JP4608918B2 - 水素ガス検出材料及びこれを用いた水素ガスセンサ - Google Patents

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Description

本発明は、空気中の水素ガスを検出するための水素ガス検出材料及びこれを用いた水素ガスセンサに関する。
近年、水素、メタノール等を燃料として用いた、燃料電池車の研究・開発が活発に行われている。燃料電池車においては、水素ガス燃料の濃度制御や、水素ガスの漏れ検出のために水素ガスセンサが用いられる。そして、燃料電池車用の水素ガスセンサには、検出感度、水素ガス選択性、耐久性、製造コスト等の点で、さらなる改善が求められている。
すでに実用化されている水素ガスセンサとしては、水素ガス検出材料として白金系触媒を用いたものや、金属酸化物である酸化スズを用いたものが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
これに対し、酸化亜鉛は、水素ガスとの接触前後における電気抵抗率の変化が大きく、高い検出感度が得られる点や、水素ガスとの接触後の、初期状態への回復に要する時間が短い点等、酸化スズなどと比較して有利な性能を有していることが知られていた。
特許第3438978号公報
しかしながら、酸化亜鉛は、水素ガスの場合と、一酸化炭素ガス等の他の還元性ガスの場合との間で、ガスとの接触前後における電気抵抗の変化率の差異が少ないために、水素ガスのみを分離して検出するための、いわゆる水素ガス選択性が必ずしも充分でないという問題があった。特に、燃料電池車用等の水素ガスセンサの場合、水素ガスと一酸化炭素ガスとを分離して検出することが求められるが、上記のような問題が長年の間未解決であったために、酸化亜鉛を用いた水素ガスセンサを燃料電池車等に用いることは、実用的には極めて困難であるとされてきた。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、水素ガスの検出感度及び水素ガス選択性に優れ、燃料電池車用等に好適に用いることができる水素ガス検出材料及びこれを用いた水素ガスセンサを提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の水素ガス検出材料は、Znと、Zr、In、Nb、La、Re、Yb、Ho、Er、Hf、Dy、Ga及びAlからなる群より選ばれる少なくとも一種の共存元素と、を含有する複合酸化物を含むことを特徴とするものである。
このように、Znと上記特定の共存元素とが共存した複合酸化物を用いたことにより、酸化亜鉛が有する高い検出感度等の優れた性能をほとんど損なうことなしに、その水素ガス選択性が著しく改善される。
複合酸化物は、上記共存元素を、Zn及び共存元素の合計量100モルに対して0.1〜5モル含有することが好ましい。共存元素の量をこのような範囲とすることで、水素ガス選択性の改善効果がより顕著に発現する。
本発明の水素ガス検出材料はさらに、BET比表面積(BET法により測定される比表面積の値)が、0.1〜100m/gであることが好ましい。BET比表面積が0.1m/g未満であると水素ガスに対する検出感度が充分でなくなる場合があり、100m/gを超えると、材料としての機械強度が充分でなくなる場合がある。
また、本発明の水素ガス検出材料においては、上記複合酸化物からなる粒子(以下、「複合酸化物粒子」という場合がある。)が、互いに連結して多孔質体を形成していることが、好ましい。このような多孔質体においては、複合酸化物粒子の多数が互いに付着することにより連結された凝集体を形成して、全体として一体化されているため、全体としての形態を保ちながら、接触面積を効率的に増大し、検出感度をさらに高めることができる。
上記本発明の水素ガス検出材料は、Znイオン及び上記共存元素のイオンを有する水溶液を、水酸化物イオンを有する水溶液に接触させて、Zn及び上記共存元素を有する共沈物を得る共沈工程と、該共沈物を加熱する加熱工程と、を備える製造方法を採用することにより、効率的かつ確実に得ることができる。
本発明の水素ガスセンサは、上記本発明の水素ガス検出材料からなる水素ガス検出部と、該水素ガス検出部を加熱する加熱部と、を備える。この加熱部によって、水素ガス検出部を高温に維持することができ、水素ガス検出感度や、水素ガス検出動作の安定性に優れる水素ガスセンサが得られる。
