検出材成膜工程と、前記被検出材の上に第2の充填材を成膜する第2の充填材成膜工程と、前記被加工体の表面に加工用ガスを照射して前記第1の充填材、前記被検出材及び前記第2の充填材のうち前記記録要素の上面よりも上側に成膜された部分の少なくとも一部を除去して表面を平坦化する平坦化工程と、をこの順で実行し、前記被検出材成膜工程において酸化可能である金属を前記第1の充填材の上に分散させて、且つ、該第1の充填材を完全に被覆しないように0.3〜1nmの厚さで成膜して前記被検出材を形成し、前記第1の充填材及び前記第2の充填材の少なくとも一方として酸化物を用い該酸化物からの酸素の拡散により前記被検出材を酸化させ、前記平坦化工程において二次イオン質量分析法により前記被加工体から除去されて飛散する前記被検出材の成分を検出し、該被検出材の成分の検出結果に基いて前記加工用ガスの照射を停止することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項1において、
前記第1の充填材成膜工程において前記凹凸パターンの凹部を完全に充填するように前記第1の充填材を前記凹部の深さ以上の厚さで成膜し、前記平坦化工程において前記被検出材のうち前記凹部の上から除去されて飛散する被検出材の成分の検出結果に基いて前記加工用ガスの照射を停止することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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2006
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