JP2007012119A - 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上の記録トラック部とサーボ部に強磁性体の凹凸パターンを形成し、
前記強磁性体の凸部の高さよりも厚く平坦化膜を形成し、前記平坦化膜を前記強磁性体の凸部上面に達するまでイオンビームエッチングし、前記平坦化膜の材料に応じて、前記基板の垂線方向に対して角度θをなすように設置されたイオンカウンターによって入射粒子の全数の変化に基づいて平坦化エッチングの終点を判定することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【選択図】 図4
Description
基板上の記録トラック部とサーボ部に強磁性体の凹凸パターンを形成し、
前記強磁性体の凸部の高さよりも厚く平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜を前記強磁性体の凸部上面に達するまでイオンビームエッチングし、前記平坦化膜の材料に応じて、前記基板の垂線方向に対して角度θをなすように設置されたイオンカウンターによって入射粒子の全数の変化に基づいて平坦化エッチングの終点を判定する
ことを特徴とする。
チャンバーと、
前記チャンバーに取り付けられたイオンソースと、
前記チャンバーに取り付けられたイオンカウンターと、
記録トラック部とサーボ部に強磁性体の凹凸パターンが形成され、前記強磁性体の凸部の高さよりも厚く平坦化膜が形成された基板を支持する支持部材と
を具備し、前記イオンカウンターは、前記平坦化膜の材料に応じて、前記基板の垂線方向に対して角度θをなすように設置されていることを特徴とする。
基板としては、たとえばガラス基板、Al系合金基板、セラミック基板、カーボン基板、Si単結晶基板などを用いることができる。ガラス基板には、アモルファスガラスまたは結晶化ガラスを用いることができる。アモルファスガラスとしては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスなどがある。結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスなどがある。セラミック基板としては、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体や、これらの焼結体を繊維強化したものなどを用いることができる。Si単結晶基板、いわゆるシリコンウエハーは表面に酸化膜を有していても構わない。また、上記金属基板、非金属基板の表面にメッキ法やスパッタ法を用いてNiP層が形成されたものを用いることもできる。
垂直磁気記録媒体を作製する場合には、軟磁性下地層(SUL)上に垂直磁気記録層を有するいわゆる垂直二層媒体とする。垂直二層媒体の軟磁性下地層は、記録磁極からの記録磁界を通過させ、記録磁極の近傍に配置されたリターンヨークへ記録磁界を還流させるために設けられている。すなわち、軟磁性下地層は記録ヘッドの機能の一部を担っており、記録層に急峻な垂直磁界を印加して、記録効率を向上させる役目を果たす。
垂直磁気記録層には、たとえば、Coを主成分とし、少なくともPtを含み、必要に応じてCrを含み、さらに酸化物(たとえば酸化シリコン、酸化チタン)を含む材料が用いられる。垂直磁気記録層中では、磁性結晶粒子が柱状構造をなしていることが好ましい。このような構造を有する垂直磁気記録層では、磁性結晶粒子の配向性および結晶性が良好であり、結果として高密度記録に適した信号/ノイズ比(S/N比)を得ることができる。上記のような構造を得るためには、酸化物の量が重要になる。酸化物の含有量は、Co、Pt、Crの総量に対して、3mol%以上12mol%以下が好ましく、5mol%以上10mol%以下がより好ましい。垂直磁気記録層中の酸化物の含有量が上記の範囲であれば、磁性粒子の周りに酸化物が析出し、磁性粒子を孤立化および微細化させることができる。酸化物の含有量が上記範囲を超える場合、酸化物が磁性粒子中に残留し、磁性粒子の配向性、結晶性を損ね、さらには磁性粒子の上下に酸化物が析出し、結果として磁性粒子が垂直磁気記録層を上下に貫いた柱状構造が形成されなくなる。一方、酸化物の含有量が上記範囲未満である場合、磁性粒子の孤立化および微細化が不十分となり、結果として記録再生時におけるノイズが増大し、高密度記録に適した信号/ノイズ比(S/N比)が得られなくなる。
保護層は、垂直磁気記録層の腐食を防ぐとともに、磁気ヘッドが媒体に接触したときに媒体表面の損傷を防ぐ作用を有する。保護層の材料としては、たとえばC、SiO2、ZrO2を含む材料が挙げられる。保護層の厚さは、1〜10nmとすることが好ましい。保護層の厚さを上記の範囲にすると、ヘッドと媒体の距離を小さくできるので、高密度記録に好適である。
潤滑剤としては、たとえばパーフルオロポリエーテル、フッ化アルコール、フッ素化カルボン酸などを用いることができる。
Claims (8)
- 基板上の記録トラック部とサーボ部に強磁性体の凹凸パターンを形成し、
前記強磁性体の凸部の高さよりも厚く平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜を前記強磁性体の凸部上面に達するまでイオンビームエッチングし、前記平坦化膜の材料に応じて、前記基板の垂線方向に対して角度θをなすように設置されたイオンカウンターによって入射粒子の全数の変化に基づいて平坦化エッチングの終点を判定する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記平坦化膜にSiO2、Al2O3およびSiからなる群より選択される材料を用いる場合に、前記基板の垂線方向に対する前記イオンカウンターの角度θを50°以上70°以下に設定することを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記平坦化膜にC、Ti、Ta、Ru、PtおよびPdからなる群より選択される材料を用いる場合に、前記基板の垂線方向に対する前記イオンカウンターの角度θを20°以上40°以下に設定することを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- チャンバーと、
前記チャンバーに取り付けられたイオンソースと、
前記チャンバーに取り付けられたイオンカウンターと、
記録トラック部とサーボ部に強磁性体の凹凸パターンが形成され、前記強磁性体の凸部の高さよりも厚く平坦化膜が形成された基板を支持する支持部材と
を具備し、前記イオンカウンターは、前記平坦化膜の材料に応じて、前記基板の垂線方向に対して角度θをなすように設置されていることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 - 前記平坦化膜にSiO2、Al2O3およびSiからなる群より選択される材料を用いる場合に、前記基板の垂線方向に対する前記イオンカウンターの角度θが50°以上70°以下に設定されていることを特徴とする請求項4に記載の磁気記録媒体の製造装置。
- 前記平坦化膜にC、Ti、Ta、Ru、PtおよびPdからなる群より選択される材料を用いる場合に、前記基板の垂線方向に対する前記イオンカウンターの角度θが20°以上40°以下に設定されていることを特徴とする請求項4に記載の磁気記録媒体の製造装置。
- 前記支持部材は、回転可能な可動ステージであることを特徴とする請求項4に記載の磁気記録媒体の製造装置。
- 前記イオンカウンターは、前記平坦化膜の材料に応じて、前記基板の垂線方向に対して角度θをなすように前記チャンバーに固定されていることを特徴とする請求項4に記載の磁気記録媒体の製造装置。
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