本発明によれば、水素ガスの検出感度及び水素ガス選択性に優れ、燃料電池車用等に好適に用いることができる水素ガス検出材料及びこれを用いた水素ガスセンサが得られる。
以下、場合により図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
(水素ガス検出材料)
本発明の水素ガス検出材料は、Znと、Zr、In、Nb、La、Re、Yb、Ho、Er、Hf、Dy、Ga及びAlからなる群より選ばれる少なくとも一種の共存元素と、を含有する複合酸化物を含むものである。
これら共存元素の中でも、水素ガス選択性が高い点で、In、Ho及びLaからなる群より選ばれる少なくとも一種であることが特に好ましい。
複合酸化物は、上記共存元素を、Zn及び共存元素の合計量100モルに対して0.1〜5モル含有することが好ましく、0.1〜1モル含有することがより好ましい。
また、複合酸化物は、Zn及び共存元素が互いに均一に分散した、全体として均一な状態であることが好ましい。複合酸化物において共存元素が局所的に偏在していると、水素ガス選択性改善の効果が効果的に発現しなくなる傾向にある。
なお、本発明の水素ガス検出材料は上記複合酸化物を主成分とするものであるが、塩素化合物、白金族元素系化合物等をさらに含んでいてもよい。
水素ガス検出材料は、検出感度をさらに高めるために、BET比表面積が0.1〜100m/gであることが好ましいが、水素ガス検出材料を微細な孔が形成された多孔質体からなるものとすることで、効率的に表面積を増大させることができ、このような範囲のBET比表面積を有するものを得ることが容易になる。
この多孔質体は、凝集している複合酸化物粒子を加熱すること等により、複合酸化物粒子が互いに連結して形成された集合体として、好適に得ることができる。
以上述べた水素ガス検出材料を得る方法としては、例えば、Znイオン及び上記共存元素のイオンを有する水溶液を、水酸化物イオンを有する水溶液に接触させてZn及び上記共存元素を有する共沈物を得る共沈工程と、該共沈物を加熱する加熱工程と、を備える製造方法を好適に採用できる。
共沈工程においてはまず、例えば、Znイオン及び共存元素のイオンを有する水溶液(以下、「金属イオン水溶液」という場合がある)と、水酸化物イオンを有する水溶液とを少量ずつ接触させ、共沈物を得る。
このとき用いる金属イオン水溶液は、Znイオンと、Zr、In、Nb、La、Re、Yb、Ho、Er、Hf、Dy、Ga及びAlからなる群より選ばれる少なくとも一種の共存元素のイオン(以下、「共存元素イオン」という場合がある)とが共存する水溶液である。共沈させる金属元素のイオンを予め共存させた水溶液を用いることで、水酸化亜鉛と共存元素の水酸化物とが互いに均一に分散された共沈物が得られる。
この金属イオン水溶液は、例えば、水にそれぞれの元素の塩を溶解させることにより得られる。溶解させる塩としては、塩酸塩、硝酸塩、硫酸塩等の無機塩が好ましい。
金属イオン水溶液において、Znイオンの濃度は0.01〜1モル/Lであることが好ましく、共存元素イオンの濃度は0.001〜0.05モル/Lであることが好ましい。また、Znイオン及び共存元素イオンの合計量100モルに対して、共存元素イオンが0.1〜5モルとなる比率で共存させることが好ましい。
一方、水酸化物イオンを有する水溶液としては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の、水溶液中で水酸化物イオンを生成する塩基の水溶液を用いることができるが、特に、アンモニア水を用いることが、カチオン成分をアンモニアとして容易に除去できるため、好ましい。水酸化物イオンを有する水溶液においては、水酸化物イオンの濃度は0.1〜1モル/Lであることが好ましい。
共沈工程においては、均一な共沈物を得るために、混合液のpHが、水酸化亜鉛と共存元素の水酸化物とがともに沈殿するようなpHとなるように調整しながら混合することが好ましい。具体的には、混合液のpHが6.5〜7.5になるように調整することが好ましい。
