JP4475147B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
凸部の幅 : 60nm
凹部の幅 : 60nm
凹凸の段差 : 20nm
ビーム電圧 :500V
ビーム電流 :500mA
サプレッサー電圧 :400V
Arガス流量 :11sccm
真空チャンバ内圧力 :0.04Pa
被加工体10に印加するバイアスパワー :RF200W
チャンバ内圧力 :0.3Pa
成膜厚さ(記録要素32A上の充填材36の厚さ) :80nm
ビーム電圧 :700V
ビーム電流 :1100mA
サプレッサー電圧 :400V
Arガス流量 :11sccm
チャンバ内圧力 :0.04Pa
上記実施例に対し、第1のマスク層22の厚さを約8nmとした。他の条件は上記実施例と同様として10枚の磁気記録媒体30を作製した。
12…基板
14…下地層
15…反強磁性層
16…軟磁性層
18…配向層
20…連続記録層
22…第1のマスク層
24…第2のマスク層
26…レジスト層
30…磁気記録媒体
32…記録層
32A…記録要素
34…凹部
36…充填材
38…保護層
40…潤滑層
42…突出部
44…検出膜
S102…被加工体作製工程
S104…記録層加工工程
S106…充填材成膜工程
S108…平坦化工程
S110…保護層成膜工程
S112…潤滑層成膜工程
S202…検出膜成膜工程
Claims (5)
- 基板の上に連続記録層及び凹凸パターンのマスク層がこの順で形成された被加工体をエッチングし、前記連続記録層における前記凹凸パターンの凹部に相当する部分を除去することにより所定の凹凸パターンの記録層を形成しつつ、除去された材料で前記記録層の凸部である記録要素の上部近傍に該記録要素の上面よりも前記基板と反対側に突出する突出部を形成する記録層加工工程と、前記記録層の上に充填材を成膜して前記記録要素の間の凹部を充填する充填材成膜工程と、平坦化のために前記充填材のうち前記記録要素の上面よりも前記基板と反対側に成膜された余剰の充填材及び前記突出部を除去し、且つ、除去された前記突出部の成分の検出に基いて加工を停止する平坦化工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
- 基板の上に連続記録層及び凹凸パターンのマスク層がこの順で形成された被加工体をエッチングし、前記連続記録層における前記凹凸パターンの凹部に相当する部分を除去することにより所定の凹凸パターンの記録層を形成しつつ、除去された材料で前記記録層の凸部である記録要素の上部近傍に該記録要素の上面よりも前記基板と反対側に突出する突出部を形成する記録層加工工程と、前記記録層及び前記突出部の上に検出膜を成膜する検出膜成膜工程と、該検出膜の上に充填材を成膜して前記記録要素の間の凹部を充填する充填材成膜工程と、平坦化のために前記充填材のうち前記記録要素の上面よりも前記基板と反対側に成膜された余剰の充填材、前記突出部及び前記検出膜における少なくとも前記突出部を被覆する部分を除去し、且つ、除去された前記検出膜の成分の検出に基いて加工を停止する平坦化工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項2において、
前記検出膜の材料として前記平坦化工程における加工速度が前記充填材の加工速度よりも低い材料を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項1において、
前記平坦化工程において、ドライエッチングにより前記余剰の充填材及び前記突出部を除去し、且つ、二次イオン質量分析法により該突出部の成分を検出することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項2又は3において、
前記平坦化工程において、ドライエッチングにより前記余剰の充填材、前記突出部及び前記検出膜の少なくとも一部を除去し、且つ、二次イオン質量分析法により該検出膜の成分を検出することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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JP2005065513A JP4475147B2 (ja) | 2005-03-09 | 2005-03-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2005065513A JP4475147B2 (ja) | 2005-03-09 | 2005-03-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
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2005
- 2005-03-09 JP JP2005065513A patent/JP4475147B2/ja active Active
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