次に、加熱工程において、得られた共沈物を好ましくはデカンテーション、遠心分離、ろ別等してから加熱することで、Zn及び共存元素を有する複合酸化物を含む、水素ガス検出材料が得られる。このときの加熱温度は、400〜800℃が好ましく、500〜700℃がより好ましい。このような温度範囲で加熱することで、複合酸化物粒子が互いに連結して多孔質を形成している水素ガス検出材料を得ることができる。この加熱温度が400℃未満であると、水素ガス検出のために加熱されたときに材料特性が安定しない場合があり、800℃を超えると、水素ガス検出材料の比表面積が低下する場合がある。
以上のような本発明の水素ガス検出材料は、例えば、電気絶縁性基板上に製膜して水素ガス検出部とすることにより、その電気抵抗の変化に基づいて水素ガスを検出する、水素ガスセンサ等に用いることができる。
(水素ガスセンサ)
図1は、本発明の水素ガスセンサの第一実施形態の基本構成を模式的に示す断面図である。
図1に示す水素ガスセンサ100は、電気絶縁性基板1と、電気絶縁性基板1の一方面(図中上側)に設けられた、水素ガス検出部である水素ガス検出材料膜2と、電気絶縁性基板1の他方面(図中下側)に設けられ、水素ガス検出材料膜2を加熱する加熱部である抵抗体膜3と、抵抗体膜3を被覆するように電気絶縁性基板1上に設けられた拡散防止層4と、さらに拡散防止層4を被覆するように電気絶縁性基板1上に設けられた保護層5とを備えている。
さらに、水素ガスセンサ100は、水素ガス検出材料膜2と接するように電気絶縁性基板1上に設けられた電極30と、抵抗体膜3と接するように電気絶縁性基板1上に設けられた電極31とを備えている。
水素ガスセンサ100においては、電極30を通じて測定される、水素ガスへの接触による水素ガス検出材料膜2の電気抵抗の変化に基づいて、水素ガスが検出される。水素ガス検出材料膜2は、室温付近においては水素ガスとの接触による電気抵抗の変化が小さいため、抵抗体膜3によって絶縁性基板1を介して水素ガス検出材料膜2を加熱することで、高温領域の所定温度に維持される。この所定温度は200〜550℃であることが好ましく、300〜500℃であることがより好ましい。所定温度が200℃未満であると充分な検出感度が得られない場合があり、550℃を超えると周囲の材料の劣化が早まるとともに、水素の大気中における着火温度(約570℃)に近いため、水素ガスの爆発を招きやすくなる可能性がある。
水素ガス検出材料膜2は、上記本発明の水素ガス検出材料が成膜されたものであり、その厚さは1〜200μmであることが好ましく、10〜100μmであることがより好ましい。この厚さが1μm未満であると水素ガス検出感度が低下する傾向にあり、200μmを超えると加熱により膜に亀裂が生じやすくなる傾向にある。
電気絶縁性基板1は、基材10と、基材10の両面に設けられた絶縁層11とで構成され、水素ガス検出材料膜2と抵抗体膜3とを絶縁すること、及び水素ガスセンサとしての形状を保つことを主な目的として設けられている。基材10を構成する材料は、抵抗体膜3から水素ガス検出材料膜2への熱移動の効率を高めるために、水素ガス検出材料膜2、抵抗体膜3及び電気絶縁性基板1の、互いの位置関係に応じて、熱伝導率を考慮して選択することが好ましい。
図1に示す水素ガスセンサ100のように、電気絶縁性基板1の一方面及び他方面に、水素ガス検出材料膜2及び抵抗体膜3がそれぞれ形成された構造の場合、基材10の材料は熱伝導率が比較的高い材料が好ましい。例えば、タングステン、モリブデン、白金、鉄、各種ステンレス材料等の金属や、アルミナ、酸化ベリリウム、炭化ケイ素、炭化タングステン、窒化タングステン、窒化アルミニウム、窒化ホウ素等を好適に用いることができる。
一方、図3に示す水素ガスセンサ120(詳細については後述)のように、電気絶縁性基板1の一方面に、水素ガス検出材料膜2と抵抗体膜3とが共に形成された構造の場合、基材10の材料は熱伝導率が比較的低い材料が好ましい。例えば、石膏、シリカ、ホウケイ酸ガラス、ムライト、ジルコニア等を好適に用いることができる。
基材10を上記のような材料とすることにより、抵抗体膜3から水素ガス検出材料膜2への熱伝導をより確実に高めることができる。また、上記の電気絶縁性基板1の材料は機械強度にも優れていることから、より耐久性に優れる水素ガスセンサが得られる。
基材10の厚さは、熱伝導効率と機械強度とを両立させるために、0.1〜1.5mmであることが好ましく、0.5〜1.0mmであることがより好ましい。また、その主面の形状は特に限定されず、矩形状等の、用途に応じた所望の形状とすることができる。
絶縁層11は、シリカ、アルミナ、ジルコニア、窒化炭素、窒化ケイ素等の絶縁性の材料からなることが好ましい。絶縁層11の厚さは、50〜500nmであることが好ましく、100〜300nmであることがより好ましい。
抵抗体膜3は、電極31を通じて通電することにより発熱し、水素ガス検出材料膜2を加熱する加熱部として機能する。
抵抗体膜3は、スパッタリング、CVD等の薄膜プロセスにより得られる薄膜であることが好ましい。その厚みは0.05〜1μmであることが好ましく、0.1〜0.8μmであることがより好ましい。この厚みが0.05μm未満であると発熱量や耐久性が充分でなくなる傾向にあり、1μmを超えると水素ガスセンサの小型化が困難となり、また、消費電力が大きくなってしまう傾向にある。
抵抗体膜3を構成する材料としては、金属、窒化物、サーメット、シリサイド、ポリシリコン、炭化ケイ素、炭素等を好適に用いることができる。
金属としては、例えば、Fe−Cr−Al、Ni−Cr、Pt、Mo、Ta及びWが、窒化物としては、例えば、BN、TaN、TiN及びAlNが、サーメットとしては、例えば、TaSiO、TaSiC、NbSiO及びCrSiOが、シリサイドとしては、例えば、TaSi、CrSi及びMoSiが、それぞれ挙げられる。
これらの中でも、TaSiO、TaSiC、NbSiO及びポリシリコンからなる群より選ばれる少なくとも一種を抵抗体膜3に用いることが、起動後所定温度に達するまでの時間を短くすることができる点や、急激な温度変化を伴う熱履歴に対する耐久性が高められる点などで優れるため、好ましい。これら特性に優れることは、燃料電池車用の水素ガスセンサの場合、特に重要である。
拡散防止層4は、抵抗体膜3と保護層5との間に介在しながら、抵抗体膜3を被覆するように設けられた層である。拡散防止層4は、保護層5から抵抗体膜3への物質の拡散を抑制する機能を有する。抵抗膜3に保護層5から拡散した物質が不純物として侵入すると、温度の安定性が損なわれて水素ガスセンサの測定動作が不安定となるため、この拡散防止層4を設けることが好ましい。特に、抵抗体膜3を構成する材料が、上記のような金属、窒化物、サーメット、シリサイド、ポリシリコン、炭化ケイ素及び炭素からなる群より選ばれる少なくとも一種である場合や、抵抗体膜3が薄膜である場合、不純物の影響を受けやすいため、このような拡散防止層を設けることが重要である。
拡散防止層4は、シリカ、窒化ケイ素及びアルミナからなる群より選択される少なくとも1種から構成されることが好ましく、また、その厚みは10〜100nmであることが好ましい。
保護層5は、抵抗体膜3からの、水素ガス検出材料膜2とは反対側への熱伝導を抑制することにより、水素ガス検出材料膜2への熱伝導効率を向上することを主な目的として設けられた層である。
保護層5の厚さは、必要な断熱性が確保できるような厚さであればよいが、具体的には100〜1500μmであることが好ましい。
保護層5は、耐火セメント、石膏、シリカ、ムライト、ジルコニア及びホウケイ酸ガラスからなる群より選択される少なくとも1種の材料のような、熱伝導率の低い材料で形成されることが好ましく、これら材料で形成された多孔質体からなることがより好ましい。さらに、これらの材料中に無機質の中空ビーズを混合することが、断熱効果をより高めることができるため、好ましい。これらの中でも、耐火セメントを保護層5に用いることが、断熱性、成形性等の点で好ましい。
水素ガスセンサ100は、例えば、以下のような方法により製造することができる。
まず、基板10の両面に、スパッタリングやCVD等の薄膜プロセスにより絶縁層11を形成させ、電気絶縁性基板1を得る。
次いで、一方(図中上側)の絶縁層11の、基板10と反対側の面に、電極30を所定のパターンでエッチング等により形成させてから、本発明の水素ガス検出材料を塗布等によって成膜し、水素ガス検出材料膜2を形成させる。
続いて、他方(図中下側)の絶縁層11の、基板10と反対側の面に、電極31を所定のパターンでエッチング等により形成させてから、薄膜プロセスにより抵抗体膜3を形成させ、抵抗体膜3の露出している領域を被覆するように、薄膜プロセスにより拡散防止層4を形成させる。さらに、拡散防止層4の露出している領域を被覆するように、ディップコート法等の方法により保護層5を形成させて、水素ガスセンサ100を得る。
なお、第一実施形態の変形態様として、電気絶縁性基板1が、基材としての機能と絶縁層としての機能とを兼ね備えた、電気絶縁性の材料からなる単層で構成されていてもよい。この実施形態に係る水素ガスセンサは、単層で構成される電気絶縁性基板の一方面に電極30及び水素ガス検出材料膜2を形成させ、さらに、電気絶縁性基板の他方面に、電極31を形成させてから、抵抗体膜3、拡散防止層4及び保護層5をこの順に積層することで得られる。
図2は、本発明の水素ガスセンサの第二実施形態の基本構成を模式的に示す断面図である。
図2に示す水素ガスセンサ110は、電気絶縁性基板1を備え、電気絶縁性基板1の一方面(図中上側)に、温度検出膜6と、温度検出膜6を被覆するように形成されている絶縁層7と、水素ガス検出部である水素ガス検出材料膜2とがこの順に積層され、電気絶縁性基板1の他方面(図中下側)に、図1の水素ガスセンサ100と同様の構成で、加熱部である抵抗体膜3と、拡散防止層4と、保護層5とを備えている。
さらに、水素ガスセンサ110は、水素ガス検出材料膜2と接するように絶縁層7上に設けられた電極30と、絶縁層7を介在させて水素ガス検出材料膜2とは電気的に絶縁されるように温度検出膜6上に設けられた電極32と、抵抗体膜3と接するように電気絶縁性基板1上に設けられた電極31とを備えている。
温度検出膜6は、ガス検出材料膜2の温度を検出する温度検出部として、ガス検出材料膜2に近接して設けられている。温度検出膜6の検出した温度情報に基づいて、ガス流量や雰囲気温度の急激な変化に起因する水素ガス検出材料膜2の温度の変動を抑制することにより、水素ガス測定動作の安定性が改善される。この目的のためには、ガス検出材料膜2の温度は、所定温度の±5℃以内の範囲に維持されることが好ましい。
温度検出膜6はスパッタリング、CVD等の薄膜プロセスで得られる薄膜であることが好ましく、その厚さは0.05〜1μmであることが好ましい。
温度検出膜6に用いる材料としては、Cu、Ni、Co、Fe、Mn、Sn及びZn等の金属の酸化物や、SiC、Pt、Rh、Ni、Cr、Fe、Cu、Ir、Re、Mo、Au、Pd、W等を含むものが挙げられ、これらを単独又は複数組み合わせて用いることができる。
絶縁層7は、絶縁層11と同様の電気絶縁材料からなる層であり、水素ガス検出材料膜2と、温度検出膜6とが電気的に絶縁するとともに、温度検出膜6と外気との接触を遮断して、その劣化を防止している。
なお、水素ガスセンサ110は、温度検出膜6の検出した温度情報に基づいて、ガス検出材料膜2の温度を制御する温度制御手段(図2には示していない)を備える。
温度制御手段としては、例えば、温度検出膜6の検出した温度情報に基づいて、ガス検出材料膜2が所定温度に維持されるように抵抗体膜3への通電量を制御する電気回路等を用いることができる。
水素ガスセンサ110は、水素ガスセンサ100と同様の材料を用いて、薄膜プロセス等を用いて各層を順次積層することにより、製造することができる。
図3は、本発明の水素ガスセンサの第三実施形態の基本構成を模式的に示す断面図である。
図3に示す水素ガスセンサ120は、基材10及び基材10の一方面(図中上側)に設けられた絶縁層11を有する電気絶縁性基板1aを備える。そして、絶縁層11上に、加熱部である抵抗体膜3、絶縁層8、温度検出膜6、絶縁層7及び水素ガス検出部である水素ガス検出材料膜2がこの順に積層され、これらと電気絶縁性基板1aとで積層体を構成している。さらに、水素ガスセンサ120は、水素ガス検出材料膜2の、絶縁層7と反対側の面を露出させながら、上記積層体を被覆するように、積層体の外表面上に拡散防止層4と保護層5とが内側からこの順に積層されている。
また、水素ガスセンサ120は、水素ガス検出材料膜2と接するように絶縁層7上に設けられた電極30と、絶縁性7を介在させて水素ガス検出材料膜2とは電気的に絶縁されるように温度検出膜6上に設けられた電極32と、絶縁層8を介在させて温度検出膜6とは電気的に絶縁されるように抵抗体膜3上に設けられた電極31とを備えている。
水素ガスセンサ120の場合、電気絶縁性基板1aの一方面に抵抗体膜3及び水素ガス検出材料膜2が共に設けられており、上記の水素ガスセンサ100及び110のように、抵抗体膜3と水素ガス検出材料膜2との間に電気絶縁性基板が配置される場合と比較して、抵抗体膜3から水素ガス検出材料膜2への熱伝導の効率をさらに高めることができる。
なお、絶縁層8は、絶縁層11と同様の電気絶縁材料からなる層であり、これにより抵抗体膜3と、温度検出膜6とが電気的に絶縁されている。
また、水素ガスセンサ120は、上記の水素ガス検出材料110と同様に、温度検出膜6の検出した温度情報に基づいて、ガス検出材料膜2の温度を制御する温度制御手段(図3には示していない)を備える。
水素ガス検出材料120は、水素ガス検出材料100及び110と同様の材料を好適に用いて、水素ガスセンサ100と同様の方法で製造することができる。
以下に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
<水素ガス検出材料1の作製>
以下の手順にしたがって水素ガス検出材料を作製し、その評価を行った。
まず、塩化亜鉛(関東化学社製)0.095モル(12.95g)及びオキシ塩化ジルコニウム(関東化学社製)0.005モル(1.61g)を水1000gに投入し、塩酸を適宜加えて溶解して得た金属イオン水溶液とアンモニア水とを、攪拌しながら混合し、混合液のpHが7になるように調整して、水酸化亜鉛及び水酸化ジルコニウムを有する白色の共沈物を生成させた。次いで生成した共沈物をデカンテーションにより水で数回洗浄し、水を除去後、600℃で1時間加熱処理し、Zn及びZrを有する複合酸化物粒子を含む、水素ガス検出材料1を得た。
<水素ガス選択性の評価>
ガラス基板上に、長方形状の主面を有し、対向する一対の白金電極薄膜を、互いの間に幅1cmの溝が形成されるように配置し、次いで、水素ガス検出材料1(10g)をポリビニルアルコール(関東化学社製)0.5g及び水10gと混合して得たペーストを、ガラス基板上に形成された上記の溝を充填するように厚さ100μmで塗布した。続いてこれを600℃で1時間加熱して、複合酸化物粒子が互いに連結して多孔質体を形成している水素ガス検出材料膜を形成させた。
このとき、水素ガス検出材料膜を形成している水素ガス検出材料1のBET比表面積は5.3m/g、理論粒径は202nmであった。なお、本実施例においては、BET比表面積はNOVA2000(商品名、カンタクローム社製)を用いて、試料を300℃で30分間真空乾燥した後に測定し、このBET比表面積及び材料の真比重の値から、理論粒径を算出した。
この水素ガス検出材料膜を、大気中で、ガラス基板を介して500℃に加熱した。この状態で白金電極薄膜間の電気抵抗を測定しながら、水素ガス検出材料膜を1体積%の水素ガス及び一酸化炭素ガスにそれぞれ接触させて、これらガスとの接触過程における電気抵抗の経時変化を測定した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で15sec、一酸化炭素の場合で10secであった。
測定された経時変化に基づいて、水素ガス又は一酸化炭素ガスとの接触前における電気抵抗をR、水素ガス又は一酸化炭素ガスと接触した際の電気抵抗の最低値をRとして、下記式(1)によって算出される値を抵抗変化率とした。
(抵抗変化率)=R/R ・・・(1)
さらに、水素ガスに対する抵抗変化率と、一酸化炭素ガスに対する抵抗変化率との比(H/CO)を算出し、これを水素ガス選択性の指標とした。
(実施例2)
オキシ塩化ジルコニウムに代えて、塩化インジウム(関東化学社製)0.005モル(1.47g)とした他は実施例1と同様にして、Zn及びInを有する複合酸化物粒子を含む水素ガス検出材料2を作製した。次いで、水素ガス検出材料2の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で50sec、一酸化炭素ガスの場合で33secであった。このとき、水素ガス検出材料膜を形成している水素ガス検出材料2のBET比表面積は8.0m/g、理論粒径は134nmであった。
(実施例3)
オキシ塩化ジルコニウムに代えて、塩化ニオブ(関東化学社製)0.005モル(1.35g)とした他は実施例1と同様にして、Zn及びNbを有する複合酸化物粒子を含む水素ガス検出材料3を作製した。次いで、水素ガス検出材料3の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で130sec、一酸化炭素ガスの場合で45secであった。このとき、水素ガス検出膜を形成している水素ガス検出材料3のBET比表面積は5.9m/g、理論粒径は182nmであった。
(実施例4)
オキシ塩化ジルコニウムに代えて、塩化ランタン(関東化学社製)0.005モル(1.86g)とした他は実施例1と同様にして、Zn及びLaを有する複合酸化物粒子を含む水素ガス検出材料4を作製した。次いで、水素ガス検出材料4の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で20sec、一酸化炭素ガスの場合で28secであった。このとき、水素ガス検出膜を形成している水素ガス検出材料4のBET比表面積は2.8m/g、理論粒径は383nmであった。
(実施例5)
オキシ塩化ジルコニウムに代えて、塩化レニウム(Strem Chemicals社製)0.005モル(1.82g)とした他は実施例1と同様にして、Zn及びReを有する複合酸化物粒子を含む水素ガス検出材料5を作製した。次いで、水素ガス検出材料5の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で63sec、一酸化炭素ガスの場合で21secであった。このとき、水素ガス検出膜を形成している水素ガス検出材料5のBET比表面積は1.7m/g、理論粒径は630nmであった。
(実施例6)
オキシ塩化ジルコニウムに代えて、塩化イッテルビウム(和光純薬工業社製)0.005モル(1.94g)とした他は実施例1と同様にして、Zn及びYbを有する複合酸化物粒子を含む水素ガス検出材料6を作製した。次いで、水素ガス検出材料6の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で44sec、一酸化炭素ガスの場合で18secであった。このとき、水素ガス検出材料膜を形成している水素ガス検出材料6のBET比表面積は4.7m/g、理論粒径は228nmであった。
(実施例7)
オキシ塩化ジルコニウムに代えて、塩化ホルミウム(関東化学社製)0.005モル(1.90g)とした他は実施例1と同様にして、Zn及びHoを有する複合酸化物粒子を含む水素ガス検出材料7を作製した。次いで、水素ガス検出材料7の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で11sec、一酸化炭素ガスの場合で9secであった。このとき、水素ガス検出材料膜を形成している水素ガス検出材料7のBET比表面積は4.6m/g、理論粒径は233nmであった。
(実施例8)
オキシ塩化ジルコニウムに代えて、塩化エルビウム(純正化学社製)0.005モル(1.91g)とした他は実施例1と同様にして、Zn及びErを有する複合酸化物粒子を含む水素ガス検出材料8を作製した。次いで、水素ガス検出材料8の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で14sec、一酸化炭素ガスの場合で20secであった。このとき、水素ガス検出材料膜を形成している水素ガス検出材料8のBET比表面積は5.4m/g、理論粒径は198nmであった。
(実施例9)
オキシ塩化ジルコニウムに代えて、塩化ハフニウム(関東化学社製)0.005モル(1.60g)とした他は実施例1と同様にして、Zn及びHfを有する複合酸化物粒子を含む水素ガス検出材料9を作製した。次いで、水素ガス検出材料9の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で16sec、一酸化炭素ガスの場合で10secであった。このとき、水素ガス検出材料膜を形成している水素ガス検出材料9のBET比表面積は11.3m/g、理論粒径は94.8nmであった。
(実施例10)
オキシ塩化ジルコニウムに代えて、塩化ジスプロシウム(純正化学社製)0.005モル(1.88g)とした他は実施例1と同様にして、Zn及びDyを有する複合酸化物粒子を含む、水素ガス検出材料10を作製した。次いで、水素ガス検出材料9の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で20sec、一酸化炭素ガスの場合で18secであった。このとき、水素ガス検出材料膜を形成している水素ガス検出材料10のBET比表面積は3.0m/g、理論粒径は357nmであった。
(実施例11)
オキシ塩化ジルコニウムに代えて、塩化ガリウム(和光純薬工業社製)0.005モル(0.88g)とした他は実施例1と同様にして、Zn及びGaを有する複合酸化物粒子を含む、水素ガス検出材料11を作製した。次いで、水素ガス検出材料11の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で20sec、一酸化炭素ガスの場合で23secであった。このとき、水素ガス検出材料膜を形成している水素ガス検出材料11のBET比表面積は12.4m/g、理論粒径は86.4nmであった。
(実施例12)
オキシ塩化ジルコニウムに代えて、塩化アルミニウム(関東化学社製)0.005モル(0.67g)とした他は実施例1と同様にして、Zn及びAlを有する複合酸化物粒子を含む、水素ガス検出材料12を作製した。次いで、水素ガス検出材料12の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で20sec、一酸化炭素ガスの場合で19secであった。このとき。水素ガス検出材料膜を形成している水素ガス検出材料11のBET比表面積は17.2m/g、理論粒径は62.3nmであった。
(比較例1)
市販の酸化亜鉛(関東化学社製)の粒子をそのまま水素ガス検出材料13とした。そして、水素ガス検出材料13の水素ガス選択性を、実施例1と同様にして評価した。電気抵抗の経時変化におけるピーク幅(半値幅)は、水素ガスの場合で21sec、一酸化炭素ガスの場合で29secであった。水素ガス検出材料膜を形成している水素ガス検出材料13のBET比表面積は5.9m/g、理論粒径は182nmであった。
(比較例2)
酸化亜鉛(関東化学社製)8.48gを、酸化インジウム(関東化学社製)1.52g、ポリビニルアルコール(関東化学社製)及び水10gと混合して得たペーストを用いて、実施例1と同様にして、酸化亜鉛粒子及び酸化インジウム粒子を含む水素ガス検出材料14で形成された水素ガス検出材料膜を作製し、その水素ガス選択性を評価した。このとき、水素ガス検出材料膜を形成している水素ガス検出材料14のBET比表面積は0.42m/g、理論粒径は2.55×10nmであった。なお、水素ガス検出材料14においては、酸化亜鉛及び酸化インジウムそれぞれの粒子が混合された状態であり、複合酸化物は形成されていなかった。
実施例1〜12及び比較例1〜3の評価結果を、表1にまとめて示す。
Figure 0004608918
図1は、本発明の水素ガスセンサの一実施形態を模式的に示す断面図である。 図2は、本発明の水素ガスセンサの別の一実施形態を模式的に示す断面図である。 図3は、実施例1における、水素ガス検出材料の水素ガスとの接触による電気抵抗の経時変化を表すグラフである。
符号の説明
1…電気絶縁性基板、1a…電気絶縁性基板、2…水素ガス検出材料膜、3…抵抗体膜、4…拡散防止層、5…保護層、6…温度検出膜、7…絶縁層、10…基材、11…絶縁層、100,110,120…水素ガスセンサ。

Claims (6)

  1. Znと、
    n、Nb、La、Re、Yb、Ho、Er、Hf、Dy及びaからなる群より選ばれる少なくとも一種の共存元素と、を含有する複合酸化物を含む、水素ガス検出材料。
  2. 前記複合酸化物が、前記共存元素を、Zn及び前記共存元素の合計量100モルに対して0.1〜5モル含有する、請求項1に記載の水素ガス検出材料。
  3. BET比表面積が0.1〜100m/gである、請求項1または2に記載の水素ガス検出材料。
  4. 前記複合酸化物からなる粒子が、互いに連結して多孔質体を形成している、請求項1〜3のいずれか一項に記載の水素ガス検出材料。
  5. Znイオン及び前記共存元素のイオンを有する水溶液を、水酸化物イオンを有する水溶液に接触させて、Zn及び前記共存元素を有する共沈物を得る共沈工程と、
    該共沈物を加熱する加熱工程と、を備える製造方法で得られる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の水素ガス検出材料。
  6. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の水素ガス検出材料からなる水素ガス検出部と、
    該水素ガス検出部を加熱する加熱部と、を備える水素ガスセンサ。
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